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.. , ..

2007

:
..., ..

.., ..
: . :

, 2007. 287 .

210104
.

.., ..,
2007

, 2007

1 ...........................................................................6
2
..............................................................9
2.1
............................................ 9
2.2 ......................................... 10
3 ................................................14
3.1 .............................. 14
3.2 ...................... 23
3.2.1 ................................................................ 23
3.2.2 ................................................................ 27
3.2.3 ........................................................... 39
4 ,
.......................................41
4.1 .................................................................... 41
4.2 ........................... 44
4.3 ..................................... 50
4.4
()....................................................................... 52
4.5 ........................................................ 55
4.6 ..................................................... 56
5 ...........................................59
5.1 ......................................... 59
5.2 ..................... 67
5.3 ............................................... 69
5.4 .......................................................................... 71
5.5 ..................................................... 75
5.6 .............................................................. 96
5.7 .................................................. 98
6 ...................101
6.1 .................................... 101
6.2 .......................... 104
6.3 ............ 109
6.4 ......... 116
6.5 .................... 121

7 .....................................125
7.1 ........................... 125
7.2
................................................................................................... 126
7.3 - .................... 130
7.4
,
........................... 140
7.5 ................................ 141
8
.................................................................149
8.1. ............................................... 149
8.2 ............................................... 152
8.3 - . 161
8.4
.................................................................................. 168
8.5
....................................... 171
8.6 ....................................... 179
9
..................189
9.1 -
................................................................................................... 189
9.2 -
.............................................. 200
9.2.1 ............................................... 200
9.2.2
................................................................ 205
9.2.3 .... 212
9.2.4 -
.............................................................................. 215
9.2.5 ................... 217
9.2.6 .... 220
9.2.7 -, -
...................................................................... 223
10 .............................................227
10.1 ..................... 227
10.2 - ... 234
10.3 - ........ 236

11
(FEOL )....................................................244
11.1 ..................... 244
11.1 ...................................... 245
11.3 ..................................... 258
11.4 FEOL................................... 260
12.
(BEOL) ...................................266
12.1 ..................... 266
12.2 ....................... 269
12.3 .............................. 270
12.4 BEOL .................................. 273
......................................................................284
............................286

1

-
.
( ())
.
,

().

10 4108 3109 ,
25
8 .


( ,
, ,
. .),

(.
.1.1).

.1.1
: 1 - , Lg;
2 - , Xj;
3 - Xox


() , ,
, .

(3040 % ,
90 ),
.
,

,

.
:
1.
(,
Si (strained silicon));
2.
, ;
3.
Si ;
4.

(high-k dielectric);
5.
(low-k
dielectric);
6.
.

.
front end processing front end of line (FEOL)

(). back end processing
back end of line (BEOL)

.
FEOL BEOL .1.2.

. 1.2 -
FEOL BEOL
,
FEOL,
BEOL,
.
, ,

.

2000 ,
.

,
.

, ,
.
2, (5.5 5.4), 7, 9, 10, 11, 12,
.-.., ... . . 3,
4, (5.5 5.7), 6, 8, 9 ..., .
..

2.1

,


(The International Technology
Roadmap for Semiconductors1).

,
1200 , ,
, .
1999 ,

15 . ,
,
, ,

.
, ITRS

,
,
,

.
,
,

,
.
1

The International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS) //


http://www.itrs.net/

10

2.2

1965
Intel (Gordon
Moore).
,
.
.
,
ITRS ,
.
.2.1
. ,
1970 ,
.

:
1,52 . ,
.2.1, ,
,
.

, ,
.

(. . 1.1.).
,
2020 .,
14
,
6 .


11

. 30 ,
1970 ,
5 ,
10-7 .

.2.1 - (
) :
1 (
12 ); 2
Intel ( 24 ); 3
( 18 )

,
.
,
,
(), .

,

12

,
.

100 (
1975 .), 150 ( 1983
.), 200 (1987 .)
300 (1995 .). ITRS
450
2012 ,
2020 .
,
,

, ,
(system-on-chip, SoC).

,
(system-in-package, SiP).

. ,

.


, ,
.
, , 1979
64
3,0 100
, 1-
0,13 2001
440 21
. 30 , 1970 ,
3
.
. 1970 ,
2
2,5
. . ,

13

510 .
.

,

,
.

14

3
3.1


() :
) (
, , , ,
);
)
( , , ,
.);
) (,
).
, ,
.
. ISO 14644-1,

(ISO), ,

,
,
, , ,
, , ,
. ,
, , . ,
,
, . ,
-,
, .
,
,
, ,

. -,
,
. , ,

15

,

.
, ,
, .
3.1
.
3.1

0,01 10
0,01 1
0,1 1
0,1 100
100
0,1 1
1 10

1 5
100
1

16

3.1

0,1 0,5

1 100

0,01 1

1 100

0,1

10
1 500

1 500

0,5

17

3.1

(
..)

,
,
,

0,5

0,5

1,0

0,05

18

3.2
ISO 14644-1
.
N.
C n
:

C n = 10

0 ,1

2 , 08

N ISO, 9.
0,1N;
, ;
0,1 .

,
. , 4 ISO ( 0,2
) , 2370
/3 0,2 83 /3 1
.
3.2
ISO 14644-1

ISO

ISO 1
ISO 2
ISO 3
ISO 4
ISO 5
ISO 6
ISO 7
ISO 8
ISO 9

(/3
),

0,1
0,2
0,3
0,5
1
5,0

10
2
100
24
10
4
1000
237
102
35
8
10000
2370
1020
352
83
100000
23700
10200
3520
832
29
1000000 237000 102000
35200
8320
293
352000
83200
2930
3523000
832000
29300
35200000 8320000 293000

19


.
,
,
, -
.


.

.
,

.
(),
.
,
.

:
0,1; 0,2; 0,3; 0,5; 1,0; 5,0 %.

,
20 24 0.


: 3%; 5%; 10 %.

,
60 %.


.
,
.
,

.

20


.

.


,
,
.
. 3.1 ,
.

. 3.1

,
,
.
,
, (. . 3.1)

. , .
3.1 ballroom (, ),

21

.
1000 2. ,
.


. ,
, ,
.

, ,
,
,
(. .2).

. 3.2
:
; ;

,

.

, ,

.
,

22

,
.

.

, .
,
.
,
; ,
,
100 % .
(. .

3.2,
)

6%

7%
23%

32%
,

.).
32%

. 3.3
,
:
.
;

,
;
. 3.3,
, ,
,

;

;
.

,

. ,

23

, ,
..
.
3.2
3.2.1
270
.

,
( ).

,
.
,
, ,
.

. ,
, ,


.
,
.
.
, .
3.3 ,

,
.


, ppm (parts per

24

3.3

-




.

(CVD chemical vapour
deposition)
,
.


,
.
,
,

/
.


, .

. ,
,
. ,

,
,
.
.

25

3.3

.
, ,

(

.

.
.
.
.
.
.

million)
.
,

, ,
ppb (parts per
billion), , ppt (parts
per trillion). 109, 1012.


,
.
, ,
.
,
.

() (. . 3.4).

,
.

26

3.4

2.0
3.0
3.5
4.8
5.0
5.5
7.0


99,0 %
99,9 %
99,95 %
99,998 %
99,999 %
99,9995 %
99,99999 %

ppm
10000 ppm
1000 ppm
500 ppm
20 ppm
10 ppm
5 ppm
0,1 ppm
(100 ppb)

%
1%
0,1 %
0,05 %
0,002 %
0,001 %
0,0005 %
0,00001 %

:
;
7.0 (99,99999 %);
, ;
- .
9.0 (.. ).


:
1. ,
.
.
2. ,
.
3.
, .
4.
250 0 350 0.
5. , ,
.

, ,
, ,
. .

27

:
: 20 ppb
: 20 ppb
: 20 ppb

, , .

350 0,
,
.
, 400 0.
. ,
, ,
, -
() ,
. , ,
.

(, )
100 ppb.

,
, .
, , ,
,
.
3.2.2
,

. ,
,
,
.

28


99,5 %.
, ,
:



()



,
.
,
,
, , , , , ,
.
-
,
.


.
, ;
.

25 ( , ..
). . 3.4
m
.

, ;
18,27
25.
, 18 ,
N1 0,04 m.

29

, ;

.

. 3.4
ppm (NaCl
)

,
(..
)
,
.
,

, , .

-

.
,
, .

30

( )
0,1 .

,
, ,
.
, ,
, 500 m. ,

, 100 m, , ,

,
.

10 b, 5 b.

on-line




. ,
,

-,
.


() ,

.

,
, .
,
,
.
- -,
.

31

,
.


, .

( ),

, , ,
.
3.5
,
.
3.5

t = 25 0

0,1

(Na, K, Ca, Mg, NH4)


(F, CI, SO4, NO3, Br, PO4)

> 18,0
< 5 ppb
< 3 ppb
< 100 /
< 5/
< 0,1 ppb ()
< 0,1 ppb ()

3.6
.

, .
,
.

:
1.
()
, .

32

2.

, .
3.

,
,
.
3.6 -
:

()

,
. (,
) (,
) ,

,


,
(. 3.5, ).
, ,
,


, -
(.
3.5, ).

33

. 3.5

, . 3.5, . ,

,

() ,
, .
(RO Reverse Osmosis), . 3.6
.

. 3.6 -

34


. .
.
.

,
( )
. (
)
, 1 ,
-
, ,

.
() ,
, ()
92 % - 97 % 0,4 - 0,8
3/2 .

.
,

, .
,
.


.
-
,
,
,
, ,
(. 3.7).

.

35

. 3.7



.


. , RO 8 ,
98 - 99 %.

.
- Fe 2 + , Cu 2 + , Na +

2
NO 3 , Cl , SO 4 . : ,
, , .

R OH
: R H
, R .
3 5 .
,

36

, :

(R H + ) + M + (R M + ) + H +
,


,
.
:

( R OH ) + Cl ( R Cl ) + OH
:
2

2( R OH ) + SO4 (2 R SO4 ) + 2OH



:

H + + OH H 2 O

.
.
.
. 3.8 ,

. 3.8

37

.

