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semi-conducteurs
UE 824 lectrochimie et nergie Cours de . Mah 4h
Dmonstration
Caractrisation exprimentale dun semi-conducteur par impdance
lectrochimique
III.EXERCICE DAPPLICATION
12-
Semiconducteur intrinsque
BC
BC
Cration de paires e-/h+
par excitation thermique
Eg
BV
eh+
BV
T 0K
T 0K
EFi
EC
EFi
EV
T 0K
EC EV 1
N
E EV
kTLog V C
2
2
NC
2
n p ni NV NC exp(
Eg
2kT
Si 300 K
ni=1,5.1015 cm-3
Semiconducteur dop
Introduction dun lment tranger X dans le rseau pour augmenter la conductivit
X = Donneur
X = Accepteur
2 types de dopage
(ex : le P pour le Si )
(ex : le B pour le Si )
X X+ + e-
X + e- X-
Type n
Type p
EF est reli au potentiel
chimique des lectrons
dans le SC
NA<<ND
EC
NA>>ND
EC
EF,n
EFi
EV
Porteurs de charges majoritaires =
lectrons
EFi
La position du niveau
de Fermi va tre
modifie et dpendra
du taux de dopage
EV
EF,p
Interface SC/Solution
Formation dune interface SC/lectrolyte
E
EC
EF,n
EC
EF,n
Erdox
Erdox
EV
EF,n = Erdox
SC type n
EV
Electrolyte
ZCE
(zone de charge despace)
eVSC
eVH
Erdox
SC type n
Electrolyte
- - -
Bandes plates
V = Vbp
Dpltion
= appauvrissement en porteurs majoritaires
E
E
EC
EF,n
Inversion
E
- - - -
EV
Type n
E
EC
EF,p
EV
V
Type p
Type n
INVERSION DE
EF ET DE EI
EN SURFACE
FORTE INVERSION
EFFB
- - - - EC
S = 2 F
EF=EFFB - qS
-qF
EI
EN SURFACE, PORTEURS MINORITAIRES PLUS
- + NOMBREUX QUE DE LES PORTEURS MAJORITAIRES
+ NE LTAIENT A Efb (s=0)
+
++
+++
EV
VFB
VINV
E /V
Type n
GALIT DE
EF ET DE EI
EN SURFACE
- - - -
EC
EFFB
EF=EFFB + qS
S = F
-qF
EI
+
++
EV
VFB
E /V
Type n
DPLTION
-
- - -
EC
EFFB
-qF
EF=EFFB + qS
EI
+
++
VFB
EV
E /V
Type n
BANDES PLATES
EC
-qF
EFFB
EI
VFB
EV
E /V
Type n
ACCUMULATION
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
- -
EC
-qF
EF=EFFB - qS
EFFB
EI
VFB
+ + +
EV
E /V
Type p
ACCUMULATION
-
- - -
-qF
EC
EI
EFFB
VFB
EF=EFFB + qS
+
+ +
EV
E /V
Type p
BANDES PLATES
EC
-qF
EI
EFFB
VFB
EV
E /V
Type p
DPLTION
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
- -
EC
-qF
EI
EF=EFFB - qS
EFFB
+++
VFB
EV
E /V
Type p
GALIT DE
EF ET DE EI
EN SURFACE
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
- - -
EC
EI
-qF
EF=EFFB - qS
S = F
EFFB
++++
VFB
EV
E /V
Type p
INVERSION DE
EF ET DE EI
EN SURFACE
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
- - - -
FORTE INVERSION
EC
EI
-qF
EF=EFFB - qS
VINV
S = 2 F
++++
EV
EFFB
VFB
E /V
Mott-Schottky
Lun des type de porteur de charge
est immobile, lautre,porteur de charge
majoritaire reste mobile :
Exemple SC type-p en rgime de
dpltion (appauvrissement de
Charge interfaciale
surface)
Coeur
Zone de charge desace
de
llectrode
+
+
+
+
+
+
+
+
+
+
log Concentration
log Concentration
Charge interfaciale
Coeur
de
llectrode
+
+
+
+
+
+
+
+
Zone de charge despace
+
Solutions lectrolytiques
Les porteurs de charge positifs et ngatifs :cations et anions
Concentrations typiquement mol.L-1 jusqu 1 mol.L-1
TYPIQUEMENT 10-3 mol.L-1
Mtaux
Les porteurs de charge sont les lectrons libres
Concentrations typiquement cas du cuivre: 8,5 1028 lectrons/m3
TYPIQUEMENT 140 mol.L-1
Semiconducteurs
Les porteurs de charge positifs ou ngatifs :lectrons e- de la bande de
conduction (BC) ou h+ de la bande de valence (BV).
Concentration dans le cas du silicium dop: 1017 lectrons/cm3
TYPIQUEMENT 10-4 mol.L-1
x d 2V x
0
dx
Equation de Mott-Schottky
2
CSC
2
kT
V V fb
0eN
e
N=ND ou NA
2
CSC
Pente N
ExtrapolationVbp EC,S et EV,S
porteurs de charges nS et pS
Vbp
Type p
Type n
Type n