DEDICATORIA Dedico con mucho amor a mis padres Y hermanos quienes depositan su apoyo Y confianza.
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AGRADECIMIENTO Agradezco a mis padres por los momentos ms Difciles que permanecieron en m, A todos los maestros de una u otra manera Hacen posible la enseanza.
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INTRODUCCIN
Estructura es la disposicin y orden de las partes dentro de un todo. Tambin puede entenderse como un sistema de conceptos coherentes enlazados, cuyo objetivo es precisar la esencia del objeto de estudio, es la distribucin de las partes de un cuerpo, aunque tambin puede usarse en sentido abstracto. El concepto, que procede del latn estructura, hace mencin a la disposicin y el orden de las partes dentro de un todo.
A partir de esta definicin, la nocin de estructura tiene innumerables aplicaciones. Puede tratarse de la distribucin y el orden de las partes principales, en particular, puede referirse a:
-Estructuras qumicas.
-estructura de categora.
-estructura de musical.
-estructura de ciencias.
-estructura estelar.
-estructura social, etc.
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OBJETIVO GENERAL: Definir las estructuras cermicas, polimricas y semiconductoras. OBJETIVOS ESPECIFICOS: Definir y clasificar los materiales cermicos y las cermicas tradicionales. Aprender las propiedades de las cermicas. Basndonos en la estructura cristalina de los semiconductores, y ms Concretamente en el enlace covalente. Desde el punto de vista energtico nos basamos en las estructuras, es decir, a travs del modelo de bandas.
CAPTULO 1: ESTRUCTURA CERMICA 1.1.-RESUMEN: Los materiales cermicos son materiales inorgnicos compuestos por elementos metlicos y no metlicos vinculados qumicamente. Pueden ser cristalinos, no cristalinos o una mixtura de ambos. Poseen una alta dureza y resistencia al calentamiento, pero tienden a la fractura frgil. Se caracterizan principalmente por su bajo peso, alta rigidez y baja tenacidad, alta resistencia al calor y al desgaste, poca friccin y buenas propiedades aislantes. Los materiales cermicos son baratos, pero su procesado hasta producto terminado es normalmente lento y laborioso. Adems, la mayora de estos materiales se daa fcilmente por impacto a causa de su baja o nula ductilidad.
1.2.-INTRODUCCIN:
Histricamente, los cermicos se cuentan entre los materiales ms antiguos hechos por el Hombre. Si bien su invencin data del Neoltico, el primer pueblo que desarroll tcnicas para elaborar la cermica fue el Chino, pasando el conocimiento a Japn, la India, Medio Oriente, Egipto, Grecia y finalmente Europa. Estas civilizaciones, en contraposicin a las culturas prehistricas que simplemente dejaban secar las piezas de cermicas al sol o junto a una fogata, fueron desarrollando mtodos de coccin en hornos, lo que mejor las prestaciones del material y sus bondades estticas.
1.3.-CLASIFICACIN: Puede ser cristalina, no cristalina, o una mezcla de ambas. Se presentan en las ms variadas formas; de estructuras muy simples a las ms complejas mezclas de fases. Su abundancia en la naturaleza y las diferencias que presentan en sus propiedades respecto a las de los metales los convierte en materiales sumamente importantes. Segn su estructura, los cermicos pueden clasificarse en dos grandes grupos, los cristalinos o cermicos, y los no cristalinos o vidrios. A su vez, los cristalinos pueden ser mono cristalinos o poli cristalinos. (Ver Cuadro 1)
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Cuadro 1. Clasificacin de los cermicos segn su estructura. Los que presentan estructura policristalina o no cristalina pueden a su vez ser monofsicos o polifsicos.
1.3.1.-MATERIAL CERMICO CRISTALINO:
Pueden clasificarse en tres grupos. Las cermicas de silicato, cuya unidad estructural fundamental es el SiO2, incluyen por ejemplo a la porcelana y los materiales refractarios. Los cermicos de xido sin silicatos son compuestos a los que se les agregan impurezas, como el Al2O3, MgO y BeO. Las cermicas sin xidos, como el ZnS, SiC y TiC, se utilizan como material para elementos calefactores de horno, as como material abrasivo.
Cuadro 2. Cermicas cristalinas.
1.3.2.-ESTRUCTURA NO CRISTALINA:
Los tomos se acomodan en conjuntos irregulares y aleatorios. Los slidos no cristalinos con una composicin comparable a la de las cermicas cristalinas se denominan vidrios. La mayor parte de los vidrios que se comercializan son silicatos.
1.4.-ESTRUCTURAS CRISTALINAS DE CERMICAS SENCILLAS: Algunos compuestos con estructuras cristalinas relativamente sencillas estn rgidos en la tabla con sus puntos de fusin.
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En los compuestos cermicos listados, el enlace atmico es una mezcla de los tipos inico y covalente, valores aproximados de los porcentajes de carcter inico y covalente para los enlaces entre tomos en estos compuestos se pueden obtener considerando las diferencias de electronegatividad entre los diferentes tipos de tomos en los compuestos. La tabla Muestra la cantidad de enlace inico o covalente entre los tomos de estos compuestos es importante porque determina, en alguna medida que tipo de estructura cristalina se forma en el compuesto cermico. 1.5.-DISPOSICIONES INICAS SENCILLAS ENCONTRADAS EN SOLIDOS CON ENLACE INICO 1.5.1.- el tamao relativo de los iones en el slido inico (considerado los iones como esferas compactas de radios definidos). 1.5.2.- la necesidad de equilibrar las cargas electrnicas para mantener la neutralidad elctrica en el slido inico.
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1.6.-LIMITACIONES DE TAMAO PARA EL EMPAQUETAMIENTO DENSO DE AIONES Los slidos inicos estn formados por cationes y aniones. En el enlace inico algunos tomos pierden sus electrones ms externos para convertirse en cationes y otros ganan electrones externos para convertirse en aniones. Por tanto los cationes son normalmente ms pequeos que los a iones enlazados con ellos. El nmero de aniones que se encuentran alrededor del catin en un inico solido se llaman nmero de coordinacin (NC).
1.7.-ESTRUCTURAS CERMICAS DE SILICATOS:
Muchos materiales cermicos contienen estructuras de silicatos con tomos de silicio y oxgenos enlazados entre s en varias distribuciones. Tambin un nmero de formaciones naturales de tipo mineral tales como arcillas feldespatos y micas son silicatos; ya que el silicio y el oxgeno son los dos elementos ms abundantes encontrados en la corteza terrestre. Se caracterizan por su bajo precio, disponibilidad y por sus propiedades especiales. Las estructuras de silicato son particularmente importantes para materiales de construccin en ingeniera: vidrios, cemento Portland, ladrillos y aislantes elctricos.
1.8.-Imperfecciones en las estructuras cermicas cristalinas:
1.8.1.-Defectos atmicos puntuales:
En los materiales cristalinos cermicos los tomos existen como iones cargados. Esto hace que la estructura de defectos debe cumplir las condiciones de electro neutralidad. Por consiguiente los defectos en las cermicas no ocurren de forma aislada. Un tipo de defecto est formado por una vacante catinica y 3un catin intersticial. Esto se denomina un defecto Frenkel. 11
Puede verse como un catin que abandona su posicin normal y se mueve a una posicin intersticial manteniendo su contribucin de carga positiva, lo que asegura la neutralidad.
