METODE FABRIKASI

CVD, ETSA, dan Fotolitografi

Disusun Oleh :
Desi Nurillah

(12030224029)

Redy Bagas Setyadi (12030224207)

Asrifah

(12030224223)

PROGRAM STUDI FISIKA

FAKULTAS MATEMATIKA DAN ILMU PENGETAHUAN ALAM
UNIVERSITAS NEGERI SURABAYA

PENDAHULUAN

KEMAJUAN TEKNOLOGI

TEKNOLOGI
SEMIKONDUKTOR
Teknik pembuatan
CVD

FOTOLITOGRAFI

ETSA

Chemical Vapour Deposition (CVD)

Salah satu teknik pembuatan

semikonduktor yang dilakukan
melalui pelapisan (coating) pada
bagian permukaan substrat.
Metodenya :
Mengendapkan logam ke permukaan
substrat melalui fase uap

Kondisi vakum atau

bertekanan rendah

Skema proses yang terjadi didalam CVD

BAGIAN DALAM REAKTOR

CVD

a. Sistem suplai reaktan

b. Ruang deposisi
c. Sistem daur ulang

Tipe Chemical Vapour Deposition

APCVD

LPCVD

MOCVD
Proses CVD yang terjadi

Proses CVD yang terjadi

Proses CVD yang terjadi

dengan menggunakan

pada tekanan atmosfer

pada tekanan rendah

bahan-bahan metal
organik

Sistem LPCVD

Prinsip LCVD

Proses MOCVD

LPCVD

PECVD

Pelapisan permukaan

Proses CVD dengan

substrat dengan

memanfaatkan media

memanfaatkan sinar laser

plasma

Aplikasi Penggunaan CVD

Proses CVD ini digunakan untuk

memanfaatkan pembuatan lapisan
isolator, semikonduktor dan logam