Forno Industrial de Microondas de 3 kW

Alimentado por Magnetrons de Uso Domstico

E. J. S. Pereira, J. T. Pinho
Grupo de Estudos e Desenvolvimento de Alternativas Energticas GEDAE/DEEC/CT/UFPA
Cx. Postal 8605, CEP 66075-900, Belm-PA. E-mail: ejsp@amazon.com.br, jtpinho@ufpa.br

Resumo Este trabalho apresenta o projeto de um forno

industrial de microondas, aplicado na indstria de secagem
de embalagens de produtos diversos, que utiliza vlvulas
magnetron para aplicaes domsticas como fontes
geradoras, visando reduo dos custos de implantao e
manuteno. destacada a capacidade do sistema operar
com apenas algumas das vlvulas em funcionamento.

produto e/ou situao. Entretanto, orientaes comuns para

todos os projetos podem ser apresentadas. Essas
orientaes dizem respeito fonte de potncia de
microondas, ao aplicador, aos sistemas de segurana, ao
sistema de transporte do produto, se for o caso,
blindagem das ondas eletromagnticas e aos sistemas de
refrigerao e exausto.

Palavras-chaves Aquecimento por microondas, forno de

microondas, vlvulas magnetron, aplicadores de microondas.

III. FONTE DE POTNCIA DE MICROONDAS

I. INTRODUO
O uso de energia eletromagntica para aquecimento de
materiais dieltricos, comeou a ganhar impulso com a
patente do primeiro forno de microondas em 1946 por
engenheiros da Raytheon Corporation, que apoiaram-se
nos efeitos observados pelo Dr. Percy Spencer, que
verificou a influncia de ondas eletromagnticas no
aquecimento de determinados materiais como chocolate,
ovo e milho de pipoca.
No Brasil, apenas nos anos 90 os fornos de microondas
passaram a ter uma participao mais significativa no
cotidiano dos consumidores.
Em aplicaes industriais, os fornos de microondas tm
participado com parcelas cada vez maiores no mercado.
Outras aplicaes tambm podem ser registradas: na
medicina, no tratamento de tumores de pele; na indstria
farmacutica, na secagem de comprimidos; na rea de
alimentos, na pasteurizao do leite e secagem de batatas;
na indstria de cosmticos, com a extrao de corantes e
leos.
O uso da energia de microondas, contudo, ainda visto
com alguma restrio pelos empresrios, que relutam em
adotar a tecnologia, seja por receio de uma rejeio de seus
produtos, ou pelo custo elevado de implantao do
sistema, desconsiderando os resultados benficos na
qualidade final e no tempo de processamento do produto
atravs das microondas.
II. PROJETO DO FORNO
Um sistema de aquecimento por microondas deve ser
construdo de acordo com o tipo do material a ser
processado, a quantidade do produto e o tempo desejado
para o processamento. Desse modo, o desenvolvimento e a
construo do sistema so quase que exclusivos para cada
E. J. S. Pereira, ejsp@amazon.com.br,J. T. Pinho,jtpinho@ufpa.br,
Tel -Fax +55-91-2111299.
O suporte financeiro para a execuo deste trabalho foi dado pela
Indstria Marlia de Auto Peas.

A fonte de microondas tem a funo de transformar

potncia AC 50/60 Hz em potncia de microondas. De um
modo geral, o sistema de gerao conta com uma vlvula
de microondas e sua fonte de alimentao prpria, alm de
controles para monitorao da operao da vlvula.
A vlvula de microondas usada deve atender prrequisitos como baixo custo, boa estabilidade em
freqncia e, principalmente, boa eficincia. De um modo
geral, as magnetrons, dependendo da aplicao a que se
destinam, apresentam eficincias que variam de 50% at
80%.
Neste trabalho optou-se por usar seis vlvulas
magnetron de uso domstico.
Cada uma das magnetrons, possui sua prpria fonte de
alimentao, permitindo a independncia no aquecimento
do filamento e na alimentao do circuito anodo/catodo. O
uso de fontes modulares contribui para que seja evitado
qualquer tipo de interferncia mtua entre as mesmas.
A alimentao responsvel pelo aquecimento do
filamento feita por meio de um transformador de alta
corrente e baixa tenso, 20 A/3,15 V, enquanto que o
circuito anodo/catodo alimentado atravs de um
transformador de alta tenso e baixa corrente, 2.000 V/0,5
A, e um estgio retificador/dobrador de tenso, colocado
no secundrio do transformador de alta tenso, que fornece
magnetron potncia DC pulsada de 4.000 Vrms.
No desenvolvimento da fonte de alimentao de cada
magnetron, levantou-se a caracterstica de impedncia de
sada do transformador de alta tenso, com auxlio do teste
de curto circuito.[1]
Observou-se que um valor mdio de 1,33 F para o
capacitor do estgio dobrador-retificador de tenso,
poderia garantir um melhor casamento na sada do
transformador de alta tenso. Assim, usou-se inicialmente
uma capacitncia de 1,86 F (dois capacitores de 0,93 F
em paralelo) no dobrador-retificador de tenso, j que
esses eram os disponveis no mercado local.
O sistema global de alimentao foi disposto em um
quadro eltrico, que comporta as seis fontes que acionam

as magnetrons do forno. As fontes

dispostas como mostrado na Fig. 1.

