ESPECTRMETRO

Un espectrmetro (tambin llamado espectroscopio o

espectrgrafo) es uninstrumento ptico que se usa para
medir las propiedades de la luz sobre una porcin
especfica del espectro electromagntico. Su utilidad es
realizar anlisis espectroscpicos para identificar
materiales. La variable medida es generalmente la
intensidad de la luz, pero tambin podra ser, por ejemplo,
el estado de polarizacin. La variable independientees, por lo general, la longitud de
onda de la luz, que suele expresarse como una fraccin de metro, aunque a veces se
expresa como una unidad directamente proporcional a la energa del fotn, tales como el
nmero de onda o los voltios de los electrones (que tiene una relacin recproca a la
longitud de onda).
Un espectrmetro se usa en espectroscopia para producir lneas espectrales y medir sus
longitudes de onda e intensidades. Son instrumentos que funcionan en una amplia
variedad de longitudes de onda, desde rayos gamma y rayos X hasta el infrarrojo lejano.
Si la regin de inters est restringida a un rango cercano al espectro visible, el estudio
se llama espectrofotometra.
En general, cada espectrmetro funcionar sobre una pequea porcin de este rango
total debido a las diferentes tcnicas usadas para medir las distintas porciones del
espectro. Por debajo de las frecuencias pticas (es decir, en el rango de las microondas y
radiofrecuencias), el analizador de espectro es un dispositivo electrnico estrechamente
relacionado.
Espectroscopios
Los espectroscopios se usan a menudo en astronoma y en algunas ramas
de la qumica. Los primeros aparatos de este tipo eran simplemente un
prisma con graduaciones que marcaban las longitudes de onda de la luz.
Los espectroscopios modernos, como los monocromadores, generalmente
usan una rejilla de difraccin, una hendidura mvil y una especie de
fotodetector, adems de estar automatizados y controlados por un
ordenador. El espectroscopio fue inventado por Gustav Robert Georg
Kirchhoff y por Robert Wilhelm Bunsen.
Cuando un material se calienta hasta la incandescencia emite una luz que es
caracterstica de la composicin atmica del material. Las frecuencias de luz
particulares dan lugar a bandas bruscamente definidas en la escala, que son similares
a huellas digitales. Por ejemplo, el elemento sodio tiene unadoble banda amarilla muy
caracterstica, conocida como lneas D del sodio a 588.9950 y 589.5924 nanmetros,
cuyo color ser familiar a quien haya visto una lmpara de vapor de sodio de baja
presin.
En el diseo del espectroscopio original, a principios del siglo XIX, la luz entraba en
una hendidura y unalente colimadora transformaba la luz en un haz delgado de rayos
paralelos. La luz pasaba entonces por un prisma (en espectroscopios porttiles, por lo
general un prisma Amici) que refractaba el haz de luz en un espectro, debido a que las

diferentes longitudes de onda eran refractadas en cantidades diferentes por la dispersin.