Otro tipo de defecto encontrado en materiales AX es un par vacante catinica- vacante aninica conocido como defecto Schottky, creado por la eliminacin de un catin y un anin desde el interior de un cristal. El hecho de que para cada vacante aninica exista una vacante catinica asegura que la neutralidad de la carga del cristal se mantenga. Estos dos defectos, por otra parte, no alteran las proporciones de aniones y cationes manteniendo la estequiometria en el material. -Impurezas en cermicas:
Los tomos de impurezas pueden formar soluciones slidas en los materiales cermicos tanto intersticiales como sustituciones En el caso de las intersticiales, los radios inicos de las impurezas deben ser pequeos en comparacin con los del anin. Una impureza sustituir al tomo disolvente que sea ms similar en el comportamiento elctrico. Para que en el estado slido haya una solubilidad apreciable de los tomos de impurezas sustituciones, los tamaos inicos y la carga deben ser casi iguales a los de los iones disolventes. Si una impureza tiene una carga distinta a la del ion al cual sustituye red como los anteriormente descriptos.
-Dislocaciones:
En algunos materiales cermicos incluyendo el lif, el zafiro (Al2O3) y el MgO se observan dislocaciones. Sin embargo estas no se mueven con facilidad debido a un vector de Burguers grande a la presencia de relativamente pocos sistemas de deslizamientos y a la necesidad de romper enlaces inicos fuertes para despus obligar a los iones a deslizarse a los de carga opuesta. Como consecuencia las grietas no se redondean por la deformacin del material que se encuentra en la punta de la grieta y su propagacin contina. Eso es lo que hace de los cermicos, materiales frgiles.
1.8.2.-Defectos superficiales:
Los lmites de grano y las superficies de las partculas son defectos superficiales importantes en los cermicos. Un cermico con grano de tamao fino tiene mayor resistencia que uno de grano ms grueso. Los granos ms finos ayudan a reducir los esfuerzos que se desarrollan en sus bordes debido a la expansin y a la contraccin aniso trpica, Normalmente se produce un tamao de grano fino utilizando desde el principio materias primas cermicas de partculas ms finas (en el caso de sinterizado). Las superficies de las partculas que representan planos de uniones covalentes o inicas rotas y no satisfechas, son reactivas. Distintas molculas pueden ser absorbidas en la superficie para reducir la energa superficial, alterando su composicin, sus propiedades y su confortabilidad.
-Porosidad:
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En un material cermico los poros pueden estar interconectados o bien, cerrados. La porosidad aparente mide los poros interconectados y determina la permeabilidad (facilidad con la cual pasan gases y otros fluidos a travs del cermico). Se determina pesando el material cermico seco (WD) despus de vuelve a pesar cuando est suspendido en agua (WS) y despus de que ha sido retirado el agua (WW).
La porosidad real incluye tanto poros interconectados como cerrados
B es la densidad en masa c es la densidad real del cermico.
Ejemplos de materiales cermicos Nitruro de silicio (Si3N4), Utilizado como polvo abrasivo.
Carburo de silicio (SiC), empleado en hornos de microondas, en abrasivos y como material refractario.
xido de cinc (ZnO), semiconductor. Magnetita (Fe3O4), es utilizado en ncleos de transformadores magnticos y en ncleos de memorias magnticas.
Esteatita, utilizada como un aislante elctrico.
Ladrillos, utilizados en construccin.
1.9.-PROPIEDADES:
1.9.1.-PROPIEDADES ELCTRICAS DE LOS CERMICOS:
Los materiales cermicos se usan ampliamente en la industria elctrica y electrnica. Principalmente como aislantes (dielctricos) elctricos o en capacitores. Otra aplicacin difundida es derivada de las propiedades piezoelctricas de ciertos tipos de cermicas.
Propiedades de los componentes dielctricos: 13
La unin inica y covalente en materiales cermicos restringe la movilidad de los iones y de los electrones (los cales se comporten entre dos tomos o son cedidos de un tomo a otro) y esto determina que estos materiales sean buenos aislantes elctricos Existen 3 propiedades bsicas de los componentes dielctricos.
Constante dielctrica Ruptura dielctrica Factores de perdida
Comportamiento dielctrico: Este tipo de material cermico presenta una estructura bipolar (entidades de cargas (+) y (-) a nivel atmico o molecular separadas) por lo en presencia de un campo elctrico estos se orientan y es posible usarlos en capacitores. Constante dielctrica: La constante dielctrica de un medio continuo es una propiedad macroscpica. El efecto de la constante dielctrica se manifiesta en la capacidad total de un condensador elctrico o capacitor. Cuando entre los conductores cargados o paredes que lo forman se inserta un material dielctrico diferente del aire la capacidad de almacenamiento de la carga del condensador aumenta. De hecho la relacin entre la capacidad inicial Ci y la final Cf vienen dada por la constante elctrica:
La alta constante dielctrica de ciertos tipos de cermicos permite la miniaturizacin de capacitores.
C = (E. k . A) / d C: capacidad E: Permeabilidad en el vaco (ctte) k: constante dielctrica d: distancia entre placas
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La tabla muestra valores de constante dielctrica de algunos materiales aislantes cermicos.
Referencia:
K Vaco 1 K Aire 1.00059
Rigidez dielctrica: Entendemos por rigidez dielctrica el valor lmite de la intensidad del campo elctrico en el cual un material pierde su propiedad aisladora y pasa a ser conductor (ruptura elctrica). Tambin podemos definirla como la mxima tensin que puede soportar un aislante sin perforarse. A esta tensin se la denomina tensin de rotura. Si el dielctrico es sometido a una diferencia de voltaje suficientemente alta, el esfuerzo de los electrones y los iones en su intento por pasar a travs del dielctrico puede superar la rigidez dielctrica ocasionando que el material empiece a fallar y finalmente se produzca el paso de electrones. La tabla 10.7 muestra valores de rigidez dielctrica de algunos materiales aislantes cermicos. 15
Factor de prdida: Es una medida de la energa elctrica perdida (en forma de calor) por un capacitor en un circuito de corriente alterna. La tabla 10.7 muestra valores de factor de prdida de algunos materiales aislantes cermicos.
Comportamiento piezoelctrico: Efecto electromecnico por el cual una fuerza mecnica en un material ferro elctrico produce una respuesta elctrica o fuerzas elctricas una respuesta mecnica. Algunos pocos materiales cermicos como el titanato de bario los cuales son cermicos denominados ferro elctricos que se caracterizan por ser cermicos inicos cristalinos cuyas celdas unidad no poseen centro de simetra y por ende contienen pequeos momentos dipolares que en su sumatoria darn un momento dipolar total.
En la figura superior vemos un esquema ilustrativo de dipolos dentro de un material piezoelctrico. Veamos primero que si sometemos la pieza a esfuerzos compresivos se reducir la distancia entre dipolos y por ende el momento bipolar total por unidad de volumen del material, lo cual modifica la densidad de carga en las caras de la muestra y as cambia la ddp.