modulares so

Fig. 3 Vista lateral do aplicador, com o duto de

refrigerao aberto e sem as cargas dgua. [2]
Fig. 1 Vista frontal do quadro eltrico de alimentao. [2]
IV. APLICADOR DE MICROONDAS
O aplicador a parte do sistema onde efetivamente
acontece o processamento do produto.
evidente que a escolha do tipo do aplicador funo
do material a ser processado e que a eficincia do
processamento est intimamente associada ao aplicador
utilizado.
Neste trabalho optou-se por um aplicador contnuo, do
tipo cavidade ressonante multimodo. O material
processado, pasta de papel prensado com alta tangente de
perdas, tem um formato de calha, com seo reta em forma
de U, e transportado continuamente ao longo do
aplicador, por intermdio de uma esteira.
O aplicador tem trs metros de comprimento, seo reta
de 35 x 35 cm, e construdo em ao inox. Vistas frontal
interna e lateral externa do aplicador so mostradas nas
Figs. 2 e 3, respectivamente.

Os acessos de entrada e sada do aplicador so

parcialmente vedados por lminas fabricadas do mesmo
material do aplicador. Essas lminas permitem apenas a
passagem do produto, fazendo com que a energia
eletromagntica, at ento no aproveitada no
processamento, permanea em grande parte no interior do
aplicador e possa ser absorvida pelo material. Essa medida
diminui a fuga de energia do aplicador atravs de seus
acessos, reduzindo a energia absorvida pelas cargas
dgua. A Fig. 4 mostra uma das lminas localizadas nos
acessos do aplicador, onde observa-se o recorte para a
passagem do produto.

Fig. 4 Lmina de um dos acessos do aplicador. Recorte

na chapa em destaque.[2]
A energia chega ao aplicador vinda de seis magnetrons,
com potncias nominais de 900 W cada, e conduzida at
o interior do mesmo por seis guias de ondas.
A Fig. 5 apresenta a conexo guias de ondas-aplicadormagnetrons.

Fig. 2 Vista frontal interna do aplicador sem as cargas

dgua. Chapa de teflon em destaque.[2]
Fig. 5 - Conexes guia de ondas-aplicador-magnetron.[2]

Um ponto importante no projeto a definio do

nmero de magnetrons a serem usadas no processamento.
Pode-se usar uma vlvula de alta potncia ou mesmo
vrias de menor potncia. Uma vlvula de alta potncia
normalmente mais eficiente que uma outra menos potente.
Contudo, a ltima mais barata, mais fcil de adquirir no
mercado, necessita de menos acessrios para sua operao,
alm de que em uma eventual falha da vlvula, o processo
como um todo no ser paralisado, pois as outras estaro
operando. Essas vlvulas, entretanto, alm do
inconveniente da gerao de harmnicos, danosos a outros
equipamentos eletrnicos que estejam nas proximidades,
tambm bastante suscetvel interferncia mtua entre
vlvulas.
A distribuio de energia no interior do aplicador, de
modo mais uniforme possvel, uma exigncia que, em
geral, precisa ser atendida. Uma distribuio no uniforme
provoca os chamados pontos quentes e pontos frios no
sistema. Os primeiros podem ocasionar o fenmeno da
avalanche trmica e, conseqentemente, deteriorar o
produto. Os pontos frios so tambm indesejveis,
especialmente na esterilizao ou inativao enzimtica de
produtos alimentcios, j que bactrias e enzimas podem
resistir, se a temperatura no atingir um nvel mnimo no
material, tornando-o imprprio para o consumo, ou
diminuindo seu tempo de estocagem.
Na tentativa de garantir a uniformidade do
processamento, diversos estudos tm sido realizados[3,4,5]
mostrando que combinaes de tipos diferentes de
aquecimento,[6] alteraes no projeto da alimentao da
vlvula, do nmero e posicionamento das vlvulas usadas,
do tipo do aplicador, dos elementos de acoplamento
vlvula-aplicador, etc., so recursos importantes aos quais
se pode recorrer.
Modificaes na fonte de alimentao, com o uso de
freqncias maiores que 2.450 MHz,[7] ou via controle de
fase independente das diversas fontes, no caso de mltiplas
vlvulas,[8,9] so possveis; porm, o custo de sua
implementao invariavelmente alto.
Quando se opta pelo uso de vrias vlvulas, imagina-se
que distribui-se melhor a energia no aplicador. Contudo, o
posicionamento das vlvulas com relao ao aplicador e o
modo de acopl-las a esse ltimo, influenciam fortemente
na intensidade e na forma da distribuio da energia no
aplicador.
No que concerne ao acoplamento das vlvulas ao
aplicador,
optou-se
por
aberturas
retangulares
longitudinais na parede inferior do mesmo.
Para o posicionamento das fendas, considerou-se
apenas a irradiao da energia em um aplicador oco,
desprezando-se
a
influncia
do
material
em
processamento, o acoplamento entre as fendas,[10] e a
usinagem imprecisa das referidas fendas.
A Fig. 6 apresenta uma vista frontal do aplicador,
destacando algumas das fendas de acoplamento.