Esta imagen se vea entonces a travs de un tubo con una escala que se transpona sobre
la imagen espectral, permitiendo su medida directa.
Con el desarrollo de la pelcula fotogrfica, se cre el espectrgrafo, que era ms
exacto. Estaba basado en el mismo principio que el espectroscopio, pero tena una
cmara en lugar del tubo de inspeccin. En aos recientes, la cmara ha sido sustituida
por circuitos electrnicos construidos alrededor del tubo fotomultiplicador, permitiendo
el anlisis espectrogrfico en tiempo real con mucha ms exactitud. En los sistemas
espectrogrficos tambin se usan series de fotosensores en lugar de la pelcula.
Tal anlisis espectral, o espectroscopia, se ha convertido en un importante instrumento
cientfico para analizar la composicin de material desconocido, y para estudiar
fenmenos y teoras astronmicas. El espectrmetro mide longitudes de onda.
La espectrometra ultravioleta-visible o espectrofotometra UV-Vis: Implica la
espectroscopia de fotones en la regin de radiacin ultravioleta-visible. Utiliza la luz en
los rangos visible y adyacentes (el ultravioleta (UV) cercano y el infrarrojo (IR)
cercano. En esta regin del espectro electromagntico, las molculas se someten a
transiciones electrnicas.
Esta tcnica es complementaria de la espectrometra de fluorescencia, que trata con
transiciones desde el estado excitado al estado basal, mientras que la espectrometra de
absorcin mide transiciones desde el estado basal al estado excitado.
Aplicaciones
La espectrometra UV/Vis se utiliza habitualmente en la determinacin cuantitativa de
soluciones de iones metlicos de transicin y compuestos orgnicos muy conjugados.
Soluciones de iones metlicos de transicin
Las soluciones de iones metlicos de transicin pueden ser coloreadas (es decir,
absorben la luz visible) debido a que los electrones en los tomos de metal se pueden
excitar desde un estado electrnico a otro. El color de las soluciones de iones metlicos
se ve muy afectado por la presencia de otras especies, como algunos aniones o ligandos.
Por ejemplo, el color de una solucin diluida de sulfato de cobre es muy azul;
agregando amonaco se intensifica el color y cambia la longitud de onda de absorcin
mxima.
Compuestos orgnicos
Los compuestos orgnicos, especialmente aquellos con un alto grado de conjugacin,
tambin absorben luz en las regiones del espectro electromagntico visible o
ultravioleta. Los disolventes para estas determinaciones son a menudo el agua para los
compuestos solubles en agua, o el etanol para compuestos orgnicos solubles. Los
disolventes orgnicos pueden tener una significativa absorcin de UV, por lo que no
todos los disolventes son adecuados para su uso en espectrometra UV. El etanol
absorbe muy dbilmente en la mayora de longitudes de onda. La polaridad y el pH del
disolvente pueden afectar la absorcin del espectro de un compuesto orgnico. La

tirosina, por ejemplo, aumenta su mximo de absorcin y su coeficiente de extincin

molar cuando aumenta el pH de 6 a 13, o cuando disminuye la polaridad de los
disolventes.
Aunque los complejos de transferencia de carga tambin dan lugar a colores, stos son a
menudo demasiado intensos para ser usados en mediciones cuantitativas.
La ley de Beer-Lambert establece que la absorbancia de una solucin es directamente
proporcional a la concentracin de la solucin. Por tanto, la espectrometra UV/VIS
puede usarse para determinar la concentracin de una solucin. Es necesario saber con
qu rapidez cambia la absorbancia con la concentracin. Esto puede ser obtenido a
partir de referencias (las tablas de coeficientes de extincin molar) o, con ms exactitud,
determinndolo a partir de una curva de calibracin.
El espectrofotmetro UV/Vis puede utilizarse como detector para la Cromatografa
Lquida de Alta Resolucin (CLAR). La presencia de un analito da una respuesta que
puede ser proporcional a la concentracin. Para resultados precisos, la respuesta del
instrumento al analito debe compararse con la respuesta a un estndar, lo que es muy
similar al uso de curvas de calibracin. La respuesta (por ejemplo, el pico de altura)
para un concentracin particular se conoce como factor de respuesta.
LEY DE BEER-LAMBERT
La espectrometra UV-Vis se utiliza con mayor frecuencia en forma cuantitativa para
determinar las concentraciones de especies absorbentes en solucin, usando la Ley de
Beer-Lambert:
donde A es la absorbancia medida, I0 es la intensidad de la luz incidente a una
determinada longitud de onda, I es la intensidad de transmisin, L la longitud de ruta a
travs de la muestra, y c la concentracin de las especies absorbentes. Para cada especie
y longitud de onda, es una constante conocida como absortividad molar o coeficiente
de extincin. Esta constante es una propiedad fundamental molecular en un solvente
dado, a una temperatura y presin particular, y tiene como unidades 1/M * cm o, a
menudo, U/M * cm.
La absorbancia y extincin a veces son definidas en trminos de logaritmo natural en
lugar de logaritmo de base 10.
La ley de Beer-Lambert es til para la caracterizacin de muchos compuestos, pero no
sirve como relacin universal para la concentracin y absorcin de todas las sustancias.
En molculas complejas de gran tamao, como los tintes orgnicos (Xylenol Naranja o
Rojo Neutro, por ejemplo), a veces se encuentra una relacin polinmica de segundo
orden entre la absorcin y la concentracin.