, . ,

.

:
)
(
);
)
-;
)
;
.
)

)

)

)

)
-.

()


,
, .
,

,
,


()
(),

() () . ,

, ,
.

- -
() . , ,

38

,
,
, , ,
.
()
.
-
, ,
,
.

254
. ,
,
,
( ),
.
- ,
.
,
-
,
-

.



- 185
.

.

-
, .
, -
,

. -

39

,
, .


- ,
, . ,
, ,

.
,

0,1 .
,
, .

,

.
3.2.3

().

,
, ,
,
,
( ).


. ,
.
,
. ,
,
.

40

, (
).
,
.

() .
,
.

, ,
.

,
.

, .
:
,
, ,
..

: ( ),
- ();
;
- ; .


.

41

4 ,

4.1
,


.
,
( ),
.


:
1.
;
2. (
).

, .
,
,
p-n .

(
),
.
,
. ,
, ,

.
,
.
,
,
.

42


.

, ,


,
.


( ).
.

5-10 , .


. ,
30
1000 0 3000 ,
300 .
, .

( ).

.


.
, , ,
,
.

43

. 4.1 W,
,

.4.1

(.
4.2). 10 200 ,

.4.2

44

,
.


.
,

.
4.2

.



.
,

.
, ,
.

, , ,
, , , .
,
.
,
,
.

,
1 2 Si
GaAs. GaAs
,
As, Ga.

45

.
, ,
, ,
, , .

,
. ,

, , .

, ( ).

(, , , ),
.

, ,
.

.
,

.
, - ,
, , , ,
.
: ,
, . 4.1
.

.
. 4.3.

46

4.1

, ,

. .
, ,
.
.
,
.
,
.

47

. 4.3
,

.
,
.
3107 .

: ,
, , , , ,
, , -
.
.
. ,
.
.

,
,

48


.

.
80 100,
. 0,5 - 1,0 % - .
, ,
.

.
, , , ,
.
,
.

.
.

,
. 10 - 20
75 - 80 0.

.
,
, .
, ,
.
,

,
.

.

.

49

,
,
.

, ,
.
: ,

,
,
.


.
, , ,
, .

.
.

, ,
H 2 O + HCl + .

: - ( HCl : H 2 O2 : H 2 O = 1 : 1 : 4)
- ( NH 4 OH : H 2 O 2 : H 2 O = 1 : 1 : 4) .

.
-
.


1/3 .

.

:
1) 18 120 , 40 ultrasonic
.

50

2) 400 , 850 900


megasonic .

, .
ultrasonic

, ,

,
( 20 ).
100 .
,
,
.
. ,
, .
.
megasonic
(
).
.
6 3,3 .

.
megasonic
. ,

100 .
,

.
4.3


,
.

51

, ,
.


150 , ,
, ,
. Ar
189C, N2 196C.
,
. 45
.
,
.
, 1000
10000 .

, .
.

,
, . ,
.
.

.
,
,
, .

,

.
(. 4.4).

, ,
,
,
(, ).

52

. 4.4

(SiN, SiOC)
(SiO2)

4.4
()


.

( ) ,
, ,
.
, ,
.
.
,
, .

.

53


. :
, ,
.
,

(, 2) ,
, .
,
.
: )
,

. , ,

; )
, :
.
.
, :
, , ?
. ,
.
,
. ,

.
,
, , , ,

.

. 2 Cl2
(31 144 ),
,
.
: 239,9 .
,

54

, ,
.

, .
( 234 )
(CoCl2, KBr, KI).
, ,

, ,
. 2

.

,
, ..
.
2,

.
,
.
(. 4.5).
31 , 73,8 .),
, , ,
.
.
,
, ,
. 2
,
, , ,
.
2
:
CO2,
,
CO2,

55

CO2
.
CO2
low-k , ,
,

.

. 4.5 2

4.5

- .

56


- .
810-2 1,310-9 .

.
, .
,
.



.

.
.

, ,

.

, , .

,
.
4.6
:

,
,
..;
-
,
.

AIIIBV
,

57

.

.

.

()
.

(RCA):
: H 2 O : H 2 O2 : NH 4 OH .
.
: H 2O : H 2O2 : HCl .
.


:
- .

.
RCA:
NH 4OH ,
,
H 2 SO4 HF . HF

.
HF

.
HF SiO2
.

, HF :

.
,
:

58

Si H , Si H 2

Si H 3 .
773

.

673 .

:
SiO2
.

HBF4 .

,
. ,


.
:
H2
.
.


.

59

5
5.1
2000

.

, , , -
.
- ,
45 ,

.
,
,
, ,
LW.

.
,
( ,
,
) 1,41,8
.

:
LW = k1 / NA,
(5.1)
, NA
,
,
NA = n sin ,
(5.2)
n
,
. , n = 1 ,
, NA
1. k1

60


, , ,
,

Si .
k1 = 0,25.
k1
0,05 .

LW
, k1,
NA.
.

.



,
()
.


= 436 (g-), 405 (h), 365 (i-), 250 ( ).

: KrF ( = 248 , , LW = 350130 ), ArF
( = 193 , , LW = 9045 ( 32
)), F2 ( = 157 , ).

13 (
()).


1 .
,

61

, .5.1. , 90

. , ,
.

,
.

, 5.1,
k1. k1 0,8 1980
0,40,35 .
k1 0,30,25.
:

,


, ,

( )
( ) ;

.5.1 -

: 1 ; 2

62

. 5.2 - ,
:
;
,

, ,
(.5.2 5.3);


,
,
(.5.4);
,
;
,
,

.
,
,

63

.5.2 5.3. ,
,

. 5.3 - ,
180 : -
;

(.5.2, ). ,


.

, .

(.5.2, ). ,
, ,

, .
,
,
(.5.2, , ).

64

180
.

(.5.3, ).
,
d1 = / 2 (nf 1),
(5.3)
d1 , nf
.
( )


d2 = / 2 (ng 1),
(5.4)
d2 , ng
(.5.3, ).
,

,
. .5.4,
,
,
(.5.4, ). ,

.5.4 - (, )
(, )
() ()

65


.

.
.5.5
.


,
.

.5.5 -



, 5.1,
NA. ,

NA = 2 r0 / D,
(5.5)
r0 , D ,
, NA
.

66

, NA 0,5
1990 . 0,8 2004 . 0,93 .
NA .

. , , ,
, ,
1 , 0,5 1000 , . ,

. ,
LW,
NA3 ( ),
LW 1/NA.
5.2
NA ,

.


.

.
,
DF, ..

,

.

DF = k2 / 2 NA2 ,
(5.6)
k2
, 0,5.
,
.
,

(.5.6).

( 5.1. 5.6) , ,

67

.5.6 -

,
.
,
,
.
5.2

ArF 193
NA k1 (0,93 0,25,
) (5.1) 52 .

65 . 45
,
32
.

.
(
n = 1)
n >
1. LW, 5.15.2
n. , ,

68


n = 1,43662 ( = 193
21,5 ), LW 44 %
36 .
.5.7

, .
.

, .
.
500 -1,

,
.
-

.5.7
,
;
1

.
(
= 193 6 5 %),

,
.

69

.
LW
(, )
( n = 1,9).
,

, ,
, .
5.3
,

45
32 .
,
,
, ,
-,

-
.

,
Intel
32 ,
2009, IBM
22 .
,
, 13 .

, ().

,
. .5.8
.
,

70

.5.8 -
=
13 , ()
, ,

.


, .

,
.

.
, ,
Xe. Xe
Nd:YAG ,

CO2 .
,
.

,
Mo Si.

71


70%.
(.5.9),

.

.5.9 -
5.4
(imprint lithography) ,

,
.

.
,
, .

1041 , .

72

1436

.
(
)
-
.
,
. -
,
,
.
,
.
.5.10
, .



(). ,
,
, ,

.
( )
,
.

, ,
,

.

,
,

(.5.11).

73

. 5.10 -
,
:
,
,
;

;
,

;

74

,
, ,
, ;
( ,
22 );

.

. 5.11 - ,
,


.

75

5.5


() .


.

= h / 2 m e U 0 ,

(5.7)

h ;
m, e ;
U 0 .
, 15
0,01 , ..
-.
.


.
( )

( ).
- ()
(,
) (
, )
, .
,

,
,
.

76

6 ,

.

.



.
. 5.12.

. 5.12 -

77


. ,
.

,
.

,
.

1 40 2.
, .
0,1
22 .
,

.
2-5 /.

0,251 .

(25)
, 0,51 (. .
5.12).
4 .
4 .
, ..
. l
b t,

t = n t + t ,
n (lb)
;
t
;
t .

78

, ,
.
,
50 %
.

, ,
,
76, 100, 150 200 .

, ..
.
-
,
. .
, (),


. .


.
,


.
,
,
jmax j
eU 0 2
sin ,
jmax = j 1 +
kT

U 0 ;
;
k ;

(5.8)

79

T .
(5.8)

jmax = jk
jmax =

e U 0 2
.
k T

(5.9)

4I 0

, I 0 , d G
d G2
. ,
,

1/ 2

1 4k T I 0

d G =
e j U 0

(5.10)

(5.9)
jmax .
.
jmax , j U 0 .
j ,
.
U 0 2040 .

.
, B
, ,
j
.
.. B = max
2
U, .

.
, ,

80

B=

1 e j U
.
k T

(5.11)

B [A / 2 ],
.
,
j ,

T
U. (5.11)

1 I0
dG =
3,08 B

1/ 2

(5.12)

10
10 12 A, 10 1 104
.
. ,
() ,
.

.
28003000 .
.
10

3000

5 10 / 2 .

(LaB6 ),
110 .
:
4

81
2

100 / 2000 , 10
/ 2 10 .

0,11,0 . 100 A / ,

10
/ 2 .
.

.


.
1,63,0 , LaB6
23 0,31,0 . ,


.
.
.

.

, .

,
.
d
.
n
d ~ C , n = 1, 2, 3.

.

.
.

82

,
, (. 5.13).
.

