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Simulation de composants

semi-conducteurs
BENYAMNA Mustapha

Rmi Cornat , Pascal Gay , Fran


Franois Morisseau,
Groupe ILC

EUDET France 05/04/07 Rmi CORNAT (LPC)

SOCLE - Session Software 20 nov 07

Mustapha BENYAMNA (LPC)

Plan

Introduction
Suite logicielle SILVACO
Qualification de SILVACO
- Module ATLAS
- Module LUMINOUS

Application au Prototype Si-W de Calice


Conclusion

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Introduction
Dtecteur en Physique :
capteur semi-conducteurs

Calorimtre Si-W CALICE


prototype - donnes relles
vnements carrs

Approche en parallle: Simulation des


structures semi-conductrices

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Suite logicielle SILVACO

www.silvaco.fr

SILVACO est un logiciel qui permet de simuler des composantes


base de silicium, et les caractriser en utilisant plusieurs options .

Module Atlas

Module Athena
Dfinir une structure

Caractriser une structure

1) Luminous
2) Laser
3) Thermal

1) DEVEDIT
2) 2D, 3D

Tonyplot(2D, 3D)
Application tous les Dtecteurs de Silicium
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Module ATHENA
Processus de construction dune structure
a) Dfinir la gomtrie
b) Maillage
c) Processus de fabrication
* Gravure
* Implantation
* Oxydation

Guard rings

Anode

Module Athna Dfinition de la gomtrie


dun composant

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Module ATHENA
Processus de construction dune structure
a) Dfinir la gomtrie
b) Maillage (Module DEVEDIT)
c) Processus de fabrication
* Gravure
* Implantation
* Oxydation

Module Devedit Faire le Maillage dune


structure

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Module ATLAS
Exemples dtudes :
a) Dopage
b) Caractristiques
lectrique
* Capacits
* Dplacement des charges
* Courant lectrique
c) Analyse optique
d) Analyse thermique
Module Atlas Doper une structure

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Module ATLAS
Exemples dtudes :
a) Dopage
b) Caractristiques lectriques

Capacits
Dplacement des charges
Courant lectrique

c) Analyse optique
d) Analyse thermique

Module Atlas Extraire les valeurs de


capacits
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Module ATLAS
Exemples dtudes :
a) Dopage
b) Caractristiques
lectriques :
* Capacits
* Dplacement des charges
* Courant lectrique
c) Analyse thermique
* ModuleTHERMAL
d) Analyse optique
* Module LUMINOUS
Module Atlas Visualiser le transfert de
charges dans une structure
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Module LUMINOUS
Exemples dAnalyse :
- source lumineuse.
- Propagation de la lumire
dans la structure.

Rayon lumineux :
*(x,y,z); _
*_

- Photognration.

Module Luminous Simuler la propagation


dun rayon lumineux
dans une structure
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Module LUMINOUS
Rayons lumineux

Exemples danalyse :
- source lumineuse.
- propagation de la lumire
dans la structure.
- Photognration.

Module Luminous Extraire le taux de


photognration

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Qualification de SILVACO
Structure simule

L=500 um
l= 1cm
d1=50um, d2=50um
d3=1um
d4=2um
l

d1

Air

Aluminium
Doped zone p : 1e20 atm/cm3
SiO2
Doped zone n : 1e20 atm/cm3
Doped zone : 1e12 atm/cm3

d2
d3
d4

c5=26pF
C2=1pF
L

C1=21pF

C3=0.74pF

C4=5pF
d4
d3

Vpol = 200V
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Qualification de SILVACO
Rsultats
Silvaco

Attendue [1]

Capacit Pixel Cathode

21pF

18pF

Capacit Guard Cathode

5pF

4pF

Capacit Pixel Guard

0.74pF

1pF

Capacit Pixel-Pixel

1pF

1pF

Capacit Guard-Guard

26pF

24pF

[1] rsultat thorique prsent par A. Karar (LLR) (Soul 2006)

Ces rsultats sont compatible avec les donnes thoriques.


Ces rsultats seront des donnes pour la simulation lectronique (SPICE).
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Qualification de LUMINOUS
Pixel seul
Dfinir deux structures :

pixel seul et pixel


pixel grav
grav

Silicon

300 um

600 um
Vpol=70 V

Pixel grav
0

Air
oxyde

n
Silicon

300 um
Vpol=70 V

n
600 um

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Qualification de LUMINOUS
Champ maximal : Pixel seul
Publication:
Nuclear Science Symposium, 1997. IEEE
Junction termination structure

peak electric
field

Un-improved diode

3.9 104 V/cm

Silvaco

Three floating rings (optimized) 1.3 104 V/cm


Poly field plate extension

2.8 104 V/cm

Linear implant gradient

1.5 104 V/cm

Vertical etch junction termination 2.0 104 V/cm


Angled etch junction termination 2.5 104 V/cm

2.6 104 V/cm

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Qualification de LUMINOUS
Champ maximal : Pixel grav
Publication:
Nuclear Science Symposium, 1997. IEEE
Junction termination structure

Un-improved diode

Silvaco

peak electric
field

3.9 104 V/cm

Three floating rings (optimized) 1.3 104 V/cm


Poly field plate extension

2.8 104 V/cm

Linear implant gradient

1.5 104 V/cm

Vertical etch junction termination 2.0 104 V/cm


Angled etch junction termination 2.5 104 V/cm

1.99 104 V/cm

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Qualification de LUMINOUS
Publication

Lignes de potentiel

Silvaco

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Perspectives
Problme physique:

- Evnements carrs
Hypothse:

- Effet capacitif
Simulation avec SILVACO

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Perspectives
Etude de leffet capacitif :

Simulation lectronique avec SPICE


Etude pour analyser la phnomne des vnements
carrs :
Simulation du Test Bench
1) Installation d
dune partie du Capteur
- 1eme tape : Calibration du Test Bench (maquette cuivre poxy)
- 2eme tape : mesure sur Wafer r
rel (matrice 3*3)
2) Injection de charges et mesure de diaphonie.

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tude avec Silvaco :


les structures utilises en test bench:
Photon, charges injectes

Aluminium

Oxyde

Pixel

Guard rings segments

Oxyde
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Rsum
Problme physique : vnements carrs
Simulation

Instrumentation
Test Bench

SILVACO

Rsultats
1) SILVACO Software permet de
simuler les structures de semiconducteurs
2) utile tous les dtecteurs/capteurs
3) prise en main et qualification
opre

Rsultats

Application

Application spcifique l'tude et au


design des guard rings de SiW-Cal

Remerciements Eddy Cou


Cou et Jean-Pierre W rzesniewski pour leur accueil llISIMA et au SMMIC
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