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Desafio Coluna de Destilao

Instrues
1. Instale o LEAF mais recente (5.3.0) no seu computador a partir da pasta
share/Verses
2. Abra o LEAF Central e gere um token usando Licena->Gerar Identificador
de Mquina
3. Coloque o arquivo gerado na pasta share/Workshop/tokens com seu nome
4. Pea para algum que pode criar licenas para criar uma licena para voc
5. Ela ir colocar a licena na pasta share/Workshop/licenas com seu nome
6. Carregue a licena no LEAF Central com Licena->Instalar licena
7. Copie e descompacte o arquivo Simulador Workshop.zip de
share/Workshop para seu computador
8. Copie para o seu computador e instale o software Matrikon OPC Server
(MatrikonOPCSimulation.EXE) que est na pasta share/Workshop
9. Abra o Matrikon OPC Server for Simulation e abra (File->Open) o arquivo
de configurao real_time_simulation.xml que se encontra na pasta
descompactada Simulador Workshop
10. No LEAF Central abra a nova malha e importe o script dist.ct3 que se
encontra na pasta descompactada Simulador Workshop
11. Abra o arquivo dsim.exe e escolha a opo 1 (simulao OPC em tempo
real)
12. Execute o script de controle no LEAF e verifique se as informaes online
correspondem ao que est sendo exibido no dsim.exe
13. Observe o sistema em funcionamento e faa um novo controle com o
objetivo de ser melhor que o PID atual

Sistema

O processo em questo uma coluna de destilao com 41 bandejas que
realiza a separao de uma mistura em dois componentes, um retirado na base
e o outro no topo. A mistura entra na bandeja 20, e so lidas as temperaturas
das bandejas 10 e 30. O controle dos tanques M
D
e M
B
feito com
controladores proporcionais.
O objetivo do controle manter a concentrao da base da torre (B no grfico
acima) abaixo de 1% (0.01). Outro objetivo reduzir o gasto de vapor (V no
grfico) que utilizado para controlar a torre, ou seja, necessrio minimizar a
integral da abertura da sua respectiva vlvula. No h informao nenhuma
sobre a presso, portanto no necessrio se preocupar com pressurizao,
nem com qualquer outra instabilidade decorrido disso.
Controle
As seguintes variveis esto disponveis para o controle e podem ser usadas
em qualquer combinao possvel:
Concentrao da base (x
B
no grfico; manter abaixo de 0.01; varivel de
laboratrio de 2 em 2 minutos com 1 minuto de atraso) diminui com
temperaturas mais altas
Temperatura da bandeja 10 (estabilidade entre 78 e 82C, setpoint anterior
em 81C)
Temperatura da bandeja 30 (estabilidade entre 70 e 78C, setpoint do PID
em 74C)
Concentrao na entrada (zF no grfico; estabilidade em torno 0.5; varia
pouco; deadtime em torno de 30 segundos; varivel de laboratrio sem
atraso)
Vazo de refluxo (L no grfico; estabilidade em torno de 2.7; varia entre
2.3 e 3; deadtime em torno de 1 minuto) esfria a torre
Vlvula de vapor (V no grfico; no pode abrir menos que 30% e mais que
70%; valor mdio deve ser menor que 51%; deadtime em torno de 15
segundos) esquenta a torre
Avaliao
M = Mdia da MV
C = (Concentrao - 0.01) se concentrao > 0.01
necessrio que o controle seja melhor que o PID nos dois sentidos
(concentrao abaixo do limite e gasto de vapor), ento para o controle ser
considerado vlido necessrio que a mdia da abertura da MV seja menor
que 52.1% e que o valor de contaminao mdia seja menor que 8E-5:
M <= 52.1%
C <= 8E-5
Com essas restries operacionais cumpridas, o melhor controle ser avaliado
de acordo a seguinte frmula de benefcio:
Benefcio = 250000R$ * [2*(52.1 - M) + (-4.1 - log10(C))]