( )

. 5.13 -
,

ds =

1
Cs 3 ,
2

ds ,
(5.13)

Cs ,
f C s = K s f ,
0,5 < K s < 1,5. , C s
.
,
.

83


, .
, , ,
(. 5.14).

. 5.14

d c = C c U / U ,
C c = K c f ( K c = 0,75 1).
U U
,

(5.14)

U / U = 103 105.
,

84

.
,
, .

H , ,
.

dc

dc = Cc (2 H / H U / U ). ,

H / H
U / U

dc ,

.

Cc . C s Cc
,


.
10
40 . , ,
.
.
(), ,
d d = 0,6 / .
,
. (5.7)

0 ,6
h
dd =
.
(5.15)
2m e U
,
d m
,
.

85

.

(5.12 5.15)
1 I
0,36 h 2 6 1 C 2 + 2 (C U / U ) 2 (5.16)
s
c
d m2 = 2 0 +
+

4
3,08 B 2m e U


.
,

.
(5.16) ,

1/ 8

I0
.
opt =
2
2,31 B C s
= opt

d min = 0,79 ( I 0 / B)3 / 8 C1s / 4 ,

(5.17)

(5.18)


2/3
j = 1,94 d min
B / C s2 / 3 .

(5.19)


.

.
,
, ..

, .. .
,

.
, ,

86

(
).
,



. ,
.

. ,
,
.
,
S

S = jt ,

j ;
t ( ).

,
- . ,
,

S .

,

20 (4 8) 105 / .

= [lg ( S / S )]1.

87

0,9 1,0, 2 3.
> 1.
:
M = 106 ; = 1,2 / 3 ;

Z = 3, 6.

S =

5 105 / 2 E = 30 ,

S = 10 5 10 7

/ 2 E = 20 30 .

,
-
. h
d M (. 5.15).
, ,

( 1).

1 2 ,
x = h

( 2).
;

( 3). ,

bmax = d + 2y,

y .
y

.
-

,

88

Q (/ 3 ). Q

Q=

dE
1
jt ,
dx
e

(5.20)

dE / dx ;
e .
dE
(5.20)
j x.
dx
,
(. . 5.15),

t
dE
Q ( x) =
(5.21)
j ( x) ,
e
dx
(5.21)

dE j ( x) j0t dE j0t
,
Q( x ) =

dx j0 e dx e

(5.22)

dE j ( x)
dE



=
dx dx j0
.


. dE

dx


Z +8 x
5

4
3 2 e 4 R -

Z ;

dE

dx

E0

=
R -

x
1
R -

(5.23)


89

E0

j0

0
1

dE

dx

dE

dx
dE

dx

E0
R

. 5.15 - ()
()
R -

90

E2
R - = 0

(b1 )

(5.24)

b1 ,
Z.
(5.24) R - ; E0 ;
/ 3 ; b1 2 -1 2 .

b1

13 79 2,1 106 2,54 106 2 - 2 .


dE
(5.22)(5.23) ,

dx
x , dE

, ,
dx
x = R - (. 5.15).

x = 0 . 0

R -
Z 0,2 0,3.
E
dE
= 0
x = 0. dE

dx max
dx
R -

( )
(dE dx)0

1,51,7.


dE
.
dx

Q(x)

E
S
b S
dE j0 t
Q0 =
= 0 0 = 1 0,

R - e
E0 e
dx 0 e
(dE ) x = 0;
dx
0

S0 .

(5.25)

91

Q0

(dE dx)0 ,

(5.25)

S0 =

Q0 e
= j0 t .
dE
dx 0

(5.26)

(5.26)
.

Q0

10 1 / .
h


y1
y1 = h .

4 N0 h Z 2 e4
4 N 0 h Z 4 / 3 e 4 a0
,
= 2 4
ln
m V0 (4 0 ) 2
V02 (h) 2 (4 0 ) 2
2

N 0 ;
h ;
V0 ;
0 ;
a0 ;
h - .

, ..

E0 .

92

y1
,

.
100 .

,
,
y = h

E 0 Q0
1,
E h Q

Eh , h;

.
Eh

.
Eh = E0 1 h
R -

= ( Z 8) /(2 Z ). ,
, 0,2 0,4.
Q0 Q
28.

.
,



.
,
-
.
,
.
,
.

93


, ,
. ,
d
S
j0 , t = 0 .
j0
, S0 = = 8 10 5 / 2
S0
, .. 5 1014 / 2 .
e
S0 , , ..

. S0 = 10 7 / 2

= 0,1 0,1 2
S A
N e = 0 , .. 6 109 . ,
e
A = = 0,01 0,01 2 ,
N e 0,6 .
,
, ,
,
N min = 200.
bmin

(bmin )2 = N min e .
S0

(5.27)

(5.27) ,

,
,
.
,
,
, .

94

- ,

,
.
, ,
-
(5.19).

2

S
S0 C s 3
t = 0 =
.
j 1,94 d 2 3 B
min

(5.28)

(5.19) ,
t,
S0 , B
Cs .

T = n t , n
.
,
,

.
, ,
.

.
,
(. 5.16).
: I
S = j t , II
(3.21), III
,

, IV (3.13).
P I,
.

95

IV

B2 > B1

t1

P
t2 P

Cs 2 < Cs1
B2Cs 2
B1Cs1

P
t3

P
S

III

II

. 5.16 - ,

-
,

. ,

15 .
12
, ,
, ..

-
,
() .

96

,

,

. ,

.


.
5.6


.
- -
,
, ,
.

.
,
, ,
,
, .
,

, .

.
, 60 ,
0,4
0,1 .

0,1 1,0
.

97

d

3

16 I 8
2
d = s 3 2 0 ,
3 B

B ;
I 0 ;
s
.

B = 105 106 A/ ( 2 ).

( I 0 10 9 10 10 A)
35 .

.

10
2
B > 10 A/( ).
, 0,1
.

.
. -,

. -,
, ,
, .

.
-

y1 = h M 2 / 3M 1 ,
h ;
M1, M 2 .

98


y .
, y


y 2 = y12 + y2 .

y = kh,

k .
k

Z1 3 M 2
2

3
k = M 2 / 3M 1 + 8 a N 0 2

Z 23 M 1

a ;
N 0 ;
Z1, Z 2 .
,

y1, y .

5.7

,
,
, = 0,5 2
.


-
.

99

-
;
- , ,

;
-
.

(. 5.17)

,

. 5.17 -


.
5 6.
4 3
7 2 1,
. , ,

100

.


(~1,3 ),
.

,
.
20-30 .
,

,

.


, .

max = SD /(2 R). ,
-
.
, .. ,

= Sd / R.
d 1 , S 10 R 50 .

,
,
. ,
, , ,
, -
.

101

6
6.1

( )
(, )
,
.
.
. 6.1.
2
3

. 6.1 - :
1 ; 2
; 3 ; 4

.
U .
.

.
R :

R=

m
,
qB

m
;
q

B .

102

,
2qU
v=
.
m
, R
(m/q) .
( ).
:
50300 , Q 1013 1017
/2.


. q
U

E0 = qU .

q = ne, n
, n = 1, 2 3;
e .
+: 31p+
, 31p++, 31p+++. 31
.
, , , 14 N 2+
14
28 BF2+
. ,
,
. ,
M1,
M ,
M
E1 = E0 1 .
M
(D)
j t: D = j t [/ 2 ]. D
,

103

,
:

Q = D / q = jt / en [/ 2 ].
()

.

.

()

,
.
. ()
,
.


.

( )

, (
).

, , ,
. .
, ,
,

,
,
. E 0
M1, Z1
,
. 6.2. ,
, R .
,
R p 1 , R p 2 , R p 3 .

104

y
R3

R 3

R 1

E0, M1, Z1
R

Rp

R1

R p1

Rp3 Rp 2 x

R2

. 6.2 -

(
),

R p

R p .
R
( ).

6.2

,
, ,
().
:
1) , ,
,

( );
2)
( );

105

3)
,
.

dE dE dE
=
+
= N 0 ( S + S e ),
dx dx dx e

(6.1)

dE / dx
x x + dx;
S , Se
,
1 dE
S =

;
N 0 dx
1 dE
Se =

.
N 0 dx e
S Se
,
()


x x + dx.
(6.1)
R
E

R=

1 0 dE
.

N 0 0 S + Se

(6.2)

(6.2) , ,
S Se ,
.
. S Se
, Z1 M1 ,
Z 2 M 2 .

106

R
-.
,
()
M 2 E0
=
= F E0 ,
(6.3)
Z1Z 2e 2 ( M1 + M 2 )
a .

1 / 2

= 0,885 0 Z1 3 + Z 23
,
(6.4)
a0 , 0,529 10 8 .
M1M 2
= 4 2 N 0 R
= L R.
(6.5)
( M1 + M 2 ) 2
F L
.
,

d
d
.
S = ; S e =
d
d e
(6.1)

d
= S + S e .
d

(6.6)

1 / 2 (. 6.3).

, S (d / d) 1 / 2
, .. . ,
1 = 0,35,
, ..

107

, ..
.
S = 0,327
S (1 / 2 ) (. . 6.3).
Se

0,4
0,3
3

0,2

0,1

2
1

1 / 2

1/ 2
. 6.3 - :
1 ;

2 ; 3 S


d
= A1 / 2 ( B + ),
(6.7)
d

A = 0,45; B = 0,30.



dE d E
(6.8)
.

=
dR d R
.

,
, .

108

, S e

S e = k1 / 2 ,
1

k = Z 1 6 0 , 0793

(Z

Z1 2 Z 2 2

(6.9)
3

(M 1 + M 2 )
3
1
M 1 2 M 22

.
3
2
4
3
+
Z
1
2
,
, ,
2

. 1 / 2
k ,
, k = 0,10 0,25
Z1 > Z 2 , Z1 < Z 2 , k > 1.
S Se , < 1
, 2

> 2
.
Se

dE d E
.
(6.10)

=
dR e d e R
..

d =

d
+

d e

(6.11)

(6.7),
(6.9)
(6.11)

109

1 / 2
2 1/ 2
2A

arctg
,
(6.12)
1/ 2
k
A + B 1/ 2
k2 A + B
k
k
arctg .