ESPECTROFOTMETRO ULTRAVIOLETA-VISIBLE
El instrumento utilizado en la espectrometra ultravioleta-visible se llama
espectrofotmetro UV-Vis. Mide la intensidad de luz que pasa a travs de una muestra
(I), y la compara con la intensidad de luz antes de pasar a travs de la muestra (Io). La
relacin I / Io se llama transmitancia, y se expresa habitualmente como un porcentaje
(%T). La absorbancia (A) se basa en la transmisin:
A = - log (%T)
Las partes bsicas de un espectrofotmetro son una fuente de luz (a menudo una
bombilla incandescente para las longitudes de onda visibles, o una lmpara de arco de
deuterio en el ultravioleta), un soporte para la muestra, una rejilla de difraccin o
monocromador para separar las diferentes longitudes de onda de la luz, y un detector. El
detector suele ser un fotodiodo o un CCD. Los fotodiodos se usan con
monochomadores, que filtran la luz de modo que una sola longitud de onda alcanza el
detector. Las rejillas de difraccin se utilizan con CCDs, que recogen la luz de
diferentes longitudes de onda en pxeles.
Un espectrofotmetro puede ser nico o de doble haz. En un instrumento de un solo haz
(como el Spectronic 20), toda la luz pasa a travs de la clula muestra. La Io debe
medirse retirando la muestra. Este fue el primer diseo, y todava est en uso en la
enseanza y laboratorios industriales.
En un instrumento de doble haz, la luz se divide en dos haces antes de llegar a la
muestra. Un haz se utiliza como referencia, y el otro haz de luz pasa a travs de la
muestra. Algunos instrumentos de doble haz tienen dos detectores (fotodiodos), y el haz
de referencia y el de la muestra se miden al mismo tiempo. En otros instrumentos, los
dos haces pasan a travs de un bloqueador que impide el paso de un haz. El detector
alterna entre la medida del haz de muestra y la del haz de referencia.
Las muestras para espectrofotometra UV-Vis suelen ser lquidas, aunque la absorbancia
de los gases e incluso de los slidos tambin puede medirse. Las muestras suelen ser
colocadas en una clula transparente, conocida como cubeta. Las cubetas suelen ser
rectangulares, con una anchura interior de 1 cm. Esta anchura se convierte en la longitud
de ruta, L, en la Ley de Beer-Lambert. Tambin se pueden usar tubos de ensayo como
cubetas en algunos instrumentos. Las mejores cubetas estn hechas con cuarzo de alta
calidad, aunque son comunes las de vidrio o plstico. El cristal y la mayora de los
plsticos absorben en el UV, lo que limita su utilidad para longitudes de onda visibles.
ESPECTRO ULTRAVIOLETA-VISIBLE: Es esencialmente un grfico de
absorbancia de luz frente a una longitud de onda en el rango del ultravioleta o la luz
visible. Este espectro puede ser producido directamente con los espectrofotmetros ms
sofisticados, o bien pueden registrarse los datos de una sola longitud de onda con los
instrumentos ms simples. La longitud de onda se representa con el smbolo . Del
mismo modo, para una determinada sustancia, puede hacerse un grfico estndar del
coeficiente de extincin () frente a la longitud de onda (). Este grfico estndar sera
efectivamente "la concentracin corregida" y, por tanto, independiente de la