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En segundo lugar veamos que si aplicamos un campo elctrico la densidad de carga en los extremos de la muestra cambia lo que implica variacin en las dimensiones de la muestra
1.9.2.-SEMICONDUCTORES CERMICOS:
Mediante soluciones slidas de xidos metlicos sintetizados de Mn, Ni, Fe, Co y Cu con alta diferencia de resistividad se pueden crear semiconductores con una conductividad intermedia por combinacin de xidos metlicos. EJ: El compuesto cermico magnetita Fe3O4 tiene una resistividad de 10-5 O.m La mayora de los xidos metlicos de transicin tienen una resistividad de 10 8 O .m Si a la magnetita Fe3O4 de alta conductividad le aditamos cantidades crecientes de MgCr2O4 de alta resistividad lograremos reducir gradualmente la conductividad de la solucin slida.
En general la mayora de los materiales cermicos tiene baja conductividad trmica debido a sus fuertes enlaces inicos covalentes y son buenos aislantes trmicos. La figura 10.49 compara conductividades trmicas de distintos materiales cermicos en funcin de la temperatura. Debido a la resistencia al calentamiento son usados como refractarios. 18
Conductividad trmica: La conduccin trmica es un fenmeno por el cual el calor se transporte de una regin de alta temperatura del material a otra de baja temperatura. La conductividad trmica caracteriza la capacidad de un material de transferir calor Los materiales que no poseen electrones libres son aislantes trmicos y solo existe transporte de calor por vibraciones de la red. El vidrio y otras cermicas amorfas tienen conductividades menores que las cermicas cristalinas por su estructura atmica altamente desordenada e irregular.
Esfuerzos trmicos tensiones: Las tensiones trmicas son tensiones inducidas en un cuerpo como resultado de Cambios en la Temperatura. Tensiones resultantes de la expansin y contraccin trmicas confinadas. Lo cual puede producir fracturas y agrietamiento, lo cual se da por lo general en los procesos de secado.
Choque trmico de un material frgil: El enfriamiento rpido de un material introduce en las tensiones superficiales de reaccin, contribuyendo a la formacin de grietas y su propagacin a partir de defectos superficiales y pudiendo producir rotura. La capacidad de un material de soportar esta clase de falla se llama resistencia al choque trmico. Para un cuerpo cermico que es rpidamente enfriado, la resistencia al choque trmico depende no solo de la magnitud del cambio de la Temperatura sino tambin de las propiedades mecnicas y trmicas del material.
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Porosidad: Los poros cumplen una funcin importante, al permitir soportar shocks trmicos (quebraduras como resultado del rpido cambio de temperatura). Cuando la porosidad es ms baja se produce una prdida de la capacidad aislante y de la resistencia al shock.
Punto de fusin: En general, los cermicos tienen alto punto de fusin, debido a sus uniones inico covalentes.
1.9.3.-PROPIEDADES MECNICAS DE LOS CERMICOS:
Considerando a los cermicos como una clase de material, podemos decir que estos son relativamente frgiles, en estos la resistencia a la traccin (o tensin) que soportan los materiales cermicos vara enormemente pero en ningn caso soporta los 172 Mpa Mientras que la resistencia a la compresin es de 5 a 10 veces superior. Por lo general los materiales cermicos son duros y tienen baja resistencia al impacto debido a sus uniones inico covalentes.
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CAPTULO 2: ESTRUCTURAS POLIMRICAS.
2.1.-RESUMEN:
En este tema se pretende dar una visin general de la estructura de los polmeros y de la relacin entre la misma y las propiedades. Se profundiza especialmente en aquellas propiedades que tienen mayor inters prctico durante la vida de servicio de los materiales. A si mismo se estudia el comportamiento reo lgico de los polmeros y su relacin con la estructura del material.
2.2.-INTRODUCCIN: Son macromolculas (cadenas polimricas) formadas por la unin de molculas de menor tamao que se conocen como monmeros.
El proceso de unin se llama polimerizacin. Las cadenas pueden ser de Carbono (orgnicas) o de Silicio (inorgnicas, como la silicona). Un polmero es una molcula muy grande o macromolcula constituida por la unin repetida de muchas unidades pequeas (monmeros) a travs de enlaces covalentes. Ejemplos de polmeros de origen natural son las protenas (seda, enzimas, colgeno), los polisacridos (almidn, celulosa) y los cidos nucleicos, los cuales cumplen funciones especficas en los seres vivos. 21
Dentro de los polmeros sintticos, el ms simple es el polietileno, siendo el etileno el monmero a partir del cual se forma:
La unidad estructural que se repite a lo largo de la cadena polimrica se denomina unidad repetitiva y la reaccin en la cual los monmeros se unen entre s para formar el polmero se denomina reaccin de polimerizacin. Los polmeros consisten en mezclas de molculas de distintas longitudes de cadena y por ello se habla del peso molecular promedio (PM) de un polmero.
2.3.-ESTRUCTURA Y PROPIEDADES DE LOS POLMEROS:
Las propiedades de un polmero estn relacionadas con su estructura, es decir, con el tipo de tomos y la disposicin de stos en la macromolcula. Sin embargo, para poder explicar las propiedades fsicas de un polmero hay que tener en cuenta no slo los enlaces covalentes de su estructura sino tambin las interacciones o fuerzas intermoleculares (atracciones dipolo-dipolo, uniones por puente de hidrgeno, fuerzas de van der Waals) que mantienen juntas las cadenas polimricas. Los polmeros lineales, los que contengan ramificaciones cortas y aqullos con alta tecnicidad podrn disponerse en una red cristalina tridimensional, ya que el buen empaquetamiento de las cadenas polimricas favorecer su acercamiento y la accin de fuerzas intermoleculares intensas entre ellas. Por el contrario, cadenas laterales voluminosas y espaciadas irregularmente impiden la cristalinidad. En todo polmero existen zonas cristalinas y amorfas y el predominio de una zona sobre la otra determinar el grado de grado de cristalinidad del polmero, el cual es un factor importante en la determinacin de sus propiedades. Las fibras sintticas (polisteres, poliacrilonitrilos, poliamidas, poliuretanos) se caracterizan por estar formadas por macromolculas lineales y con grupos polares en su estructura. Son estos grupos los que participan en las intensas atracciones que se generan entre las cadenas polimricas, mantenindolas extendidas y evitando el deslizamiento de unas sobre otras. En polisteres y poliacrilonitrilos las fuerzas intermoleculares son del tipo dipolo-dipolo debidas a los grupos carbonilo y nitrilo, respectivamente:
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En las poliamidas y los poliuretanos, las intensas fuerzas intermoleculares del tipo puente de hidrgeno mantienen unidas las cadenas polimricas:
En los polmeros estereoregulares, por ejemplo el polipropileno isosttico, la disposicin regular de los grupos metilo permite que las cadenas polimricas se empaquen de manera tal que las fuerzas de van der Waals sean suficientes para mantener las cadenas unidas y alineadas.