(6.5) R = / L.

=

R = Rf 1, f


,
f =1+

M2
3M 1

,
,

, ..

A

.
= ln1 +
A +B
k
k

6.3


,
.


. III V Si ,
p n n p
.
,

(. 6.4).
SiO2 , ,
SiO2 .

110

+
x =0 0

Si-n

Nx

Rp

Si-p

xpn

. 6.4 -
p-

R =
2

R2
2

R R ,
N ( x)
(x R )2
(6.13)
,
N ( x) =
exp
2
2 R
2 R
x
.
N max = Q

2 R
Q

R . 2, 10
100 N max
x2 = R 1,2R ;

x10 = R 2R ;

x100 = R 3R .

111

p n
(6.13) N ( x),
N ,
. ,
Q
(6.14)
.
x p n = R R 2 ln
2 R N
. R R
,
,
R , .. ,
x . M 2 / M1 << 1

M2
.
R = R
3 M1

R ,
R . ,

,
. ,

2a 2b,

N ( x, y , z ) =

(x R )2

exp
2

R
2

2 R

1
ya
y + a
erfc
erfc

4
2 R
2 R

erfc z b erfc z + b ,
(6.15)

2 R
2 R

erfc
.

112

a, b >> R N = 1 / 2 N max .
( >> R + 2R )
2 a y
,

N ( x)
ya
y+a
N ( x, y ) =
erfc
erfc
, (6.16)
2
2 R
2 R
N ( x)
.

.


, , SiO 2 ,
Al2O3 , Si3 N 4 ,
.


. R1
R1 d1 R2 R2
.
N 1 ( x) N 2 ( x)

x R1 2
Q
, 0 x d1 ;
exp
N1 ( x) =
2
2 R1
2 R1

N 2 ( x) =

{x + (d1 R1 ) R2 R1 )}2
, x d1 .
exp
2 R22
2 R2

113


.

,

, ,
K ,
.

h=

Q K ,
,
N0

K , /;
2
Q , / ;
N 0 , / 3 .


x R + (Q K N 0 )
x R
N
, (5.17)
N ( x) = 0 erf
erf
2 K
2 R
2 R
erf .
erfc

erfc( x) = 1 erf ( x).


.

N ( x) =

x R
N0
erfc
2 R
2K


( x = 0).

114


Q,
N 0
K.


.
, ..
,
. , ,
, ,
<100> , ,
( ).


, ..

N ( x) =

R
N0
erfc
2 R
2K

E0 2 .

,
.
,
,


:
) E0 > E

e 2 Z1 Z 2
=
2 0 E 0 d hkl

2
.

115

E =

e 2 Z 1 Z 2 d hkl
,
2 0 E 0 a

d hkl
h, k, l;
a -;
) , E ,

2
e Z1Z 2
=
2 0 E 0 d hkl

2
Ca
,
2 d hkl

C 3.
,
E0
, ,
.
.
. 6.1 d hkl
A
& ,
. A = 3,57 A
& , A = 5,66 A
&,
A = 5,43 A
6.1 -

d hkl

100

110
A

2
2

111

3
4

3A

(100)

3
4

A 2

(110)

(111)

A4 2

A4 3

:
1) ,
>

..

116

,
;
2) ,
.

, ..
, ,
;
3) ,
< ,
.

,
.
,
, , ,
.
,


-
.
.

.
,
.
,
R .
6.4

, ,
.

117

,
.

, ,
,
E , .
,
().
,

,
. ,
,
, .
, ,
, ,
,
.
,
().

,
, .
,
, .


, .
, ,
,
,
.. .
(
). (
)
.

118

.
,
. ,

,
20 %
.

,
.
E ,
E
(6.18)
N = 0,42 ,
E
E ,
;
E =9,4 GaAs 14,7 Si.
.. E
E
A
FE0
ln 1 +
.
kF A / k + B
E 0 > Ec ,

.

E =

N =
Ec =

( A kB) 2

10 3 ( E 0 E c ) + 0,5E c
.
E

(6.19)

.
k 2F
Ec
,
S
Se .

119

(6.18) (6.19)
, .
Q N Q.
N D ( x)


xR 2
N Q
D
N D ( x) =
exp
.
(6.20)
2 R2D
2 RD




RD = C1R ;
C1
M1 M 2

RD = C2R ,
C2
(. 6.2).

6.2 C1 , C2
M1 / M 2

M1 / M 2
C1
C2

1/10

10

0,82

0,85

0,83

0,80

0,81

0,87

0,93

2,24

1,58

1,20

0,95

0,88

0,82

0,77

RD < R , ..


.

( ), ( )
R .

120

(6.20)

ND =

N Q
.
R

(6.21)

(5.18), E S R , (6.21)

S Q
N D = 0,42 .
E

(6.22)

,

.
QA
() N D
, ..

. , ,

( ).
N E
(6.23)
Q A = 0 .
S

. ,

. ,
, 1000o C.
( 10 .
)
.

121

N ( x, t ) =

(
x R )
, (6.24)
exp
1
2
2 (R2 + 2 Dt ) 2
2 R + 4 Dt

D ,

;
t .

D = D0 exp( E kT ),
(6.25)
D0 ,

E ;
k ;
T .

6.5


:
, ,
.

,
,
-.

-.
- . 6.5.
-
.
.

.
.

122

,
, .
p+
5

n+

n+

Si-p

. 6.6 - -:
1, 2 ; 3 ;
4, 5 ; 6

. ,
,

.
,
.

,
, SiO2.

, 6.3.

.
p-n
, .

.


.

123


. 200 /.
, , 20
200 /,
10-2 2, , ,
.
,
.
+ n-, +
p-. SiO2
0,1 .
.

10 / 100 /.

.

.
. SiO2
0,1 ,
.
.
(6.13),
(6.24).

p-n .
n+ ,
,
.
, , 50
0,03 .
,


900o .

124

BF2. BF2


MB
E = 11 E .
EB =
M BF 0 49 0
2

E0 = 50
11,2
0,03 .

.
, ,
.
.
R p + R p . (
) ,
Si-Al
0,0050,1 .
,
10
.
52021 -3 10-6 (1 )
5102110-6/10 = 51014 -2.
.

125

7
7.1

,

,
. .
, 1974 .

,
.
,
,
,
.

, Sony

-
,

.
,

.

,
,
( 1020
). ,

.
- .

126

7.2

,
,

- (),
,
,
, .

,
, ,

-
.
,

.
()
,

,
300 1400 ,
50 300 -1.


.

.
,
,
,

127

(. 7.1). ,

(. 7.2). ,
,
.
, ,
,
. ,

, .

. 7.1 - :


, . ,
, ,
.
,
.

.
:
(t, )
(t1, );

128

. 7.2 - :

(dT/dt,
-1);
(, );
(Tmax, );
(dT/dt, -1);

;
(W, -2).

.
W

. ,

, t1,
Tmax, :
t1 = p {ln[(Tmax +T)( Tmax - 0)] - ln[(Tmax -T)( Tmax + 0)] +
(7.1)
2[arctg(T/ Tmax) arctg(T0/ Tmax)]}/8 (Tmax)3,

Tmax=[(W+204)/2]1/4

, ; p

;
;
- ; W
. . 7.3

129

. 7.3 -

, (7.1).
, Tmax
.
t1
Tmax,
.

,

, .
,
,
. W

.

130

.


( ),
.

.
-
,
.
, .
,

.
,
,
.
7.3 -

-

.


. ,
,

.
,
.
,
, :
(, / ))

;

131

,
(n, -2)
(n, -2);
(, 2 -1 -1);
(x, )

(x, );

.
,
.
.


.

,
(
)
.

.
(As+, Sb+) .

,
.


,
.
,
.
.
(, ,
), "
".

132


-
.



.
-
.
, ,
.
. ,
,
.
Si
. 7.4.
,


.


,

. 7.4 -
Si; I , II
, III , IV
, V

133

.
.
,


.
,
.


450 .

: 1)
; 2)
.

,
.
.
(100) Si

- V.

, V

V = V0 exp(-E/kTs),
7.2
V0 , E
, k , Ts
.
(011)
(111) .

E 2,7 .

. V (100)
25 V (111)

134

.
V V,
1 . %.


0,5 1 .

- .

.

:
- , ,

.

.
.


.
,

( ).



.
.

.

.

135



.

,
.
,

, .


-,

.

-. As,

,
:
(7.3)
3 As + e- As3++ As3.
As
V0 :
(7.4)
2As + V0 + 2e- As2V0.

: P, Sb B.
.
,
,
, .
.


( V I,
),
-.
,
. .

136

, III V
.

,
, ,

.
,
, ni,
, .
,
1020 -3, -
, , , -
,
.
"" ,

, -
.

, , ,
.
- .
,
.


.


.
.
,
, -:
, ,
.

.

137

, . , ,
.
.

.
DS(n)
, , -
- (I +, I 0, I
, I =, V +, V 0, V , V =):
DS(n) = (DSI0 + DSV0) +
S
eq
+ {D I+ [ CI+ (n) / eqCI+ (ni)] + DSV+ [eqCV+ (n) / eqCV+ (ni)]} +
+ {DSI [eqCI (n) / eqCI (ni)] + DSV [eqC V (n) / eqCV (ni)]} +
+ {DSI = [eqCI= (n) / eqCI= (ni)] + DSV= [eqC V= (n) / eqCV=
(ni)]}, (7.5)
S
S
S
D I0, D V0, D I+, DSV+, DSI, DSV, DSI=, DSV=

, eqCI+, eqCV+, eqCI, eqCV, eqCI=,


eq
CV=

r
n ni . ,
eq
CIr (n) / eqCIr (ni) = (n / ni) r
eq
CVr (n) / eqCVr (ni) = (n / ni) r
(7.6)
(7.5) :
DS(n) = (DSI0 + DSV0) + (DSI+ + DSV+) (n / ni) +
+ (DSI + DSV) (n / ni) + (DSI= + DSV=) (n / ni)2. (7.7)

,
( ),

:

,
""

,
.
.