concentracin. Para una sustancia determinada, la longitud de onda en la cual se

produce el mximo de absorbancia en el espectro se llama max, y se pronuncia
"lambda-max".
Las reglas de Woodward-Fieser son un conjunto de observaciones empricas que
pueden utilizarse para predecir max, la longitud de onda de la absorcin UV-Vis, para
compuestos orgnicos conjugados como dienos y cetonas.
Las longitudes de onda de los picos de absorcin pueden correlacionarse con los tipos
de enlace en una determinada molcula, y son valiosos para determinar los grupos
funcionales dentro de la molcula. La absorcin UV-Vis no es, sin embargo, una prueba
especfica para ningn compuesto determinado. La naturaleza del disolvente, el pH de la
solucin, la temperatura, la concentracin de electrolitos, y la presencia de sustancias
interferentes pueden influir en los espectros de absorcin de los compuestos, as como
las variaciones en la anchura de la hendidura (ancho de banda efectivo) en el
espectrofotmetro.
TCNICAS DE MEDICIN DE ESPESORES DE PELCULAS DELGADAS
Estructura de las pelculas delgadas
Las pelculas delgadas policristalinas preparadas por varias tcnicas en un amplio rango
de parmetros de crecimiento exhiben una amplia variedad de estructuras. El modelo de
estructuras de zona (SZM), construido a partir de la compilacin de resultados
experimentales, presenta una gua importante para la sistematizacin tanto de resultados
experimentales como de la dependencia de la estructura con la temperatura de
deposicin. El SZM identifica varias zonas que se muestran en la Fig. 1.

Figura N 1
Zona I, la pelcula est conformada por fibras de dimetros pequeos (1-10 nm), esta
estructura es bastante homognea a lo largo del espesor de la pelcula con un incremento
del dimetro con el aumento de Ts/Tm (Ts: temperatura del sustrato y Tm: temperatura
de fusin del material de deposicin). Esta estructura comienza a presentarse en el
intervalo 0<Ts/Tm<0,2 donde ni la difusin en el bloque ni en la superficie tiene valores
notables.

Zona T, la estructura es heterognea a lo largo del espesor de la pelcula. Es de finos

cristales en el sustrato, compuesto por granos columnares en forma de V. Esta zona
comienza a presentarse en el intervalo 0,2<Ts/Tm<0,4 en el cual la difusin en la
superficie es notable, sin embargo la migracin en la frontera de grano es fuertemente
limitada.
Zona II, representa una estructura homognea a lo largo del espesor de la pelcula
compuesta por columnas que van desde la parte inferior a la parte superior de la
pelcula. Las fronteras de los granos son casi perpendiculares al plano de la pelcula.
Esta zona es caracterizada por las altas temperaturas del sustrato (Ts/Tm>0,4).
Zona III, la estructura es caracterizada por granos equiaxiales, lo cual es una indicacin
de que el crecimiento de los granos ha sido interrumpido peridicamente. Es atribuido a
una alta temperatura del sustrato. En general la secuencia de las diferentes zonas,
corresponde al incremento de energa donde la microestructura cambia de granos
columnares porosos a totalmente recristalizados.
Determinacin de espesores en pelculas delgadas
Un efecto que se puede observar en la interferometra con luz blanca, es la variacin del
interferograma cuando se introduce una muestra que contiene una pequea pelcula
delgada semitransparente. Se pude observar que existen dos sistemas de franjas, uno
debido a la interferencia entre los trenes de onda reflejados por la cara superior de la
pelcula delgada y el espejo de referencia, y otro debido a la interferencia entre los
trenes de onda reflejados por la cara inferior de la pelcula delgada y el espejo de
referencia. En la figura 2 se muestra como son producidos los interferogramas.