A diferencia de las fibras sintticas, los elastmeros como el caucho (cis-1,4- polisopreno) no presentan grupos polares en su estructura y las nicas fuerzas intermoleculares que pueden mantener juntas las cadenas polimricas son las fuerzas de van der Waals. Debido a la presencia de dobles enlaces cis en las cadenas, stas no pueden acercarse lo suficiente como para que se establezcan atracciones intermoleculares fuertes. Esta situacin es totalmente diferente en la gutapercha (trans-1,4-poisopreno), el estereoismero trans del caucho. La disposicin trans de los dobles enlaces en las cadenas polimricas permite que stas se dispongan en zigzag y se acerquen para dar un producto cristalino:
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El calentamiento de los polmeros mencionados anteriormente romper las fuerzas que mantienen unidas las cadenas polimricas, permitiendo el deslizamiento de stas y por consiguiente el ablandamiento del polmero. Esta es una caracterstica de los polmeros termoplsticos, los cuales pueden ser moldeados al calentarlos. Las resinas o polmeros entrecruzados, en cambio, estn formados por una nica molcula gigante con uniones covalentes exclusivamente. El calentamiento de este tipo de polmeros (termoestables) no conduce al ablandamiento sino a la formacin de ms entrecruzamientos (nuevos enlaces covalentes) y finalmente a altas temperaturas a la degradacin del polmero.
La accin de un solvente sobre un polmero depender de la estructura de ste y de las caractersticas del solvente. Sern solventes apropiados para disolver un polmero termoplstico aqullos que puedan formar fuertes enlaces secundarios (dipolo-dipolo, puente de hidrgeno y van der Waals) con las cadenas del polmero, reemplazando las fuerzas de atraccin entre stas. De esta manera, solventes polares tendern a disolver polmeros polares, mientras que los no polares se disolvern en solventes no polares. Por ejemplo, el alcohol polivinlico es soluble en agua y el poliestireno en tolueno. La solubilidad de un polmero en un solvente y a una temperatura dada disminuir con el aumento del peso molecular promedio del polmero.
2.4.-REACCIONES DE POLIMERIZACION.
2.4.1.-POLIMERIZACION POR REACCIN EN CADENA (ADICIN):
En este tipo de polimerizacin se genera una especie reactiva a partir del monmero, la cual participa en una reaccin que la consume y que a su vez genera otra especie similar, de modo que cada reaccin depende de la formacin de una especie reactiva en la reaccin anterior, por lo cual esta reaccin tambin se denomina reaccin en cadena. Las especies reactivas pueden ser radicales, cationes o aniones. Los polmeros de adicin as formados tienen pesos moleculares superiores a 100.000.
-Polimerizacin por radicales.
Para generar un radical a partir de un monmero se requiere el agregado de un iniciador, es decir, de una molcula que genere radicales en condiciones suaves (temperatura < 100 C, luz ultravioleta). De otro modo, se necesitaran temperaturas 24
muy elevadas o irradiacin con luz de onda corta para general un radical a partir de un monmero vinlico. Reaccin de iniciacin:
Reaccin de propagacin:
El radical formado a partir del iniciador se adiciona al doble enlace del monmero generando un nuevo radical. En monmeros de tipo vinlicos asimtricos (RCH=CH2), el iniciador se une al carbono menos sustituido de los alquenos para dar el radical ms sustituido (el ms estable):
R = Cl (cloruro de vinilo), CN (acrilonitrilo), Ph (estireno), CH3 (propeno). A continuacin se producen una serie de reacciones de adiciones cabeza-cola:
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Reaccin de terminacin:
Por desproporcion de los radicales:
Por transferencia de cadena:
Es la reaccin de un radical polimrico con una molcula (monmera, solvente (por ej Cl4C), un agente de transferencia) o con otro radical polimrico por transferencia de un tomo de hidrgeno:
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Polimerizacin inica:
La reaccin de polimerizacin en cadena puede proceder con iones en lugar de radicales libres como partculas propagadoras de la cadena polimrica. Estas pueden ser cationes o aniones, dependiendo del iniciador que se emplee.
-Polimerizacin catinica:
Los iniciadores son cidos (H2SO4, KHSO4) o complejos de cidos de Lewis y agua o alcohol como catalizador. Un sistema muy usado es BF3/ROH:
El protn del cido conjugado acta como catin iniciador. En el primer paso de la reaccin de propagacin se forma el carbonacin ms estable, al cual se van uniendo los monmeros:
La reaccin de terminacin ocurre por agregado de compuestos polares, por ejemplo, 27
Alcoholes o agua, los cuales reaccionan con el macro catin para dar un polmero neutro:
La polimerizacin catinica procede muy rpidamente a bajas temperaturas. Por ejemplo, la polimerizacin del isobutileno (CH2=C(CH3)2) se lleva a cabo comercialmente a 65C.
-Polimerizacin aninica:
Se inicia por adicin de un anin al doble enlace del monmero. Como aniones iniciadores se utilizan HO-, NH2 - y carbaniones de compuestos organometlicos como butillitio (BuLi: CH3CH2CH2CH2 -Li+):
En ausencia de impurezas las cadenas siguen creciendo hasta que se termina el monmero. El extremo aninico es perfectamente estable y el tamao de las cadenas aumentar por agregado de ms monmero. Por esta razn estos materiales fueron llamados polmeros vivientes. Impurezas dadoras de protn (agua o cidos) terminan la cadena:
La polimerizacin aninica tiene consecuencias prcticas importantes: 28
Polimerizacin en bloque: si se introduce un segundo monmero despus de que se haya terminado la carga inicial del primero, las cadenas aninicas continan la polimerizacin con el segundo, dando un copolmero en bloque.
Qu monmeros pueden polimerizarse por este mecanismo?
Aqullos que presentan sustituyentes a tractores de electrones: CH2=CHR con R = CN, fenilo, carbonilo.
2.4.2.-POLIMERIZACION POR CONDENSACIN:
La polimerizacin por condensacin o reaccin por etapas es la forma de polmeros por mediacin de reacciones qumicas intermoleculares que normalmente implican ms de una especie manomtrica y generalmente se originan un subproducto de bajo peso molecular, como el, agua que se elimina.
2.5.-ADITIVOS AGREGADOS A POLIMEROS: AGENTES DE REFUERZO: Incrementan las propiedades estructurales del polmero, tales como dureza, fuerza y retencin de estas propiedades a mayor temperatura. Ej.: fibra de vidrio en nylon, polipropileno.
FILLERS: Son materiales articulados cuya funcin es extender el polmero y reducir su costo. Ej.: CaCO3, mica, asbestos (incrementan adems la resistencia al calor).
ESTABILIZANTES: Son compuestos que inhiben la degradacin del polmero por exposicin a la radiacin ultravioleta o al oxgeno, o a altas temperaturas durante operaciones de procesamiento. Ej.: xidos metlicos, los cuales reaccionan por ejemplo con el HCl proveniente de la degradacin trmica del PVC. Antioxidantes (compuestos que capturan radicales libres) se agregan en cauchos sintticos para evitar la reaccin de dobles enlaces en el polmero con O2 uO3.
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PIGMENTOS: Son slidos finamente divididos que se agregan para colorear plsticos. Si el polmero es transparente le impartirn opacidad. Ej.: TiO2, CaCO3 (tambin utilizado como filler), carbn.