138

80 . ,

,
.

. ,

.

,
( ,
,
, , , ),
,
.

.

).

(
,
,

.
P, As, Sb B

, -
. ,


. ,
.
, ,

.

139

,
P+, As+, Sb+, .


,
,
.

,
.
,
.
.7.5

. ,

.

. 7.5 - () ()

140

7.4
,

,
,
(, , )
.
.
(1,25 )
(SO2 SiON)
.

.
,

.
,
, .
SiO2
, SiON,

.
SiO2,
.
9001100 .
NiSi

.
, ,
,
,
400

141

450 . NiSi
Ni 10 ,
.

(Si Ni) NiSi,
, . . 7.6
NiSi

. ,

.

. 7.6 - NiSi
; 1
0 , 2 30 , 3 60 ;
Ni 10 , TiN

7.5

142

: ,
.

,
, ,
. ,
, ,
,
,


( - ).

.

( ). ,
,
, .
,
(. 7.7, ).

().

.
,

(. 7.7, ).

. ,
, ,
. ,
(. 7.7, ).

,
.

143


(thermal budget),
.. ,
.
,

(. 7.8).
,

Si , .

. 7.7 -

Y

144

. 7.8 - Si
,


,
. ,
,
.
.
1. (spike annealing)
,
.
. 7.9, ,
.
2. (flash annealing)

( 600 ), ,
,

145

,
.
. 7.9, .

, .

-.
3. (laser thermal processing)

(. . 7.9, ).


.
- ,
.
,
,
( - ),
(0.52 -2),

1)

2)

. 7.9 - - (1)
Si (2)
;
, ,

146


(110 ).

.

. . 7.10
Si

, . ,

.
:
,

,
, ;

, ,
;

,
.
:

,
, ;


.


.
4. ,

(laser thermal annealing), ,

147

, . 7.11,
,
,
.

. 7.10 -
Si Ge
5 (), ()

148

,
/
22

5
++

1000

++

++
++
+ + + +
+
2

100
45
90

10
0

10

20

30

40

50

60

.7.11

: 1 ; 2
; 3 ; 4 ; 5
ITRS

149

8.1.

-

- () .


.

, ,
-.
,
, -.


(),
,
.
,
.

,
.
,
, ,

,
. .
-, ,
,

,

,
-

150

. ,
,
, .
,

.
, ,

. 2,
b
b (. 8.1). ,

. 8.1 -
-
.

,
(. 8.2, ).
,
,
.

, ..

151

, ,
(. 8.2, ).

. 8.2 -
() ()
, .. ,
, , .. =
d. ,
, ,
, . 8.2,
. ()
A = V / V , V , V

.
,
,
A = d / , d ;
.
,

, = d = 1.
< 1.
0,2 , 1

bmin , 2,2 = 1.
,

152

.
, b = 0,2 d = 1 = 10
bmin = 0,4 , = 100
bmin = 0,22 . ,
.
, -
. ,
,
. ,

() ,
.

.

.
,

, ,
,
.
8.2

()
,
:
,
,
.

,
, ,
.
K = N / N ,

153

N () ;
N , .
() E0
M1
.
M 2 ,
( ) E ,
,
.
,
. ,
, ,
E , .
, .
E

. ,
,
Emax =

4 M1M 2
( M1 + M 2 ) 2

E0 .

E ,
.
E
,
.
,
.
, .

2 E .
, ,
.
4 E . ,
,

154

, 4 E ,
.. E = 4 E .
, ,
. , ,
, ,
. ,
,
,
, .
,
E ,
.
E0 > E ,
E .


. E ,

( M1 + M 2 ) 2
E =
E .
4M1M 2
E0 < E
.

,
. ,
-
.

.

( )
,
.


.

155


(0,55,0) .
E0 < 0,5
.

, ,




1 10 .

.

, , .
, ,
.
E0 < EA ,
,
.
E0 > E

( ).

E < E0 < E

EA = 2 ER Z1Z 2 ( Z12 / 3 + Z 22 / 3 )1 / 2

M1 + M 2
,
M2

E R = 13,5
( ).

156

E = 4 ER2 Z12 Z 22 ( Z12 / 3 + Z 22 / 3 )

M1
.
M 2 E


lg E / E 1 / 2

2 / 3 E
,
K = p N0
1 +

lg2
4 E

p
, ,
E .
p E .
, E0 > E ,

E
M1
= 4a02 Z12 Z 22 ER2 1
,
Emax M 2 E0 E
a0 ;

E =

Emax E
E
ln max .
Emax E
E


EA < E0 < EB

p = a 2 , E = E

EB 4 E 2
ln 1 + 2 .

E
EA


(6.4).

E0 < EA

= a 2

E =

EA
,
2,72 E

1
( Emax + E ).
2

E
= 1
Emax

T ;

157



E0 > EB .


M1 / M 2 .

1,5
.


.

E0 E

3 M 1M 2 E
,
K= 2
( M 1 + M 2 ) 2 2 E

(8.1)

,
M 2 / M 1 (. 8.3).

0,5

0
0,01

0,1

2 / M1

. 8.3 -
M 2 M1
E

158

E = 515a 2 Z1 Z 2

M1 + M 2
, .
M2

E0 > E

K = 4,2 1018

(E) ,

(8.2)

2 E

( E ) .

:
Z1Z 2 e 2 a M 1
( E ) = (M + M ) (),
1
2
0
0 ;
() ,
(. 6.1).

4 0 M 2 aE0
( M1 + M 2 ) Z1Z 2 e 2

8.1 -

0,002
0,004
0,01
0,02
0,04
0,1
0,2

0,120
0,154
0,211
0,261
0,311
0,372
0,403

0,4
1,0
2,0
4,0
10
20
40

0,405
0,356
0,291
0,214
0,128
0,0813
0,0493

159


.


E , (0,30,5) .
0 > E
.

M1 Z1 ,
.
0 (
) 5070
.

() = (0) / cos ,
(8.3)
(0)
.
(8.3) ,
.
,
,

. ,
,
1 / cos .
5070 90
-
.

,
,
.
V V = d / t , d
( ); t
.

160

,
N N 0
N
V = . N
N0
j, (
):

N = j / ne.

. V = jK / N 0 ne.



V ( ) = j ( )K ( ) / N 0 ne ,
(8.4)
K ( )
;
j () - , .
, V
j .
j () = j cos ,
(8.3),
(. 8.4:
, 50o ). ,
,
0 40 50o ,
,
(8.3), j .

161

V , /

2,0

1,0

0
;

30
;

60
;

. 8.4 -
j = 1/ 2 0,5
8.3 -

-
,


. -
()

,

.
,

162

. ,
.

.
-
.
> 0o ,

(. 8.5, ).

max ,

. 8.5 - :
;
;
;

163

(. 8.5, ). ,
, ,

(. 8.5, ).


,
(. 8.5, ).
. 8.6
.

d ()

= d () / sin .

(8.5)

b
b

b1

d (0 )

d ( )

d (0 )

. 8.6 -


, , ,
,

164

d () V. () cos
K ( )
=

=
cos ,
o
d (0) V. (0) cos 0
K ( 0)

V. () ,

V. (0)

(8.6)


;
K (), K (0)

.
d () (8.6) (8.5),
K () cos
= d (0)

.
K (0) sin
, d (0)/ d (0) = K (0) / K (0) tg = d (0)/ ,

K ( ) 1
K (0)
(8.7)
tg =
= d ( 0)

;
tg ,
K (0) tg
K ( )

K (0)
.

K () = K (0)/cos , (8.7)

K (0) 1
K ( 0)
(8.8)
= d ( 0)

,
tg =
sin .
K (0) sin
K ( 0)
(8.7), (8.8) ,



.

K ( ) 1
b = d ( 0 )
.
(8.9)
K (0) tg

165


max .
max ,
, .
,
, = .

(8.9), .
b
, d (0)
K ()/K (0) . ,

,
- .
.
,
423 ,
.

. -
( )
( ),
.


A ,

A
S :
A = V. (0) / V. (90);
A = V. (0) / V. (90);
S = V. (0) / V. (0),

V. (0), V. (0), V. (90), V. (90)


()
( ).
(. 8.7),
V. (90) ,

166

V. (90) .
S > / .

.8.7 -
V. (90) < V. (90)
-

,
(, SiO 2
CF4 ).
S > A /

- (. . 8.7):
tg = d / = A ; = d / A ; b = b + 2 d / A , (8.10)
(8.10)
,
.
-
,
,
(. 8.8) S A / .

167

. 8.8 -

A /
S


V. (0)
V. () 1
tg =
,
(8.11)
sin ; = d

V. ()
V. (0) sin

V. () 1
b = b + 2d
.
(8.12)

V. (0) sin

20. , Ti Al,
,
310
10 2 .

,
.

.

168

.

.
-

V () = V (0)cos .
(8.13)
(8.13)
(8.11), (8.12) ,

tg = S tg ; = (d / S )(1/tg );
(8.14)
b = b + (2d / S )(1/tg ).
(8.15)
(8.15)
,

. (8.10) (8.14), (8.15)

,
-
,
.

- ( = 10100)

, 0,1 . -
-
.

8.4

169

90o ,
,

.

,
,
-
.

. ,

K K ,
d
K
d = d .
K

:
();

(, .).

( ),
V. / V. .
d
d , 0,51,5 .

.

( 2. , 2 , ),
.


10 4 .
,

170


.
423473 .
.
,
.

, , , , ,

.

,
(,
, , .)
(, .). . 8.2
,
: 1,0
, 1,0 / 2 ,
6,6 10 3 .
8.2 -


SiO 2 ()

SiO 2 ()
KTFR
AZ1350

,
/
36
260
42

,
/
44,4
32
30

38

32

39
60
84

66
40
20

200
160

20
13

171

. 8.2 ,
2040 /,
,
. (,
) ,

.

(),
.
8.5


,
( 10100 ) , ,
.

,
, ,

. ,
,
:
,
. ,
100 800

, ,
800
10 10. ,
-
110 , 109

172
1012 -3 , 0,050,1 ,

0,1-500 1013 1017 -3.