Figura N2. Objetivo Interferomtrico tipo Mirau: LP representa las luz policromtica
que incide sobre el objetivo, E es el espejo de referencia, L la lmina separatriz.
El haz de referencia (color rojo), se superpone con el haz proveniente de la superficie
superior de la muestra (color verde), para producir un interferograma. Anlogamente el
haz proveniente de la superficie inferior (color azul), se superpone con el haz de

referencia para producir el segundo interferograma. Al desplazar la muestra en la

direccin axial, se registra la intensidad para cada uno de los desplazamientos. La figura
3 muestra la variacin de intensidad producida en funcin de la posicin, cuando se
coloca como muestra una pelcula delgada de oxido de silicio. En la parte derecha del
corte se observamos observan las franjas de interferencia cuando la cara superior de la
pelcula delgada entra en contacto ptico con el espejo de referencia. En la parte
izquierda del cortese observamos observan las franjas de interferencia cuando la
superficie inferior de la muestra entra en contacto ptico con el espejo de referencia,
aqu el haz objeto atraviesa el espesor de la pelcula delgada y se refleja de esta. Si el
espesor de la muestra, es mayor que la longitud de coherencia, se puede observar los
dos patrones de franjas por separado como lo es en nuestro caso, de lo contrario
tendremos se tiene una interferencia a tres ondas.

Figura N 3. Variacin de intensidad en funcin de la posicin, para una pelcula

delgada de SiO2. Para las posiciones 1983 y 711 el haz de referencia se encuentra en
fase con los haces de la superficies superior e inferior de la muestra, respectivamente.
Determinacin del espesor
Tericamente el espesor de una pelcula delgada est determinado por la diferencia de
las posiciones 3D de cada superficie externa. El sistema implementado permite
determinar la posicin para cada punto sobre las superficies externas de la muestra y a
partir de ellas las correspondientes posiciones de contacto ptico, pudindose
determinar el espesor entre dos puntos axiales externos. Desplazando la muestra con el
sistema transductor piezo-elctrico
TPE se puede hallar la posicin del contacto ptico para cada una de las superficies de
la pelcula delgada y determinar el desplazamiento necesario para pasar del mximo de
un sistema de franjas al otro. Este desplazamiento est relacionado con el espesor de la
pelcula por medio de la ecuacin:
Donde n es el ndice de refraccin de la pelcula y z es el desplazamiento entre los dos
mximos.

Elipsometra
La elipsometra es una tcnica de caracterizacin ptica que se basa en la medida del
cambio de polarizacin del haz de luz incidente despus de la reflexin superficial de
una muestra. A partir de la medida del estado de polarizacin de la luz reflejada por la
superficie de la muestra es posible determinar las constantes pticas de la muestra. La
medida de los parmetros pticos (ndice de refraccin, coeficiente de extincin), en
combinacin con un modelo fsico de la estructura de capas del material, permite
determinar la respuesta dielctrica del sistema. Es posible obtener el espesor y el ndice
de refraccin para estructuras de una sola capa sobre un substrato. El principal
inconveniente de este mtodo, cuando se utiliza un solo haz monocromtico, es que se
debe tener una idea previa aproximada del orden de magnitud del espesor de la capa que
se est midiendo.
La elipsometra espectroscpica es una tcnica de anlisis ptica que se
basa en el cambio del estado de polarizacin de la luz que se incide
sobre un material. Dicho anlisis es no destructivo y es til para la
determinacin de espesores de pelculas delgadas, y constantes pticas
de materiales (ndices de refraccin, coeficiente de extincin).
Robert Boyle observ los colores en burbujas de esencialmente aceites,
jabn, agua entre otras. La polarizacin de la luz fue observada
por tienne Louis Malus en 1810, y 80 aos despus Paul Drude utiliz
este concepto para medir espesores de pelculas muy delgadas, este fue
el principio que posteriormente nombr A. Rothen (1945) como
elipsometra. Los primeros instrumentos aparecieron en los .
Elipsmetros espectroscpicos se empezaron a utilizar en la investigacin en 1990 y
algunos fabricantes iniciaron al mercado instrumentos tales como elipsmetros y
refractmetros a la vez.
Perpendicular al ngulo de incidencia:

Perpendicular al ngulo de incidencia:

De esta manera es posible conocer la relacin ente las constante pticas del material y la
elipse resultante de la reflexin por medio de:

