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MEB
- revoluciono la microscopia.
Permite el anlisis de la morfologa y caractersticas superficiales.
Este equipo utiliza una fuente de electrones (con un voltaje entre 0,1 y 30 keV
y lentes electromagnticas para enfocar, sobre una muestra recubierta
(conductora), una haz de electrones muy concentrado. esta interaccin hazmuestra, arranca electrones de la muestra (electrones secundarios)que son
captados por detectores situados en la columna del microscopio . a partir de la
informacin proporcionada por estos detectores , el sistema de control del
microscopio elabora una imagen en escala de grises de la superficie de la
muestra. Normalmente para visualizar las muestras en el MEB se puede
trabajar a bajos kev , dependiendo de la muestra a observar , de igual forma el
equipo tiene la capacidad de realizar anlisis quimico dela muestra, y en este
caso debe trabar con voltajes mayores, entre 15 y 30 kev.
Principales variables operativas.
1. Sistema de vacio:
1. Permitir el desplazamiento de electrones: la distancia entre el haz de
electrones y la pantalla es de 1 m aprox pueden haber desviaciones.
2. Para evitar descargas de alta tensin en el caon electrnico: cualquier
mlecula de gas se puede convertir en ion positivo al bombardear
electroesn y producira una descarga elctrica entre el filamento y el
anodo.
3. Evitar contaminacin de las muestras.
4. Para incrementar la vida til del filamento.
2. Medidores de vacio
Utiliza
ndo
diferentes tipos
de manometros
tubos de
descarga de
gases y
manometros
trmicos.
Medidor de pirani:
1906, da una medida de
la presin a travs de la
variacin de la
conductividad trmica
del gas. Este
dispositivo
consta de un
filamento metalico
suspendido en un tubo en el sistema de vacio y conectado a una fuente de
voltaje o una corriente constante. El alambre puede serde tugsteno otro
material cuya resisstencia varie con la temperatura .al aumentar el vacio, se
reduce la perdida de calorpor conduccin a travs del gas y aumenta la
temperatura y la resistencia del conductor .
3. sistema de refligeracion:
electrnica:
Caon electrnico:
tugsteno es la fuente emisora de
calienta al rojo blando a 10-6 torr. Entre
acelerador y el filamento se coloca
adicional llamado cilindro de
placa catdica que permite que los
se focalicen debajo del cilindro-
Voltaje
La
entre 10-7
Se puede
mas
DE LANTANO)
de lentes electrnicas:
2,3 o 4 lentes que disminuyen el dimetro del haz de electrones de 50
micrometros a entre 25 y 10 nm. Hazdelectrones extremadamente fino
penetrando un poco mas de aqu se determina un volumen de interaccion
haz/muestra de donde se desprenden electrones secundarios, retrodispersados
y rayos x.
La
resolucin
esta
relacionadao con nlas dimensiones de la zona de la muestra exitada por un haz
primario.
Intensidad de las seales emitidas. Influenciada por las dimensiones de las
zonas dedonde ellas se generan y por la absorcin de la muestra lo que
determina la composicop dela muestra y la energa de los electrones en el haz
incidente.
Deector de electrones secundarios:
4,3 sistema de barrido:
Consiste en un campo de deflexin simpleo doble que puede ser electrosttico
o electromagntico y produce el desplazamiento del haz electrnico sobre la
superficie del amuestra . este campo se localiza cerca de la ultima lente
condensadora .
El haz se muede en linesas rectas superpuestas barriend enun rea regular
La misma seal que se aplica a las bobinas deflectoras se utiliza para barrer en
forma sisncronizada el haz del tubo de rayos catdicos producindose una
correspondencia punto a punto entre la superficie del a muestra, que es
barrida por el haz de electrones y la oantalla donde se observa la imgenes
barrido entre 0,5 y 500 segundos gral/ 10 segundos.
Micrografas 50segundos, mayor resolucin.
5. Portamuestra
IIBCAUDO
El caon esta
El primero es
electrones y
filamento de
unos 2200 c
les hace
El segundo
esta a un
que el
filamento de
el catodo, es la ffuente de
mantien yn potencial negatvo esta formado por un
wolframio que se calienta a temperatras de
mediante una corriente electrnica que
emitir electrones por efecto termoinico
electrodo es un cilindro de wehnelt, rodea el filamento
potencial de 20 a 400 v mas negativo
filamento. Este focaliza los electrones que salen del
manera similar a una lente
electrosttica
Por ultimo esta el anodo conectado a la tierra justo despus del cilindro de
wehnelt
Siguen tres lentes condensadoras concentran la luz sobre la muestra a
observar
Atraviezan la muestra con un dimetro de 0,2 micrometros auque se trabaja
normalemente con 2 micrometros
Portamuestras:
Muestra de 3mm de dimetro
Muestra tiene que ser transparente a los electrones se coloca general/ una
rejila metalica o un anillo circular de 3mm de dimetro perpedicular al eje
optico
Esta en la base de la columna en lnea con el haz electrnico
La platina que lo sostiene permite movimientos en X y Y y rotacin del propio
plano.
Mov +- 1mm permite observaciones de desplaamientos hasta de 0,25 nm
Formacin de imgenes
Una vez atravezada la muestra se encuentran el sistema de formacin de la
imgene (lente objetivo, una lente media y dos proyectoras)
La resolucin del lente objetivo depende de la calidad y la correcion de las
aberraciones
Campo oscuro:
Wl objetivo se desplaza con especto al eje ptico permite el paso de algunso
haces difractados imagen de baja calidad y sin contraste
Otra forma de tenereste campo es inclinar el sistema de iluminacin que los
electrones dispersados viajen paralelos al eje ptico (campo oscuro de alto
contraste)
En los modernos se cambia de canpo claro a oscuro con un botn