,
.
, ,
,
.
, , ,
,
, .
, ,

: ,
, ,
, . ,

(

, ,

() () .

,
(
),
,

,

. ,
,
,
.

,
-

173

,
.
()
()
-.
:
;

;
;

;
.



(, )
.
, ,

,
.

,
, , ,
. () ,
,

.
CF4 .

1
100 3 / .
3

1000 / .

174

.


,
.
,
,

.
,


(. 8.9).
V ,
. .

2
3

4 Q, . .

. 8.9 -

: 1
; 2 ; 3
; 4


, , ,
, ,

175


.




,

.

(
) .
,

,
.

, 673 ,
-
373423 .


:
1) << .
,

, . ,
,
=1529
. ,
, , , , . ,


,
, >> .

176


, ;
2) .
, .

,
(..
).
.

.
(),
.
. , CF4
, ;
3) >> .

.
,
.
,
,
.

(
).


,
(, ,
.).

177

,
,
( )
,

,
.
(
)

(, , , ,
- .),
, ,

.

:
,
.
,
.
,

.


.
-

() . :
1)
CF CCl x ( = 1, 2, 3)
;
2)
;
3) ,
;

178

4)
.

-
. ,

, ..


.


.
F/C, CF4
F/C = 4. F/C


, SiO 2

Si Si 3 N 4 . ,
F/C, , C3F8
CF4 : C 2 F4 = 1 : 1,
- .

F/C

(,

), .
( 2040 %)

.
,
HF.

, ,
,

179


CF4 C 2 F6 .
F/C

. ( 30 %)
,
,
Si 2 ,
,
, .


, , , HF3 , CH 2 F2 .

,
-.

8.6

-
,

(),
(.8.10 ).

(
) 500 .
.

,
.
(103 102 ).

180

.8.10 - () -
() : 1-; 2 (); - ; 4-;
5-; 6- ; 7-; 8-.

.
.
, -,
-
13,56 (.8.10 ).
10 3 10 4 ,
1,33 13,3 .

,
-. N

S
V , S
0

0
S

S - -, V -
- N = 1 4 . ,
,

181

,
.
S
S 0 ,

.
,
,
,
.
,
, ,
(O2 , N 2 )
.
- () () . -
,
(. .8.10 ).

(. . 8.10 ).

,
, ,
.
, CF4 , C3 F8 , CHF3 CCl3 ,
.
-
CF4 ,
,
:

4 F + + Si SiF4
4 F + + SiO2 SiF4 +O2
4 F + + Si3 N 4 3SiF4 + N 2

182


, ,
,
.
, 10 .
-
0,1 1 .

()
( ) .

, ,
.

,
, .

,
Ar + (450 ) XeFe2 . ,
,
. Ar +
; XeFe2
SiC
Xe F . F
Si ,
. ,
Si ,
( ),
,
.

p , , -
W Q .
. Si

183

SiO2 CF4 ( 100

).


Si , SiO2 .
Si 12%O2 ,

SiO2 20%O2 .
O2 ,
Si , SiO2 . CF4 - O2
Si
SiO2 .
CF4
.
SiO2
H 2 , 40% ,
Si
H 2 40% .

CF4 - H 2
SiO2 : Si 40 : 1 .
40%
SiO2 .
p
W
,
.
,
. -

.
Q
-
.
Q

184

.
, Q ,
,
,
.

,
.


.
.
, P , W Q
(.8.11):
- (
) (. 8.11, );
,
(. 8.11, );
-

(. 8.11, );
-

-,
,
(. 8.11, ).
,
.
,
.

185


-
,
, , .

8.3.

.8.11. : ; -
; -
; --
:
- - ;
-
;
-

186

8.3

,

()
Al, Al-Si, Al-Cu

SiO2

BCl3+Cl2

,
/
50

/
5-8

/Si
3-5

M/SiO2
20-25

Cl2
CF4+H2
CF4+H2

50-80
50
80

5
5
8

20
32

25-30


,
, . Si
, .
Cl2 Cl2 Ar

20
3
10 c
n
.

Cl2 ,
,
n ,
p .

( Al Si, Al Cu ) ,

, CCl4 , BCl3 ,

Cl2 .
Al , Al2O3
SiCl4

Cl Cl2

Al Cl3 . ,

187

( 3) ,
Cl , Cl2 .
,
. , BCl3
,
.

, .
Al Cu ( 4%Cu ) ,
.

, .

.
""


,
.
.
150-200
,
CO2 , NO2 , H 2O .
, -

CCl4 ,

0,05 0,3

-
,

.

.

,

188

,
.

189

9.1 -

-
( ) ,
, (atomic layer deposition,
ALD)
.



.

/
.
1974 .
(Tuomo Suntola)
ZnS,
.
1977 .

, ,
,

. 0,011,0
/ 1 60 .
, ,

.

(
),
,
.
,
, .

190

( )

.
.
,
,
.

,
.
:

;
,
;

(
);

,
;
(
), ;
(:
HfO2, Al2O3, Ta2O5, TiO2, La2O3, SiO2, : TiN, TaN, AlN,
GaN, Si3N4, : Ru, Cu, W, Mo, Ru .)


.
( 50 ),

65 .
.
(.9.1):

(), ,
,

191

.9.1 - -
:

( ) (.9.1, );
(.9.1, );
,
,

(.9.1, );

(.9.1, ).
.
.9.2

TiCl4. , , 20 ,

,

192

.
,
,




(, )
.

,
,
, .
d,

0,04

0,03

0,02

0,01

0
0

20

40

60

80

100

120
t,

.9.2 - ,
,

Al2O3 : AlCl3
H2O.
Al,
.
H2O
.

193

.

OH .
H2O
.
(AlCl3),

(9.1)
OH + AlCl3 OAlCl2 + HCl.

AlCl3,
.
H2O,

(9.2)
OAlCl2 + H2O OAl(OH)2 + 2HCl.
,
.
Al2O3.

, ,
TMA/H2O (. 9.3), TMA
, Al(CH3)3.
Si
SiOH ,
TMA (. 9.3, ). TMA
,

DMA (, Al(CH3)2), ,
, (. 9.3, ):
Al(CH3)3 ()+ :SiOH () :SiO Al(CH3)2 () + CH4 (). (9.3)
, TMA
DMA,
DMA.
TMA,
(. 9.3, ).
(. 9.3, ).
(CH3),
(Al

194

OAl), ,
Al. (. 9.3,
). :
2 H2O() + :SiO Al(CH3)2 () :SiO Al(OH)2 () + 2 CH4 ().(9.4)

,
,
, (. 9.3, ).

.9.3 - Al2O3

Al(CH3)3 H2O (, , )

195

CH4,

: OH ,
Si, Al.

0,1 .
,
Al2O3 (. 9.3, ).

.9.3 - Al2O3
Al(CH3)3 H2O (, )

196

.9.3 - Al2O3

Al(CH3)3 H2O (, )
.

197

:
, ,
, . .9.4

,

, .
(.9.4, )
,
.
,
, .

.9.4 -
(), (),
()

198

,

. Si
,
,
.
.

.9.4, . ,

.
,
,
,
( .9.4, ).

(.9.4, ).
, ,

.
,

.

.

.


.


.
,
.
(
)
.

199



.
.
( )
,
.
.

(high-k dielectric),
- ,
,

(low-k dielectric).

: Al2O3 (. 9.5), HfO2 ZrO2.
: Al(CH3)3/H2O Al(CH3)3/O3,
Al2O3; HfCl4/H2O TEMAH/H2O
HfO2; ZrCl4/H2O ZrO2.

WN, TaN, WNC, Ru Ir.

.9.5 -
Si,
,
Al2O3.

200

9.2 -

9.2.1


- :
- - ,

, ;
- - ,

,
;
- ,

;
- -
;
- - ,
.

:
1) ,
,

n- - 0,5
, ,

;
2) .

,

, ;
3) .

201

,
,
,
(
0, 5 );
4)
.
, ,
,
;
5) .


.
,

,
, , ,
.
-

,


.
.
( ),
, .
. 9.1 ,
,
.
, ,


.
, (50100
), ,
.

202


.

,
.
- :
-
,
;
-
() , ,
, .
9.1 -

Au
Be
Al
Si
Ti
V
Cr
Co
Ni
Cu
Mo
Ag
Ta
W


,
21
7
9
10
13,6
11
13,2
12
17,5
9,2
22
33,5
34,5
39,5

, /
4,7
11
9,3
8
7,4
6,5
7,1
6,4
7,5
5,4
6,5
6
6
6,4

,
2,5
6,3
3,5
2,6
4
2,5
3,4
3,2
2,8
1,8
4,8
7,8
7,8
9,6

, ,
,
, , .
- -

203


.

,

,
.
:
- .
, :

, -
;

,
;

.

, ,
.

,
, 10 5 10 6 .

.
,

. ,
, 10 % , . ,

.
-

,
, , -

204


.
,
,
.
.

,

.
:
10 / 1 /;
10 4 5 10 4
5 10 3
(, ). ,
,


.
.

,

. ,
, ,
.

- :
; ;
;
;
( ).
-
,
.

205

9.2.2

,

.

:

1)
.

,
.

, , .
, 1 / 2 ,
;
2) .
, 100 / 2 ,
,
.
,
.


;
3) .

, ,
.
.
5 20

-,
.

206

, ,
, , .
,
,
100
.
. ,
, ,
,
.


,
,
,
.

SiH 4 + 2 N 2 O ( + -) SiO 2 + 2 N 2 + 2H 2 .

, ,
.


.

.
,
, - (.
9.6).

207


4060 , 510 .
3,
6, 7,
5.

,
, , ,
.
,
,
,

,
.

.
- (13,5 )
2 3

3
4

3
5
6
7

. 9.6 -

208

1. , ,
, ,
,
.

, ,
,
.
,
110 ,
,
,
.
10 9 1012 -3 .
1000 ,
, ,

.
,
,
,
, ,
.
10 4 10 5 ,
500
700 .
,
, -,
(. 9.7).