COLORANTES: Son compuestos coloreados que se unen a travs de fuerzas intermoleculares intensas con grupos polares del polmero o reaccionan para formar enlaces covalentes con grupos funcionales en el polmero.
PLASTIFICANTES: Son compuestos orgnicos de bajo peso molecular que reducen la rigidez del polmero. Un plastificante forma uniones intermoleculares con las molculas del polmero separndolas, proveyendo a las cadenas polimricas de mayor espacio para moverse, dando como resultado una msa ms fcilmente deformable. El polmero ms comnmente plastificado es el PVC, siendo un plastificante tpico de PVC el ftalato de dioctilo, el dister del cido ftlico y el 2-etilhexanol:
El PVC no plastificado es un material rgido usado para caeras, marcos de ventanas, etc. Las propiedades del PVC plastificado dependen del contenido de plastificante. PVC plastificado se usa en materiales de tapizado, cobertura de alambres y cables, cortinas de duchas y film de embalaje.
AGENTES DE CURADO: Son aditivos cuya funcin es producir un polmero entrecruzado, termoestable a partir de un polmero inicialmente lineal o ramificado. Un monmero vinlico como el estireno y un iniciador de radicales libres se disuelven en un polister insaturado de bajo peso molecular y lo entrecruzan por un mecanismo de adicin que involucra a los dobles enlaces del polister. Perxidos orgnicos se usan como agentes de curado para polmeros termoplsticos saturados. Por calentamiento se producen radicales libres que tomos de hidrgeno del polmero, dejando electrones no compartidos en las cadenas, los cuales se combinan para formar entrecruzamientos:
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CAPITULO3: ESTRUCTURAS SEMICONDUTORAS: 3.1INTRODUCCION: La gran mayora de los dispositivos de estado slido que actualmente hay en el mercado se fabrican con un tipo de materiales conocidos como semiconductores. De ah que vamos a empezar nuestro estudio examinando las propiedades fsicas de dichos elementos. Estudiaremos las caractersticas de los materiales que nos permiten distinguir un semiconductor de un aislante y de un conductor y veremos, adems, el dopado de un semiconductor con impurezas para controlar su funcionamiento.
3.2.-SEMICONDUCTORES ESTRUCTURA:
En los semiconductores ms usuales, silicio y germanio, su estructura cristalina (disposicin atmica que se repite peridicamente en tres dimensiones) es la que aparece reflejada en la Figura y se denomina estructura diamantina.
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Para comprenderla, hay que tener en cuenta que tanto el Si como el Ge poseen 4 electrones de valencia, esto es, 4 electrones externos. Pues bien, en la estructura diamantina, cada tomo est rodeado de 4 tomos vecinos y, adems, cada tomo tiende a compartir uno de sus cuatro electrones de valencia con cada uno de los cuatro tomos vecinos de los que toma otro electrn en proceso anlogo (Figura Las barras de conexin de la Figura pueden considerarse como pistas a lo largo de cada una de las cuales se mueven dos electrones en uno y otro sentido entre los tomos asociados. Esta disposicin de pares de electrones compartidos entre tomos vecinos es lo que se denomina enlace covalente.
La Figura es una representacin en dos dimensiones de la estructura diamantina para un semiconductor puro (sin defectos ni elementos extraos) a una temperatura muy baja, esto es, cuando todos los electrones de valencia permanecen ligados en los enlaces covalentes no disponindose, por lo tanto, de cargas libres que puedan moverse por el cristal bajo la presencia de un campo elctrico externo aplicado. En este caso, el material se comporta como un aislante.
Sin embargo, a temperaturas superiores, la vibracin trmica de los tomos de la red cristalina da lugar a sacudidas en las que se rompen algunos enlaces covalentes disponindose, en tal caso, de cargas libres que pueden moverse por todo el cristal. Esta situacin queda reflejada en la Figura. La energa necesaria para romper un enlace 32
covalente ha de ser igual o mayor que EG (el significado fsico de este parmetro energtico lo veremos posteriormente en el modelo de las bandas de energa). EG es, en esencia, una energa de ionizacin, pero mucho menor que las energas de ionizacin de los tomos aislados ya que muchos tomos del cristal influyen sobre el movimiento de cada electrn ligado. Algunos datos: EG (Si) 1,12 eV y EG (Ge) 0,7 eV a Ta = 300 K.
La peculiaridad ms destacable de la vacante dejada en el enlace covalente es que se comporta como si fuera una nueva partcula libre de carga positiva +q (q =1,610-19 C) y de masa comparable a la del electrn. Esta partcula aparente recibe el nombre de hueco.
El mecanismo por el cual los huecos contribuyen a la conduccin de corriente elctrica puede explicarse cualitativamente como sigue: cuando un enlace est incompleto, de forma que hay un hueco, es relativamente fcil que un electrn ligado de un tomo vecino abandone el enlace covalente para llenar el hueco.
Un electrn que deja su enlace para llenar un hueco deja, a su vez, otro hueco en su posicin inicial. Por tanto, el hueco se mueve efectivamente en direccin contraria al electrn ligado.
Es decir, el movimiento del hueco puede considerarse como la transferencia de la ionizacin de un tomo a otro efectuada por el movimiento de los electrones ligados entre sus enlaces covalentes. El electrn liberado inicialmente por la vibracin trmica no interviene en este proceso y puede desplazarse de manera totalmente independiente.
Se ha convertido en un electrn de conduccin. 33
Por lo tanto, en un semiconductor intrnseco (entendiendo como tal un semiconductor en el que los tomos extraos se encuentran en una proporcin no mayor de un tomo por cada 109 tomos del propio semiconductor) los electrones de conduccin y los huecos se encuentran siempre en igual nmero, ya que al romper un enlace covalente se crean simultneamente un electrn de conduccin y un hueco que pueden moverse con independencia uno del otro.
Adems, se ha visto, que el nmero de portadores presentes en un semiconductor intrnseco es funcin de la temperatura de trabajo, T (ver Figura).
