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UNIVERSIDAD NACIONAL AUTONOMA DE MEXICO

FACULTAD DE ESTUDIOS SUPERIORES CUAUTITLAN CAMPO I

LABOARATORIO DE QUIMICA ANALITICA III

PROYECTO: DETERMINACION DE PLATA Y COBRE EN PIEZAS DE JOYERIA, POR EL METODO DEL ELECTRODEPOSICION, CON UN POTENCIAL CONTROLADO.

HERRERA FLORES JUAN GUSTAVO RAMIREZ ARMAS ALMA LUCERO RAMIREZ DIAZ LUIS FRANCISCO

PROFESORES: HERNANDEZ MATAMOROS PABLO

MARCO TEORICO.

La electrodeposicin, o galvanoplastia, es un proceso electroqumico de chapado donde los cationes metlicos contenidos en una solucin acuosa se depositan en una capa sobre un objeto conductor. El proceso utiliza una corriente elctrica para reducir sobre la superficie del ctodo los cationes contenidos en una solucin acuosa. Al ser reducidos los cationes precipitan sobre la superficie creando un recubrimiento. El espesor depender de varios factores. La electrodeposicin se utiliza principalmente para conferir una capa con una propiedad deseada (por ejemplo, resistencia a la abrasin y al desgaste, proteccin frente a la corrosin, la necesidad de lubricacin, cualidades estticas, etc.) a una superficie que de otro modo carece de esa propiedad. Otra aplicacin de la electroposicin es recrecer el espesor de las piezas desgastadas p.e. mediante el cromo duro. Su funcionamiento es el antagnico al de una celda galvnica, que utiliza una reaccin redox para obtener una corriente elctrica. La pieza que se desea recubrir se sita en el ctodo del circuito, mientras que el nodo es del metal con el que se desea recubrir la pieza. El metal del nodo se va consumiendo, reponiendo el depositado. En otros procesos de electrodeposicin donde se emplea un nodo no consumible, como los de plomo o grafito, los iones del metal que se deposita debe ser peridicamente repuestos en el bao a medida que se extraen de la solucin.

Ambos componentes se sumergen en una solucin llamada electrolito que contiene uno o ms sales de metal disueltas, as como otros iones que permiten el flujo de electricidad. Una fuente de alimentacin de corriente continua genera un potencial elctrico en el nodo y en el ctodo. En el ctodo, los iones metlicos disueltos en la solucin electroltica se reducen en la interfase entre la solucin y el ctodo y desaparecen de la disolucin. Esto crea un desiquilibrio de cationes en la disolucin. Este exceso de cationes se combina los tomos del metal del ctodo formando la sal que se disuelve dejando el metal restante al descubierto, y por otro lado reponiendo los iones precipitados. El ctodo es un sumidero de cationes metalicos y un generador de aniones mientras que en el nodo sucede lo contrario es un sumidero de aniones y generador de cationes. La cantidad de ambos est regulada por la constante de disociacin y las leyes de equilibrio lo cual conlleva a que la velocidad a la que se disuelve el nodo es igual a la velocidad a la que el ctodo se recubre. Aunque circula una corriente elctrica esta no la constituyen electrones que viajan entre los electrodos en los aniones, sino que un electrn, o varios, del ctodo reducir un catin metlico que se depositar. Esto producir un desequilibrio en la disolucin por lo que har que alguna molcula del electrlito se disocie. Si esta lejos del nodo se volver a recombinar, pero si esta cerca este reaccionar entregando un electrn, o varios, a este y generando una sal soluble que se desprender. INTRODUCCION. La electrodeposicin consiste en el depsito de una lmina fina de metal de unos 0,02 mm de espesor sobre una superficie conductora de la electricidad, lo que se

La electrodeposicin de cobre es uno de los ejemplos ms sencillos. El metal que se quiere recubrir se coloca como ctodo, y como nodo se pone un electrodo de cobre. La disolucin en que se sumergen ambos electrodos contiene una sal de Cu2+ como puede ser CuSO4 (3). En el nodo se produce la semirreaccin de oxidacin: Cu (s) Cu2+ (ac) + 2 e En el ctodo se produce la semirreaccin de reduccin: Cu2+ (ac) + 2e- Cu (s) En nuestro caso con el cobre de la muestra nuestra reaccin quedara de la manera:

Cuyo potencial referido a electrodo de hidrogeno es de E0= +0.34 V. En el caso de la plata la reaccin que se efectuara quedara:

Cuyo potencial referido a electrodo de hidrogeno es de E0=+0.80 V. Como se va a manejar un electrodo de calomel saturado, se debe de establecer los valores de potencial referidos al electrodo de tal forma: Ecal=E0- 0.224 V. De modo esquemtico quedara: 0.116 V 0.576 V

A medida que se deposita cobre sobre el ctodo, van pasando iones de Cu2+ a la disolucin, desde el nodo, manteniendo constante la concentracin de Cu2+. Por lo tanto, en este proceso no existe una reaccin neta, sino que hay simplemente una transferencia de cobre desde el nodo. OBJETIVOS. - Provocar la electrodeposicin de una capa de metal para recubrir un objeto metlico de naturaleza distinta por electrlisis y cuantificar la cantidad depositada mediante gravimetra. - Calcular la carga y la intensidad de corriente necesaria para provocar la deposicin de una cantidad concreta del metal. MATERIAL Y EQUIPO. Dos electrodos de platino Potenciostato

Potencimetro con electrodo de referencia Vaso de precipitados de 250 ml. Parrilla Elctrica Agitador Magntico Balanza analtica Estufa Desecador REACTIVOS Acido ntrico concentrado Acido clorhdrico diluido Muestra comercial de cobre y plata

PROCEDIMIENTO. Para realizar la experimentacin ya deben de ser conocidos los valores de potencial del cobre y plata as como tambin las concentraciones de cobre y plata en la solucin. 1.- Preparar una solucin de 100 ml. de cobre y plata de concentraciones conocidas. 2.- Para preparar la muestra de plata y cobre en una solucin de cido ntrico concentrado y dejarlo sumergido durante un tiempo de 30 minutos. 4.- En un vaso de 100 ml. se colocan 50 ml. de la solucin preparada de Cu y Ag de concentraciones conocidas. 5.- Introducir dos electrodos de rejilla de platino previamente pesados dentro del vaso y agregar agua destilada hasta que los electrodos queden completamente sumergidos dentro de la solucin. 6.- Encender el agitador y aplicar la intensidad necesaria para que se comience con la deposicin del cobre o de la plata. 7.- Despus de 20 minutos, aadir agua para elevar el nivel de la solucin y observar si se continua depositando el cobre en la superficie del electrodo, si es as se continua durante otros 10 minutos o hasta que ya no se observe deposicin. 8.- Al terminar la deposicin se sacan los electrodos de la solucin y se lavan sin interrumpir la fuerza electromotriz. La solucin que queda se conserva para efectuar la siguiente determinacin. 9.- Se para la corriente a los electrodos, se retira el ctodo, se lava con etanol y se seca en la estufa durante unos 5 minutos a 110 C, se enfra y se pesa. 10.- La solucin restante se neutraliza con amoniaco concentrado y se agregan 15 ml. en exceso

11.- Se le introducen los electrodos de rejilla de platino, se enciende el agitador y se aplica un valor de intensidad de corriente y se sigue el mismo procedimiento anterior .

BIBLIOGRAFIA. Harris, D.C., "Analsis Qumico Cuantitativo", Iberoamericana, Mxico, 1992. Skoog, D.A., West D.M., "Anlisis Instrumental, Interamericana, Mxico.

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