SiO 2 SiH 4 ,

N 2 O, O 2

95 125 . : SiH 4 70,
N 2 O 2500, O 2 14, Ar100 3 / .

209

650 .
, .
N 2 O SiO 2
, . , ,
.
, N 2O / O 2
.

, .

.
V
/

125

30

95
15

0
0

15

30

W,

. 9.7 - -
, ,


-
.
N 2 O / SiH 4 .

210

-
.
1,5
55,

.
1,46
.
,
-
.
, , 5
10 % SiH, Sii H 2 .
,

.


.
, 4 10 8 / 2 , ,
, .
, ,
,
. 120 ,
300-525 ,
(4 8) 106 /.
N 2 O / SiH 4
1 4 10, 45
.
,
( 1012 -2 -1 ), ,
,


625 .

211

,
,
.

,
,
,

. ,

. , ,
.


() .

(. 9.8),
. -
,
- . -

5

2
5
3
4

SiH4

. 9.8. -
SiO 2 : 1 - ; 2 - -;
3- ; 4- ; 5 ; 6-

212

.

1,3 10 -4 .
SiO 2 0,130,26 ,
30 3 / 8
(0,25 / 2 ) 2,45 .
625 .
.
,

,
. SiH 4
-.
SiH 4 .
SiH 4 ,

.
9.2.3

Si 3 N 4 ,
.
SiH 4 N 3
N 2 , :
SiH 4 + N 3 N 2 (400 600 + ) Si x N y H z + 2 .

, -
SiH 4
(N 2 / SiH 4 10 2 10 3 ) ,
. , ,

213

,
. N 3 / SiH 4
520. . 9.2

,
.
9.2 -
,

SiH 4 SiH 3+ + +

12,2

SiH 4 SiH 3+ +

4,07

SiH 4 SiH 3+ + 2 +

12,2

SiH 4 Si +

3,09

N 3 N 3+ +

10,2

N 3 N 2 +

4,76

N 2 N +2 +

11,4

N 2 N +

3,9

N N + +

13,1

N N +

3,42

N 2 N +2 +

15,57

N2 N

9,83

N 3

. ,
,
, , Si- , Si-Si-,
Si-H.

.
, ..
, ,
,

.
(1040 %),
Si-H N-H,

214

.
,

. ,
.
870970 , ,

, .

,
, . ,
2 .% , 525 ,
13 .% 373 .

,
,
. N 3 / SiH 4 , 10,
, 650 ,
2,00, 570 1,95.

11
-2
-1
(1 7) 10 ,
,
.
0,86
0,20,3 .

10 7 /,
6 9.
Na + ,
,
. ,


.
, -,

215

-

, ,
.

-,
.
- ()
.
, SiH 4 .
10 1 10 3 .
,
.

,
.
2050
,
.



.
9.2.4 -




.
-
,
(-),

216

- ,
.
- .
625 5
/.


, .


, 100
(. 9.9).
1,02,6 ,
, 1,613,0 /,
300823 .
400 .

,

.

. , ,
.

.
,
- .
-

-
,
, , ,
, , .

217

N2

. 9.9 - -
-
: 1-
; 2 - ; 3 ; 4-

- ,
-, ,
.
9.2.5

( , , -Si) ,
.
,
.
.
:
~ 1025 ,
7251025 ,
470770 , 470 .
,

218

, -,
.


. ,
-.

.

,

(. 9.10).
4

3
4

. 9.10.
,
:
1 - ;
2 ; 3 ; 4

2, -

3,

,

.
,

219

.
,
,
(325470 ).
( 50%) .

1025 .% (-Si-H).

.

H / SiH .

,
.
,
, .

.

.
-Si-H

-,

(). -

.
,
-Si-H

,
,
.
-
, ,
-Si-H.

220

,
1,33 10 4 ,
,
.


.
,
.
9.2.6

,
-
WF6 H 2 ,

25 . WF6

- ,
~ 360 , .
,
.
,

e + WF6 WF6 - x + xF + e.
,
.
,
,
. ,
,
,

H + F HF.

221


,


,

,
.

-
, ,

.


: 2WF6 + Si 2W + 3SiF4 ;

2WF6 + H 2 W + 6HF;

WF6 + 4SiH 4 3W + 4SiF4 + 2HF + 7H 2 .

.
1015
,
.
,
,
,
, .

( ),
() .

H 2 / WF6 . ,
, ,
.

1225

222

8 ,
(5,3
).

MoF6 MoCl 5
,

. - MoF6

2 470
,
2 / MoF6 4. 2 / MoF6 ,
7, .
,
. MoF6
MoF3 .

670 .
MoF3 , -
MoCl 5 2 130
450-700 . MoCl 5
,
.
.
,

( ),
.
( Wx Si 1- x )
WF6 SiH 4 . ,
,
. ,
.
0,05 /, ,

223

.

.
MF6 / SiH 4
.
.
, .
, , ,
. ,
,

, .
, ,
Wx Si 1- x
, , -,
.
9.2.7 -, -



,
, ,
.
,
,
, ,
.



.

, ,
,

224

.

.
,




-,

.


,

.


. ,
Al Ar-N 480 AlN.
,
.
, ,
,
,

(. 9.11).


,
.


.


.
,

225

4
5
6
7
3

. 9.11 -
: 1 ; 2
; 3
; 4 ; 5,6,7, 8
SiO2, TiO2, Ti Si
. ,
AlN
Al Ar + 1500
N + 100
500 . AlN
N Al 1.
,
.
Ta 2 Ar 2
2 Ta,
,
Ta 2 O 5 .
,
.

226

,
.
()

,
-
(. 9.12).
1
2

Ar + O2

. 9.12 - -

: 1 ;
2 ; 3
; 4
; 5 ; 6
Ta 2 O 5 - SiO 2 - TiO 2 - SiO 2

,
.

.
, .
-
,
,
.

227

10
10.1




. ,

,

,
.
,
, , ,

.

- .
,
, ,

,
.

.
:
-
;

;
(
);

;

228

(Al).


-

,
.
, .
-
.10.1.

.10.1 -
- ,
: - ;
-


()
. /

229


.
,
SiO2.
c
.

.10.2.
, ,

,

.
,
,
, .

Al

.10.2 -
,
: - , -

230


.
, SiO2
. Si
, SiO2,

(. . 10.3). , ,

.
Al

.10.3 -

(WF6), SiO2: 1 ;
2 SiO2; 3 W; (),
W (), ()
, ,
- ,
(. 10.4).

231

.
(chemical-mechanical polishing, CMP).

.10.4 -
Al,
. 400450 ;
(), (),
()
- ()
-

, ,
, ,
. -
(chemical mechanical planarization)
,

,

(shallow trench isolation).
- 1983
IBM, 1988
IBM,
. 1989 IBM
,
- SiO2.

232



.
,
. ,


,
. ,
,

. ,
,

(. . 10.5).

.

2
1
.10.5 -
:
1 ; 2
,

, .10.6.

:
(.10.6, ),
,
h1
h2,
, h1 = h2,
(.10.6, ),

233

.10.6 - ,


,
h1 > h2 (.10.6, );
,
, ,
,
(.10.6, ).

,
- .
(
)
, (.10.6, ).

234

10.2 -


- .10.7.
,
,

(, ) 13 .

,

().
,
, -
(.10.8).

().
(,
SiO2)
.

.10.7 - ,

235

.10.8 -
: - - ,
- -
,
( ),

.



.

(.10.9).

236

1001000 (
) .

,
, :
, ,
, ,
, pH , ,
, .

)
.10.9 - , :
-
, -

10.3 -

-
.
,

237

,
.
-
.

:
, ,
(, SiO2),

,
.

,

.
.
pH 11 :
(, KOH),
( 103000 , 160 )
. (
) SiO2
Si(OH)4, .


,
.
, , , ,
,
pH 1,5 4
.
( 1002000 ),
: H2O2,
FeNO3 KIO3.

, ,
(SiO2, ,
), ,
,
.
,

238

,
. , , 1994
, 1997
9, 5 ,
4 .

(Preston F.W.),
,
:
MR = h/t = Kp Pw Vr ,
(10.1)
MRR ( -1), h
(), t (),
Kp (-1), Pw ,
(), Vr
( -1). ,
,
. ,

Kp,
.
, (Zhao B.
Shi F.), MRR Pw,
:
MR = K(Vr) (Pw2/3 Plim 2/3) ,
(10.2)
K(Vr) ,
, Plim
,

.
,
,
MRR

.
,
, 170 -1 250
-1 SiO2 W, .

239

.

,
(SiO2, Al2O3),
( SiO32-, WO42-, IO32, .),
( K+ Na+), ( Fe3+),
(),
().
,

,
:
, ,
,
,
.

.
( ,
), (

).


,
,
,
.
,
, :

;

;

;

;

240


.

,
,

.
,

,
(
), ,


.
-
. ,
,
:
( );

(within-wafer-non-uniformity,
WWNU);

,
);
;
;
(plug recess);
;
;
.

,

MRR
. WWNU

241


5%.
.
, ,

(, , .10.10). ,
(
)
,
.

.10.10 - () ()
,
.
,

.

,
.
- .
.10.11 .10.12

242

SiO2, 2 3
( )
.
( )
(
).
(
), Cu
( )
( ) .

.10.11 - SiO2,
Si : -
, -
SiO2 , -

243

.10.12 - SiO2,
Si : -
, -
SiO2 , -

244

11
(FEOL )
11.1

30%

50%.
,
,
, ? ,

. ,


, Ioff .

.
,
.
,
, .
, ,
,
.

. , ,
,
,
.
,

. front
end processing front end of line (FEOL), ,
, .1.2.
,
, ,
,

245

,
, .
,
, :
,
;
;
, ,
, ,
;
,
;

,
Si (
) /
;
;
, ;
;
.


. ,
.
,
, .
11.1
.
,


. Intel,
0,5 0,07 (
0,13 ) Ioff
1 /

246

~10 /. 65- (
30 ) Ioff .
1 .
,
100 . .
Ioff,
, - ().
Si, ,
(. 11.1).