Fig. 6 Destaque para as aberturas de acoplamento na

parede inferior do aplicador.[2]
V. SEO DE ACOPLAMENTO
O guia de ondas foi construdo objetivando diminuir ao
mximo o acoplamento entre as magnetrons, bem como
minimizar a perda de retorno no acoplamento da energia
da magnetron para o aplicador.
O guia de acoplamento foi dimensionado de modo que a
distncia entre os centros das aberturas no guia, aberturas
para insero da antena da magnetron e para acoplamento
com o aplicador, fossem separadas de um mltiplo de
g/2.[11] Esta situao proporciona um mximo de campo
eltrico no centro da abertura de acoplamento com o
aplicador. O tamanho e a posio final das aberturas, face
impreciso na construo do guia, foram ajustadas
empiricamente, a partir dos dados de S11 (perda de retorno
medidos.
A obteno dos valores de S11 foi realizada conectandose um analisador de redes HP, modelo 8720D, a um guia
de acoplamento associado a uma estrutura que simula a
emisso do sinal de microondas na sada da magnetron.
Essa estrutura composta pela antena da magnetron,
acoplada a um conector tipo N-fmea.
A Fig. 7 mostra a montagem usada para medio de S11.

Fig. 7 - Montagem usada para medio de S11.[2]

O grfico representativo das medies realizadas para o
parmetro S11 mostrado na Fig. 8.

VII. BLINDAGEM DOS ACESSOS

Neste trabalho usou-se uma carga dgua em cada

acesso. Cada uma delas com 50 cm de comprimento e uma
lmina dgua de 5 cm em qualquer das dimenses que
circundam os acessos.
A Fig. 9 ilustra a estrutura de blindagem para os acessos
do aplicador.

S 11

-10
-20
-30
-40
2,0

2,2

2,4

2,6

2,8

3,0

Freq n c ia (GHz)

Fig. 8 S11 (dB) x freqncia em um guia de acoplamento.

Cada par guia de ondas-magnetron opera de modo
independente dos demais, permitindo, assim, que o sistema
possa funcionar com um nmero varivel de vlvulas,
alm de proporcionar a continuidade do processo, caso
uma das fontes venha a falhar.
VI. REFRIGERAO E EXAUSTO
A refrigerao da vlvula de microondas precisa ser
eficiente, sob pena da mesma ter sua vida til reduzida, ou
mesmo vir a queimar rapidamente por superaquecimento.
A refrigerao a gua , sem dvida, mais eficiente que
a ar forado. Contudo, exige uma estrutura melhor
elaborada para o encanamento e a circulao da gua, o
que acaba por encarecer a vlvula e o sistema como um
todo.
Neste trabalho, apesar da vantagem da refrigerao a
gua, as seis magnetrons foram refrigeradas trs a trs, por
um microventilador.
O sistema conta ainda com um exaustor para o quadro
eltrico de alimentao das magnetrons. Isso se fez
necessrio devido presena do transformador de alta
tenso na fonte de alimentao modular de cada vlvula. A
exausto feita atravs de um ventilador igual aos usados
no duto de ventilao das magnetrons.
Um segundo exaustor compe o sistema, e est
colocado em uma coifa sobre a parede superior do
aplicador. A parede superior constituda de uma chapa
perfurada com orifcios circulares de 3 mm de dimetro e
espaamento mnimo de 2 mm entre eles. O exaustor foi
escolhido para exaurir o volume de ar do aplicador em
aproximadamente 1 segundo. Essa taxa de exausto
necessria, porque durante o processamento, o produto
libera vapor e gs inflamvel, que, por uma questo de
segurana, deve ser removido do aplicador o mais
rapidamente possvel.
O uso da chapa superior perfurada, com orifcios
circulares de 3 mm de dimetro, no contribui de modo
significativo, na freqncia de 2,45 GHz, para a fuga de
energia do aplicador. Os clculos realizados mostraram
que a perda de transmisso atravs da chapa da ordem de
51 dB, o que resulta em uma excelente adequao da
soluo usada ao projeto.