Siendo ni la concentracin intrnseca del material. En el caso del Si, a temperatura ambiente (300K):
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3.3.-ESTRUCTURA ATMICA DE LOS CONDUCTORES:
Una propiedad comn a prcticamente todos los materiales, es la de permitir, en algn grado, la conduccin de la corriente elctrica, pero as como algunos materiales son buenos conductores, otros son malos conductores de dicha corriente. 35
Desde este punto de vista, los materiales pueden clasificarse en conductores y conductores. Un material es conductor cuando puede desempear esa funcin en un circuito, independiente del valor de su conductividad. Los conductores en general pueden clasificarse en: metlicos, electrolticos y gaseosos. En los conductores metlicos la conduccin es electrnica, es decir, los portadores de cargas son electrones libres. Pertenecen a este grupo los metales y aleaciones. Se suele hablar en estos casos de conduccin metlica. En los conductores electrolticos la conduccin es inica; pertenecen a este grupo los llamados electrolitos, es decir, los cidos (bases o sales, disueltos o fundidos). Las molculas de estas sustancias, cuando se disuelven o funden, de disocian total o parcialmente formando iones positivos o negativos, y estos iones son portadores de cargas. En estos casos, el paso de la corriente elctrica corresponde a un desplazamiento de material, y viene acompaada de una reaccin qumica. En los conductores metlicos la electricidad circula a travs de la materia, mientras que en los conductores electrolitos circula con la materia. Los gases pertenecen a un tercer grupo de conductores, los conductores gaseosos; en estado normal, los gases no son conductores, pero pueden convertirse relativamente en buenos conductores cuando estn ionizados. Normalmente no se utilizan los gases para conducir corriente, salvo en casos muy especiales. La conduccin a travs de los gases no cumple con la Ley de Ohm. La mayor parte de los dispositivos electrnicos modernos estn fabricados a partir de semiconductores. Para comprender el funcionamiento de estos dispositivos cuando se insertan en un circuito elctrico, es necesario conocer el comportamiento de los componentes desde un punto de vista fsico. Por ello, en este tema se presentan las propiedades y caractersticas fundamentales de este tipo de materiales. Si los conductores son materiales que disponen de electrones libres y los aislantes carecen de ellos, los semiconductores se encuentran en una situacin intermedia: a la temperatura de 0 K se comportan como aislantes, pero mediante una aportacin de energa puede modificarse esta situacin, adquiriendo un comportamiento ms cercano al de los conductores. Los materiales semiconductores de uso comn en la tecnologa microelectrnica son el silicio, el germanio y el arseniuro de galio. Se trata de elementos del grupo IV de la tabla peridica, o bien combinaciones de elementos de los grupos III y V. De todos ellos, el ms empleado actualmente es el silicio, por lo que la discusin en este tema va a estar centrada en dicho elemento. No obstante la gran mayora de lo aqu expuesto puede aplicarse a cualquier semiconductor.
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3.3.1- ESTRUCTURA DEL SILICIO: El silicio es un elemento con una gran cantidad de aplicaciones. Es el segundo elemento ms abundante en la corteza terrestre (despus del oxgeno) con un porcentaje en peso del 25,7%. Est presente en multitud de materiales, tan diversos como la arena, la arcilla, el vidrio o el hueso. El silicio puro no se encuentra en la naturaleza, pero bajo las condiciones adecuadas pueden obtenerse en forma de estructuras mono cristalinas. En stas los tomos se disponen segn una red tipo diamante con simetra cbica, en donde cada tomo forma enlaces covalentes con otros cuatro adyacentes. As todos los tomos tienen la ltima rbita completa con ocho electrones (Figura 1).
Figura 1: Estructura cristalina del silicio puro En la figura se aprecia que todos los electrones de valencia estn asociados a un enlace covalente. Por tanto, al no existir portadores libres, el silicio puro y mono cristalino a 0 K se comporta como un material aislante. 3.3.2.- PORTADORES DE CARGA. EL ELECTRON Y EL HUECO: En los materiales conductores la circulacin de corriente es posible gracias a la existencia de electrones libres. En los semiconductores tambin son los electrones los responsables de la corriente. Sin embargo, puesto que en este caso provienen de un enlace covalente y no de una nube electrnica, el fenmeno es ms complejo, y para su explicacin se introduce un nuevo portador de carga ficticio: el hueco. 3.3.2.1.- GENERACION TERMICA DE PORTADORES. EL ELECTRON Y EL HUECO: Si se eleva la temperatura del mono cristal de silicio por encima de 0 K, parte de la energa trmica permite liberar alguno de los electrones. Ello produce dos efectos: 37
Aparece un electrn libre capaz de moverse a travs de la red en presencia de un campo elctrico. En el tomo al que se asociaba el electrn aparece un defecto de carga negativa, es decir, una carga positiva, que se denomina hueco. Globalmente, el cristal mantiene la neutralidad elctrica, ya que no ha ganado ni perdido cargas. Cuando se producen electrones libres en un semiconductor nicamente por agitacin trmica, existen huecos y electrones en nmeros iguales, porque cada electrn trmicamente excitado deja detrs de s un hueco. Un semiconductor con un nmero igual de huecos y electrones se denomina intrnseco. Recapitulando, los semiconductores se diferencian: De los aislantes: La energa para liberar un electrn es menor en el semiconductor que en el aislante. As a temperatura ambiente el primero dispone ya de portadores libres. De los conductores: Los semiconductores poseen dos tipos de portadores de carga: el electrn y el hueco. En el caso del silicio puro mono cristalino, el nmero de portadores libres a temperatura ambiente es lo suficientemente bajo como para asegurar una alta resistividad. 3.3.2.2.- RECOMBINACION DE PARES ELECTRON-HUECO: Tal y como se acaba de explicar, el hueco es un enlace covalente no satisfecho. Si un electrn atraviesa la zona en la que se encuentra el hueco puede quedar atrapado en l. A este fenmeno se le denomina recombinacin, y supone la desaparicin de un electrn y de un hueco. Sin embargo, como en el caso anterior, el material mantiene su neutralidad elctrica. 3.3.2.3.- IMPURIFICACION O DOPADO DE LOS SEMICONDUCTORES: En un semiconductor intrnseco las concentraciones de huecos y de electrones pueden alterarse mediante la adicin de pequeas cantidades de elementos llamados impurezas o dopantes, a la composicin cristalina. Como veremos a lo largo de este curso, es esta caracterstica de los semiconductores la que permite la existencia de circuitos electrnicos integrados. La cuestin es: Qu sucede si adems de elevar la temperatura por encima de 0 K consideramos la presencia de impurezas en el silicio?. Supongamos que sustituimos un tomo de silicio (que pertenece al grupo IV) por otro de fsforo (grupo V), pentavalente. Como slo hay la posibilidad de establecer cuatro enlaces covalentes con los tomos de silicio adyacentes, un electrn quedar libre. Teniendo en cuenta esto, es fcil deducir que es lo que ocurrir si se sustituye un tomo de silicio por otro de un elemento perteneciente al grupo III, el boro por 38
ejemplo: evidentemente se introducir un hueco, ya que el boro solo aporta tres electrones de valencia. Las dos situaciones se clarifican en la Figura 2.
Figura 2: Introduccin de impurezas en el silicio Si la introduccin de impurezas se realiza de manera controlada pueden modificarse las propiedades elctricas en zonas determinadas del material. As, se habla de dopado tipo P N (en su caso, de silicio P N) segn se introduzcan huecos o electrones respectivamente. Centrmonos ahora en el silicio tipo P. En la prctica, a temperatura mayor que cero este material estar formado por: -Huecos procedentes del dopado. -Huecos procedentes de la generacin trmica de pares e-/h+. -Electrones procedentes de la generacin trmica de pares e-/h+. -Electrones y huecos procedentes de impurezas no deseadas. Habitualmente, a temperatura ambiente, el nivel de dopado es tal que los huecos procedentes de l superan en varios rdenes de magnitud al resto de portadores. Ello confiere el carcter global P del material. Sin embargo, ha de tenerse en cuenta que existen electrones. En este caso, los huecos son los portadores mayoritarios, y los electrones los minoritarios. Si se trata de un material de tipo N, los portadores mayoritarios sern 39
los electrones, y los minoritarios los huecos. Con la tabla siguiente se pretende rematar estos conceptos.