La tcnica consiste en incidir un haz luz colimada con un estado de polarizacin

conocida sobre el material de estudio; tpicamente se utiliza una fuente monocromtica
como lo es un lser. Posteriormente se modifica el estado de polarizacin de este lser
por medio de un elemento ptico, conocido como polarizador, a una forma lineal. Es
comn utilizar un retardador de media onda, conocido como compensador despus del
polarizador y con esto modificar el ngulo de inclinacin del vector elctrico. Despus
de la interaccin luz-slido, el estado de polarizacin cambia y hay que determinarlo
con un analizador, que es el elemento ptico que rectifica la polarizacin y le da foma a
la intensidad de luz final que llega al detector.
Esta cantidad de luz est determinada por una ecuacin matemtica conocida como
la ley de Malus:

El mtodo de la envolvente: Es una tcnica bastante precisa y de rpida aplicacin,

consiste en el anlisis del espectro de transmisin, sin embargo solo sirve para
substratos transparentes y pelculas delgadas < 10 m.
El Mtodo fotoacstico (FA): Este se presenta al radiar con luz, de manera peridica, a
una muestra que puede ser slida, lquida o gaseosa, pticamente transparente u opaca.
La luz peridica es absorbida y el proceso de desexcitacin no radiativo da lugar a
calentamiento peridico en la muestra, este calor puede ser transmitido a una delgada
capa de aire que se encuentre en contacto con ella, causando cambios peridicos muy
leves en la temperatura de la capa de aire y por lo tanto, tambin en la presin,
crendose una onda sonora que puede ser detectada. Este efecto fue descubierto por
primera vez en 1880 por Alexander Graham Bell, pero no fue hasta que Rosencwaig y
Gersho argumentaron slidamente su teora y se empez a usar con mucha eficiencia
como tcnica de caracterizacin ptica y trmica. En espectroscopa este efecto ha
permitido medir de manera muy exacta la absorbancia de materiales en diferentes
estados, ya que la seal que se detecta, emana directamente de la muestra, evitando los
problemas de dispersin de luz que se tienen en los espectrofotmetros. Sin embargo, en
recubrimientos puede ser que la longitud de difusin trmica de la muestra sea menor
que su espesor.
Spin-coating: Constituye una de las formas ms simples y utilizadas para preparar
pelculas delgadas sobre sustratos planos. Se emplea generalmente cuando el material a
depositar es de naturaleza polimrica y, no puede ser depositado mediante evaporacin
trmica sin evitar su descomposicin.
Esta tcnica de fabricacin de pelculas delgadas conduce a la obtencin de
recubrimientos bastante uniformes, planos y de alta calidad. No obstante, pueden surgir
en el seno de la pelcula inhomogeneidades como consecuencia, entre varias posibles