.
IBM
PowerPC.

SiO2

.11.1 -
--
,
,
Ioff. ,

(. .11.2),

, .


. , .11.3,
Si
. , 2010

247


.
20002010
,
. , 2015 ,
,
.

: -- (),
SIMOX, ,
Smart Cut.

.
.11.2
-


()

.
by

--
()
SIMOX (Separation
Implantation
of Oxygen

.11.3 -
,
(1)
-- (2),
(3)

248

() )
, SiO2

(.11.4, )
,

( Rp)

.11.4 -
, SIMOX:
( 41017 2,
100 ) ()
(T 1405 ,
) ()

249

(.11.4, ).
Si
,
.
SiO2

(Wantanabei Tooi) 1963 . 1982
NTT
1 , SIMOX
. AS/400,
SIMOX ,
IBM 2000 .

100 2000
1575 2010
7.5 (2000 .) 1
(2010 .).
(bonding)


. .
(. 11.5) -
B
,
--.

,
.
- .
, Si
. -
,
.

250

.11.5 -
:
B (), -
SiO2 B (),
(),
- ()



, .

,
.

,
. ,

251


, Si,
.
,
.
. (M. Bruel)
Smart Cut.
Smart Cut
,

,


(.11.6).

.
,

Si ,

.11.6 -
Smart Cut

252

. 11.7.
( 51016 -2)
( ).

,
.
.
( )

.

,

.11.7 - Smart Cut:


(),
Si
()
-.


.
,
. ,
,

. ,

253


Si. ,
,
Si.
Smart Cut
, SiGe,
GaAs, SiC, Ge, GaN
.
,
, .11.8.

Si,
(.11.8, ).
Si (.11.8, ).
,
, .


).

(.11.8,
( FinFET
) . 11.8, .
, ,
, (. 11.8, ),
(. 11.8, )
( ).
24
( ),
.

SiGe.
ft,

:
ft = / Lk,
(11.1)
, Lk
. (11.1)
Lk / .

254

,
.
,
(),

.11.8 - ,

255


.

. ,
, ,
n- p- , .

(strained silicon) SiGe.
Si ,

.
Si
, /
.
.

Si: .

,
. ,
Si n-
, ,
p- ,
.

Si3N4,
(. .11.9, ).
Si3N4
.

SixGe1-x
. , SixGe1-x
, Si,
(. .11.9, ).

256

.11.9 - ,
,
Si3N4 (),
, SiGe
()
, ,
, ,
X Y.



SixGe1-x (. .11.10, ).
, SixGe1-x 1% , Si,
Si
(.11.10, ).
, ,
,

257

Si , ,

Ge SixGe1-x.


50 . IBM
Si
-.
Intel
Si.
.

.11.10 -
,
, SixGe1-x ()
SixGe1-x /Si,

()

258


SiGe Ge,
, Si.

,
, GaAs. ,
Si, ,
,
,
.

/,

.
11.3

,

(.1.1.). ,
,
. ,

, 11,2

( SiO2).

.
14 .


SiO2
(high-k dielectric).


= S / d,
(11.2)
S , d
. d

259

,
.

: Si3N4, Al2O3, ZrSixOy, ZrAlxOy, ZrNxOy, ZrO2, HfO2,
La2O3, Pr2O3, Gd2O3,Y2O3.
, HfO2 ( = 2230),
,

FEOL. , HfO2-
HfO2 / SiO2 = 5,67,7 , SiO2 ( = 3,9),
.
65
HfO2 ~ 4 ,
. ,
,
,
,
.


,
HfO2.
,

NEC. 2002

(SiOxNy). 1,5

.
ITRS,
,
.


. ,

, 0,51 .

260

,
,
.
,
. ,
,
,

.

,
FEOL
n- p- .
:


(, TaSiN- TiN n p- , ).
, ,
, ,
.
, ,

,

.
,
2008 .
11.4 FEOL


- n- FEOL.
.11.11. ,
,
(

261

),
.
Si p 1016 3
.
Si (d = 500 )
n-
(.11.11, ). , SiO2,
, , n-
.
, .
n- ,
n- p-
.

SiO2 ,
(d = 2.5 )
. ,

300 ,

.
, ,
n+- p+-
(.11.11, ).
,
.

.
,
,
. ,
,
,
,
1018 -3.
/Si

262

,
.

.11.11 -
n-

263

.11.11 -
n-

264

SiO2 (d = 500 ),
(.11.11,
).
Si ( ) ,

.
,


(.11.11, ).
,
.

,
(local interconnect)
.
,
. , ,
,
.
,
- ,
/
(, TiN).
.
, ,
, .

.

(.11.11, ).
,
SiO2 (d = 500 ),


FEOL BEOL.

265

-
FEOL 7 34
.

.11.11 -
n-

266

12.
(BEOL)
12.1

,
,
, .

,
. ,
AMD 1991 (Am386,
33,40 ), 1 ,
, ,
2002 (Opteron/Athlon 64,2 ),
0,13 , 9
. ITRS, ,
65- , 10
,
150 , 11 -2.
,
,
.

(
),

.
-
,
pn- - ( ~50%
). ,
,
.


.
FEOL.

267



( ),

() , ,
RC
.
FEOL
.
.12.1, ,
()

,
( ,
FEOL)
.

.12.1 -
:
1 , 2 ,
3

268


, back end processing
back end of line (BEOL). BEOL FEOL
,
, .1.2. ,

,
.
,
, :
;
;
;

;

;
.

, BEOL
,

,
, .

BEOL, .
0,5
, .
0,25 ,
0,13 1,4
, ,
65 BEOL ,
FEOL.

269

12.2

,

,
.
(11.2)
, SiO2 ( = 3,9)

.

< 3,9. , ,
:
SiOC ( = 32,5),
SiOF ( = 3,83,4 ),
( = 2,83,0) CF ( = 2,32,7),
, :
/

Black
Diamond
Applied Materials ( = 2,7), ( = 1,9), SiLK
Dow Chemical ( = 2,6), SiLK ( = 1,5),
( = 2,6), ( = 1,8),
( = 21,1) . ,
, ,
,

BEOL, ,
, ..

,
,
. ,
.

,
. ,
,
.

270


. ,

, .

GaAs.

(.12.2).
(
, ),

.
.
,
.
,
,
, ,
.
12.3

RC
, .

0.5
250 .
, 2011
400 .

.

271


=
3.0 = 1.65 .

.

,
Cu Al,
.

,

.12.2 -

272

-
. , Cu

Al
Cu.
:
(, TaN),
Cu Cu.

.
. ,
150 ,

, ,
.12.3.
,

.12.3 -
: 1
; 2
; 3
(Cu)

273

/.
,


. 90
65 50%,
2
.

/.
,
-,


.
(
),
,
.
12.4 BEOL


BEOL
()
.
FEOL
(. 12.4, ),

()
SiO2 (ILD1) 1 .
- ,
0,1 SiO2.
, -
, (via hole)
.

274


( ) . 12.4, .

.12.4 - BEOL

275



Ti 5 ,
TiN (20 ),
.

(plug)
.
Al
(. 12.4, ).
Al c Cu
/ Si. Al
5 -2.

Ti,
Al (1 3 % Cu, 200 ),
TiN (50 , ),

.
3
.

.
, (. 12.4,
).
SiO2 300 .
,

Al .

SiO2,
,
- .

.
(. 12.4, )
,

276

W (
), ,
Al

.12.4 - BEOL

277

(. 12.4, ).
.

.12.4 - BEOL


278


.

,


(. 12.4, ).

(dual damascene
process).
,
, ,


,
.

.12.4 - BEOL


279

,
.
,

.
.
FEOL

.

BEOL,

(IMD1,
SiO2),

(. 12.5, ).

Si3N4 (25 ),
- (vias) SiO2.

Si3N4
(. 12.5 ) . (.
12.5, ) SiO2,



,
,
,
(trenches).

SiO2,
,
- Si3N4 (. 12.5, ).
,

TaN, Cu
.
(seed layer) (. 12.5,
),
Cu,
SiO2,
,

280

(. 12.5, ).
,

.
- Cu TaN,
,
SiO2.


BEOL . 12.5, .

,
, ,

.

281

282

283

.12.5 - BEOL

284

,
3540
,
.
,
.
,
,
,
.

:


,
.
,
-,

? ITRS 2006 ,

56 .
- ,
/
,
.

, ,
.
,
. ,
. ,
, .

. ,

,
( ) ,

285


,
. ,
, , .
,
-
.
,

, .
.
.

,
, .
,
, .
,
,
,
.
,

, , ,
.

286

1. The International Technology Roadmap for Semiconductors,


http://www.itrs.net/
2. . . .: .
, 2002. 304 .
3. : . . /
. . , .: . , 2004.
360 .
4. Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology,
Ed. Robert Doering, Yoshio Nishi, Second Edition, CRC
Press, 2008.
5. Handbook of Semiconductor Interconnection Technology,
Ed. Geraldine C. Schwartz, Kris V. Srikrishnan, Second
Edition, CRC Press, 2006.
6. Plasma Processing of Semiconductors, Ed. P.F. Williams,
Kluwer Academic Publishers, 1997.
7. . : . . / .
. . .: , 1985. 479 .
. .
-
8.
-: 2 . /
.. . .: , 2002.
9. .
( ): . . / . , .
, . . - .: , 1973. - 296 .
10. . / . , .. .:
, 1983. 360 .
11. : .1 / . . . .: , 1986.
404 .
12. . : .
. / . , . . .: , 1985. 494 .

13.
/
. . . : . -,
2004 . 202 . ISBN 5-9273-0506-7.
14. : . /
. . , . . .: , 1988. 555
.

287

15. : .2 / . . . .: , 1986.
453 .
16. . : , ,
: . 2 / . . .: , 1990. ISBN 5-03001717-8.
17. : .
. / . . . . .: ,
1987. 469 .
18. .. -
/ . . , . . .
: . - ,
2000. 140 . ISBN 5-86889-054-.
19. . / . . .
: , 1986. 95 .

20. -
: . . . . .
/ . . . . .: ,
1984. 336 .

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