Material Portadores mayoritarios Portadores minoritarios Silicio Puro - - Silicio tipo P Huecos Electrones Silicio tipo N Electrones Huecos
Hay que resaltar nuevamente que el dopado no altera la neutralidad elctrica global del material. 3.4.- INFLUENCIA DE LA TEMPERATURA SOBRE LOS SEMICONDUCTORES: Al presentar el concepto de portadores mayoritarios y minoritarios se ha asumido una hiptesis de trabajo: que a temperatura ambiente (25C) la concentracin de portadores provocada por generacin trmica es mucho menor que la causada por los dopados. Pues bien, si se eleva la temperatura sobre la de ambiente se aumentar la tasa de pares electrn/hueco generados. Llegar un momento en el que, si la temperatura es lo suficientemente elevada, la cantidad de pares generados enmascare a los portadores presentes debidos a la impurificacin. En ese momento se dice que el semiconductor es degenerado, y a partir de ah no se puede distinguir si un material es de tipo N o P: es la temperatura a la cual los dispositivos electrnicos dejan de operar correctamente. En el caso del silicio, esta temperatura es de 125 C. 3.4.1.- CONDUCCION ELECTRICA EN SEMICONDUCTORES Dada la especial estructura de los semiconductores, en su interior pueden darse dos tipos de corrientes: -Corrientes por arrastre de campo -Corrientes por difusin En los siguientes sub apartados se explica cada uno de estos tipos de conduccin. CORRIENTE POR ARRASTRE DE CAMPO 40
Supongamos que disponemos de un semiconductor con un cierto nmero de electrones y de huecos, y que aplicamos en su interior un campo elctrico. Veamos que sucede con los portadores de carga:
Electrones libres: Obviamente, la fuerza que el campo elctrico ejerce sobre los electrones provocar el movimiento de estos, en sentido opuesto al del campo elctrico. De este modo se originar una corriente elctrica. La densidad de la corriente elctrica (nmero de cargas que atraviesan la unidad de superficie en la unidad de tiempo) depender de la fuerza que acta (qE), del nmero de portadores existentes y de la facilidad con que estos se mueven por la red, es decir: Je = en(qE) En donde: Je = Densidad de corriente de electrones e = Movilidad de los electrones en el material n = Concentracin de electrones q = Carga elctrica E = Campo elctrico aplicado
La movilidad e es caracterstica del material, y est relacionada con la capacidad de movimiento del electrn a travs de la red cristalina. Huecos: El campo elctrico aplicado ejerce tambin una fuerza sobre los electrones asociados a los enlaces covalentes. Esa fuerza puede provocar que un electrn perteneciente a un enlace cercano a la posicin del hueco salte a ese espacio. As, el hueco se desplaza una posicin en el sentido del campo elctrico. Si este fenmeno se repite, el hueco continuar desplazndose. Aunque este movimiento se produce por los saltos de electrones, podemos suponer que es el hueco el que se est moviendo por los enlaces. Este ltimo prrafo se entiende a la perfeccin con Figura 3. 41
Figura 3: Movimiento de los huecos debido al movimiento de los electrones La carga neta del hueco vacante es positiva y por lo tanto, se puede pensar en el hueco como una carga positiva movindose en la direccin del campo elctrico. Obsrvese que los electrones individuales de enlace que se involucran en el llenado de los espacios vacantes por la propagacin del hueco, no muestran movimiento continuo a gran escala. Cada uno de estos electrones se mueve nicamente una vez durante el proceso migratorio. En contraste, un electrn libre se mueve de forma continua en la direccin opuesta al campo elctrico. Anlogamente al caso de los electrones libres, la densidad de corriente de huecos viene dada por: Jh = hp(qE) En donde: Jh = Densidad de corriente de huecos h = Movilidad de los huecos en el material p = Concentracin de huecos q = Carga elctrica del hueco: igual y de signo opuesto a la del electrn E = Campo elctrico aplicado
La movilidad h es caracterstica del material, y est relacionada con la capacidad de movimiento del hueco a travs de los enlaces de la red cristalina. La facilidad de desplazamiento de los huecos es inferior a la de los electrones. Consideremos ahora el caso de un semiconductor que disponga de huecos y electrones, al que sometemos a la accin de un campo elctrico. Hemos visto cmo los electrones se movern en el sentido opuesta a la del campo elctrico, mientras que los huecos lo harn en segn el campo. El resultado es un flujo neto de cargas positivas en 42
el sentido indicado por el campo, o bien un flujo neto de cargas negativas en sentido contrario. En definitiva, se mire por donde se mire, la densidad de corriente global es la suma de las densidades de corriente de electrones y de huecos: J = Jh + Je = hp(qE) + en(qE) CONDUCCION POR DIFUSION DE PORTADORES: Antes de entrar en el fenmeno de conduccin por difusin vamos a explicar el concepto de difusin. Imaginad (el que no tenga mucha imaginacin que mire la Figura 4) que tenemos una caja con dos compartimentos separados por una pared comn. En un compartimento introducimos un gas A, y en el otro un gas B.
Figura 4: Difusin de dos gases a travs de una membrana porosa
Si en un momento determinado se abre una comunicacin entre las dos estancias parte del gas A atravesar la pared para ocupar el espacio contiguo, al igual que el B. El resultado final es que en ambas estancias tendremos la misma mezcla de gases A+B. La difusin de partculas es un mecanismo de transporte puramente estadstico, que lleva partculas de donde hay ms, a donde hay menos, siempre que no haya ninguna fuerza externa que sea capaz de frenar dicho proceso. Matemticamente puede expresarse esta idea mediante la primera ley de Fick, que establece que el flujo de partculas que atraviesa una superficie (J partculas/s/m2) es proporcional al gradiente de concentracin (c partculas/m3) de dichas partculas:
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A la constante de proporcionalidad se le denomina difusividad, y tiene dimensiones de m2/s. Qu aplicacin tiene esto a la conduccin en los semiconductores? Pensad en lo qu sucedera si, por las razones que sean, tuviramos un semiconductor tipo P cuya concentracin de huecos no fuera constante, sino variable segn la direccin x. Los huecos tendern a emigrar de la regin de alta concentracin a la de baja concentracin. Esta migracin de portadores, que se muestra en la Figura 5, es un proceso puramente estadstico, originado por el movimiento trmico aleatorio de los portadores. No est relacionado con la carga de los mismos o con la presencia de ningn campo elctrico.