causas, de utilizar disoluciones de partida demasiado complejas o que contengan

impurezas.
Esta tcnica se materializa en un instrumento llamado spin-coater, el cual posee un
torno que inmoviliza al sustrato mediante vaco durante el proceso de rotacin. Para
preparar una pelcula, el material a depositar se disuelve previamente, siendo muy
aconsejable el filtrado de la disolucin para eliminar partculas o impurezas, y evitar as
posteriores defectos en la pelcula. A pesar de que existen divergencias entre diferentes
autores en cuanto a la delimitacin de las etapas en el proceso de spin-coating, stas
pueden unificarse en cuatro:
- Etapa 1: Se deposita un cierto volumen de disolucin sobre el sustratolimpio
inmovilizado, cubriendo toda la superficie. La cantidad de material que aporta este
volumen est en exceso en relacin a la cantidad que finalmente formar la pelcula.
- Etapa 2: El sustrato se acelera hasta que se alcanza la velocidad de rotacin final
deseada. Debido a la fuerza centrpeta generada en el movimiento rotatorio, la
disolucin se esparce sobre toda la superficie del sustrato, y se expulsa parte de sta de
forma agresiva.
- Etapa 3: El sustrato gira a velocidad constante, y se produce un adelgazamiento
gradual del fluido, generalmente uniforme sobre toda la superficie.
En funcin de la tensin superficial y viscosidad del fluido, velocidad de rotacin, etc.,
el espesor final de la pelcula puede ser ligeramente diferente en los bordes del soporte.
- Etapa 4: Durante esta etapa, el soporte contina girando a velocidad constante, y es la
evaporacin del disolvente el fenmeno predominante.
Como es evidente, las etapas tercera (control del flujo o caudal) y cuarta (control de la
evaporacin) son las dos etapas que ms impacto tienen en el espesor final de la
pelcula, y deben ocurrir de forma simultnea.
Es habitual, una vez acabado el proceso, calentar el sustrato con la pelcula para
eliminar los restos de disolvente que hayan quedado en el seno de sta.
La tcnica spin-coating es utilizada en diversas aplicaciones que requieran cubrir
sustratos planos con pelculas delgadas uniformes. Actualmente muchas tecnologas
precisan de la fabricacin de pelculas de gran calidad, para lo cual hacen uso de este
mtodo, como por ejemplo: recubrimientos con materiales fotorresistentes para la
grabacin de plantillas en microcircuitos, pelculas aislantes/dielctricas para la
fabricacin de microcircuitos, recubrimientos magnticos (suspensiones de partculas
magnticas, lubricantes, etc.),recubrimientos en pantallas planas (tratamientos
antirreflejantes, xidos conductores, etc.), deposicin de pelculas en discos compactos
(DVD, CD ROM, etc.), dispositivos electroluminiscentes, etc.
A pesar de que el espesor final de la pelcula pueda ser relativamente controlado
(mediante la concentracin de la disolucin, velocidad de rotacin, temperatura, etc.),
no puede ser monitorizado, siendo adems difcil fabricar pelculas gruesas. Adems,
una desventaja considerable a tener en cuenta, cuando se emplea en aplicaciones como
OLEDs, es que no pueden depositarse pelculas adicionales si el disolvente puede
redisolver la pelcula anterior. Otro inconveniente que plantea esta tcnica, cuando es

utilizada en aplicaciones industriales, es que no puede usarse cuando la superficie a

recubrir posee dimensiones considerables. Por ltimo, mediante spin-coating se recubre
con pelcula toda la superficie disponible, por lo que no es adecuada en la fabricacin,
por ejemplo, de dispositivos full-color que requieren el recubrimiento de zonas
seleccionadas del sustrato. Conductores, etc.), deposicin de pelculas en discos
compactos (DVD, CD ROM, etc.), dispositivos electroluminiscentes, etc.
A pesar de que el espesor final de la pelcula pueda ser relativamente controlado
(mediante la concentracin de la disolucin, velocidad de rotacin, temperatura, etc.),
no puede ser monitorizado, siendo adems difcil fabricar pelculas gruesas. Adems,
una desventaja considerable a tener en cuenta, cuando se emplea en aplicaciones como
OLEDs, es que no pueden depositarse pelculas adicionales si el disolvente puede
redisolver la pelcula anterior. Otro inconveniente que plantea esta tcnica, cuando es
utilizada en aplicaciones industriales, es que no puede usarse cuando la superficie a
recubrir posee dimensiones considerables. Por ltimo, mediante spin-coating se recubre
con pelcula toda la superficie disponible, por lo que no es adecuada en la fabricacin,
por ejemplo, de dispositivos full-color que requieren el recubrimiento de zonas
seleccionadas del sustrato. del disolvente, manteniendo el soporte en un ambiente
limpio y, si es posible, (cuando el disolvente utilizado para preparar la disolucin sea no
acuoso), conviene realizar este paso en una caja seca o glove box. En el caso que sea
necesario, se eliminan los restos de disolvente de la pelcula mediante la aplicacin de
calor.
Depsito por bao qumico
En esta tcnica, se parte de una solucin acuosa de sales de los elementos de compuesto
que se desea obtener. El sustrato es sumergido en esta solucin y a la vez la solucin es
sometida a calentamiento constante por un tiempo determinado, siendo estos los
parmetros de depsito y los que proporcionan las propiedades de la pelcula, juntos con
las concentraciones de elementos en la solucin. En la superficie del sustrato ocurre una
reaccin qumica provocando la formacin de la pelcula.
Los compuestos que pueden ser depositados deben ser relativamente insolubles y
qumicamente estables en la solucin y presentar una precipitacin simple en una
reaccin inica. Los elementos que forman esta solucin serian, un compuesto que
aporte los iones metlicos, otro que sea la fuente de los iones no metlicos, un agente
acomplejante y uno que proporcione OH para regular el pH.
Deposicin qumica de vapor CVD: En esta tcnica el sustrato y la fuente estn
separados por un reactor (cmara de vacio) y las especies qumicas se trasportan
mediante un gas portador, de esta forma estas especies reaccionan con el sustrato y
producen el depsito deseado.
Pulverizacin catdica (sputtering): Si una superficie es bombardeada con partculas
energticas como iones acelerados, es posible causar expulsin de los tomos de la
superficie de un material, un proceso conocido como sputtering o pulverizacin
catdica. Estos tomos eyectados pueden ser condensados en un substrato para formar
una pelcula delgada. En la mayora de los casos, los iones positivos de gases neutrales
pesados como argn se usan para bombardear la superficie de materiales. Los materiales
de alto punto de fusin pueden ser usados tan fcilmente como unos de bajo punto de