Fig. 9 Carga dgua isolada, para blindagem nos acessos

do aplicador.[2]
VIII. TESTES E RESULTADOS
O conhecimento da potncia desenvolvida no aplicador,
bem como o modo como esta se distribui no seu interior,
importante para um melhor controle na qualidade do
produto processado. Desse modo, realizou-se uma srie de
testes de potncia, com cargas dgua distribudas ao longo
do interior do aplicador, com uma, mais de uma, ou todas
as vlvulas ligadas. Tambm testou-se o uso de
capacitncias diferentes, 0,93 F/2200 V ou 1,86 F/2200
V, nas fontes modulares do sistema.
Dois conjuntos de testes foram realizados com quatro
recipientes refratrios fixos. O primeiro usou recipientes
contendo, em mdia, 400 g de gua cada um, enquanto que
no segundo, os quatro recipientes continham 310 g de gua
cada. Os recipientes foram distribudos uniformemente no
aplicador, separados por uma distncia de 60 cm entre o
centro de um recipiente e seu(s) adjacente(s). Os testes
foram realizados, com todas as seis fontes ligadas, em um
intervalo de tempo de dez minutos, considerando, em um
primeiro momento, o uso de uma capacitncia de 0,93
F/2200 V no estgio dobrador-retificador de tenso e,
posteriormente, uma capacitncia de 1,86 F/2200 V.
Os resultados mostraram, no primeiro caso, uma
potncia de 1.613,25 W, desenvolvida no aplicador,
enquanto que na segunda situao, a potncia verificada
foi de 2.630,23 W. Assim, o aumento da potncia foi de 63
%. Essas medies foram realizadas apenas com os
recipientes de gua, sem outros componentes do forno,

como a esteira transportadora e as cargas d'gua nas

extremidades do aplicador.
A Fig. 10 apresenta a potncia absorvida em cada um
dos recipientes, alm da potncia total entregue ao
aplicador quando usou-se a capacitncia de 1,86F.
Teste de Potncia
3000

Potncia (W)

2500
2000
1500
1000
500
0

Potncia (W)

Recipiente Recipiente Recipiente Recipiente

1
2
3
4
623,48

678,02

731,58

597,15

Potncia
Total
2.630,23

Fig. 10 Distribuio de potncia em diferentes posies

no aplicador (C = 1,86 F).[2]
Em ambos os casos, os recipientes mais ao centro do
aplicador (2 e 3), absorveram mais potncia. A potncia
total aumentou 63% quando se usou a capacitncia de
1,86F em relao ao caso com a capacitncia de 0,93F.
Os testes de refrigerao das vlvulas bem como de
exausto do aplicador mostraram-se bastante eficientes.
Aps a instalao do forno no local de realizao dos
testes finais (Fig. 11), novos testes de potncia foram
realizados sob condies reais de operao, j incluindo o
produto a ser processado, a esteira transportadora e as
cargas dgua nas extremidades do aplicador. Nesta
situao a potncia desenvolvida no forno foi de 3,3 kW.

Fig. 11 - Forno instalado em seu local de testes finais.

IX. CONCLUSES
A realizao dos testes preliminares com o forno em
condies reais de operao demonstraram que o uso de
vlvulas magnetron de uso domstico bastante vivel,
quer pela facilidade de manuteno, quer pelo baixo custo
de reposio de peas. A utilizao de fontes modulares

tornou a substituio das prprias fontes, bem como das

magnetrons bastante simples e funcional.
Observou-se ainda que, em funo do contedo de
umidade do produto, cuja composio qumica ainda se
encontra em fase de testes, essa potncia pode no ser
suficiente para obter o grau de secagem desejada.
Dependendo da composio final, a ser ainda determinada,
a potncia do forno poder ter que ser aumentada
significativamente.
O forno ainda pode ser melhorado, tomando-se algumas
medidas, tais como otimizar o dimensionamento e a
disposio das fendas de acoplamento no aplicador,
melhorar a usinagem e a soldagem das peas constituintes
do forno, usar o capacitor de alta tenso com um valor
mais prximo do calculado.
REFERNCIAS
[1] E. J. S. Pereira. J. T. Pinho, Prottipo de Forno Industrial de Baixo
Custo, IX SBMO, Joo Pessoa-PB, 2000.
[2] E. J. S. Pereira, Prottipo de Forno Industrial por Microondas,
Dissertao de Mestrado apresentada em janeiro de 2001 na Universidade
Federal do Par.
[3] T. V. C. T. and, C. H. Reader, Understanding Microwave Heating
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