Figura 5: Densidad de corriente de difusin de huecos La difusin no depende del valor absoluto de la concentracin de portadores, sino de solamente de su derivada espacial, es decir, de su gradiente. En los metales, la difusin no es un proceso de importancia, porque no existe un mecanismo mediante el cual se pueda generar un gradiente de densidad. Dado que un metal nicamente hay portadores negativos de carga, cualquier gradiente de portadores que se pudiera formar desequilibrara la neutralidad de la carga. El campo elctrico resultante creara una corriente de arrastre, que de manera instantnea anulara el gradiente antes de que pudiera darse la difusin. Por contra, en un semiconductor hay portadores positivos y negativos de carga, por lo que es posible la existencia de un gradiente de densidad de huecos y de electrones, mientras se mantiene la neutralidad de la carga. En un semiconductor, los componentes de la densidad de corriente de difusin pueden expresarse de forma unidimensional mediante la ecuacin: 44
En donde: J difusin = Densidad de corriente de difusin q = Carga del electrn De, Dh = Difusividad de los electrones y de los huecos n = Concentracin de electrones p = Concentracin de huecos
El segundo trmino de la expresin tiene signo negativo porque la pendiente negativa de los huecos da lugar a una corriente de los huecos. Calcular el nmero de portadores generados debido a la temperatura a 300K para silicio y el arseniuro de galio. Apoyndose en el apartado anterior, estimar la resistividad del Silicio y el arseniuro de galio a 300K. Datos: La movilidad de los electrones y huecos en el arseniuro de galio a 300K es de 8600 cm2/s y 250cm2/s respectivamente. Explique porqu, segn la grfica de densidad de dopado resistividad, para una misma densidad de dopado la resistividad es mayor cuando se utiliza el boro y no el fsforo. Si se desea obtener silicio tipo P con una resistividad de 1 Wcm a 300K, indicar con que material y concentracin de dopante que se debe emplear. y si se deseara obtener silicio N de idntica resistividad? Se define la resistencia por cuadrado de un material como el cociente entre la resistividad y el espesor, tal y como se indica en la figura
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La resistencia por cuadrado representa la resistencia entre dos caras opuestas verticales. Si se considera que t vale 0.8mm, calcular la densidad de dopado tipo P para que la resistencia por cuadrado valga 1kW. Se quiere realizar en un proceso de fabricacin estndar una resistencia de 375kW. Si el proceso se realiza con tecnologa de 0.8mm y en las que t=0.4mm y el dopado ND=1015 at/cm3. Calcular La resistencia por cuadrado Las dimensiones de la resistencia El nmero de cuadrados que forman la resistencia de 375kW. Si los coeficientes de difusin De y Dh de los electrones y huecos en el silicio estn relacionados mediante con las movilidades e y h con la expresin
K= constante de Boltzman =1.381023J/K q=carga del electrn = 1.610-19c. T= temperatura en Kelvin
Comprese los coeficientes de difusin para silicio tipo N con una densidad de dopado de 1014 at/cm3 para 25C y 100C. Si la concentracin de electrones a lo largo de la direccin x en un material semiconductor tipo N es la que aparece en la figura, calcular la densidad de corriente debido a la difusin. Indicar el sentido del movimiento de los electrones. Datos: T=300K; ND=1015at/cm3. 46
3.5.-ESTRUCTURA ATMICA DE LOS AISLANTES: El cmo un material responde a las fuerzas elctricas depende de cmo se hallen dispuestos sus tomos. Cuando los tomos se hallan unidos juntos para formar slidos, lquidos o gases, la forma en que se hallan dispuestos los electrones depende de los detalles finos de las fuerzas entre los tomos.
En particular, determinan si los electrones son capaces de moverse en torno al material en respuesta a fuerzas elctricas externas, o lo que es lo mismo, si la corriente elctrica puede moverse a travs del material. 47
Un conductor es un material a travs del cual puede fluir la corriente elctrica. Para ser un conductor, un material debe contener cargas elctricas libres. Hay muchos tipos de conductores, y difieren en el tipo de cargas libres disponibles y en cmo son creadas.
En materiales como los metales, algunos electrones no se hallan ligados a sus tomos individuales, sino que son libres de moverse a travs del material: en efecto son compartidos por todos los tomos.
Esas partculas sueltas reciben el nombre de electrones de conduccin. En un metal como el cobre, aproximadamente un electrn por tomo es de ese tipo. Los metales son los conductores ms comnmente usados. 48
Sin embargo no hace falta que un material sea un metal para que conduzca la electricidad. Cuando encendemos una luz fluorescente, algunos de los tomos en el gas se ionizan y pierden electrones.
Esos electrones libres pueden moverse cuando es aplicado un voltaje. Del mismo modo, si disolvemos sal en agua, habr iones cargados flotando en el agua. Esos iones son libres de moverse, y en consecuencia pueden constituir una corriente elctrica. Tanto el agua salada como los gases ionizados son ejemplos de conductores no metlicos.
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Para que un material que transporte electricidad sea asequible, debe ser barato y buen conductor elctrico, por lo cual el cobre es ideal ya que rene esas dos caractersticas. Por ello es el conductor ms usado, como por ejemplo en los cables elctricos de las casas.
El aluminio es tambin usado ocasionalmente con esa finalidad, pero no es tan buen conductor como el cobre. En situaciones en las que el coste no es una objecin, como en los satlites espaciales, en los circuitos elctricos se usa el oro y la plata porque son ligeramente mejores conductores que el cobre, aunque son mucho ms caros. 50
En un aislante, los electrones se hallan fuertemente ligados a sus tomos. Un aislante es un material que no transporta la corriente elctrica. Las fuerzas elctricas externas no son lo bastante fuertes como para apartar los electrones de sus molculas madre en un material as. En consecuencia, los electrones no se mueven cuando es aplicado un voltaje, y no fluye ninguna corriente. La madera, el plstico, el caucho y el cristal son ejemplos de aislantes. 3.6.-PROPIEDADES DE LOS MATERIALES SEMICONDUCTORES: Material slido o lquido capaz de conducir la electricidad mejor que un aislante, pero peor que un metal. La conductividad elctrica, que es la capacidad de conducir la corriente elctrica cuando se aplica una diferencia de potencial, es una de las propiedades fsicas ms importantes. Ciertos metales, como el cobre, la plata y el aluminio son excelentes conductores. Por otro lado, ciertos aislantes como el diamante o el vidrio son muy malos conductores. A temperaturas muy bajas, los semiconductores puros se comportan como aislantes. Sometidos a altas temperaturas, mezclados con impurezas o en presencia de luz, la conductividad de los semiconductores puede aumentar de forma espectacular y llegar a alcanzar niveles cercanos a los de los metales. Las propiedades de los semiconductores se estudian en la fsica del estado slido.
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CONCLUSION: Estructura cermica: Los materiales cermicos son materiales inorgnicos, no metlicos formados por elementos metlicos y no metlicos unidos primariamente mediante enlaces inicos y/o covalentes.
En general, la mayora de los materiales cermicos son tpicamente duros y quebradizos con poca resistencia a los impactos y a la ductilidad. Los cermicos cuentan con importantes propiedades elctricas y trmicas con importantes aplicaciones en la industria.
Los vidrios son productos inorgnicos cermicos de fusin que se han enfriado hasta un slido rgido sin cristalizacin.
Tienen propiedades especiales como transparencia dureza a la temperatura ambiente y excelente resistencia a la mayora de los ambientes. Estructuras polimricas: Los cristales fibrilares pueden producirse en los procesos de inyeccin o de extrusin, o durante el proceso de estirado de algunos materiales que se emplean en la industria textil.
Los cristalino polimricos tambin pueden agruparse de otras maneras, generando fibrillas.
Estructuras semiconductoras: Estudiamos las caractersticas de los materiales y la estructura atmicas de los materiales semiconductores.