fusin, y empleando fuentes de RF o DC la pulverizacin catdica de ambos materiales

puede ser lograda y tanto metales como aislantes pueden ser depositados.

Figura N 4: Iones incidentes y tomos expulsados del material.

Tcnica de Evaporacin de Materiales por Haz de Electrones
El mtodo de crecimiento de pelculas delgadas por evaporacin en vaco es uno de los
mtodos fsicos ms antiguos y utilizados. Hay dos formas principales de evaporar el material a
depositar, una es calentando el contenedor por medio del paso de una corriente elctrica
usando dos electrodos y la otra por el paso sobre el contenedor de un haz de electrones
proveniente de un filamento o can, hasta lograr la temperatura de fusin del material y
sublimarlo. La ventaja de utilizar un haz de electrones es la formacin de un flujo de vapor
uniforme y mejor dirigido hacia el substrato. En la figura 2 mostramos un esquema general de
una campana al vaco (sin mostrar el sistema de vaco) de una evaporadora y sus componentes
principales: los contenedores (crisoles), los electrodos para generar el calentamiento y el
sensor resonador de cuarzo para monitorear el espesor o la cantidad del material que se est
depositando en el substrato. Generalmente la temperatura de substrato es la temperatura ambiente
(como en nuestro caso), pero dependiendo de la aplicacin se pueden hacer depsitos a
temperaturas de substrato elevadas acondicionando calentadores. La presin de vaco generada
es del orden de 10-6 Torr dependiendo del equipo y necesidades.
El espesor, la uniformidad del espesor y la rugosidad de la pelcula delgada de metal son
afectados por la posicin que tiene el substrato con respecto al crisol que contiene el material a
depositar. Es recomendable colocar el substrato y el resonador de cuarzo a una misma
distancia del material fuente lo ms alejados posible para asegurar una razn de depsito
uniforme. Esta configuracin utilizada es una de las mejores.

Figura N 5. Esquema de una cmara de depsito de una Evaporadora.

Tcnica de Roco Piroltico Ultrasnico: Consiste en sintetizar pelculas delgadas sobre

un substrato caliente a partir de la pirlisis (descomposicin por efecto del calor) del
aerosol de una solucin qumica. Hay mecanismos diferentes a partir de los cuales se
puede generar un aerosol de una solucin. Las vibraciones ultrasnicas obtenidas por un
material piezoelctrico son aprovechadas con este fin. De esta manera, cuando se emplea un haz
de ultrasonido en la tcnica de roco piroltico se tiene el mtodo de depsito de roco
piroltico ultrasnico. A
consecuencia de la incidencia de un haz
ultrasnico en la superficie
del lquido se producen vibraciones de
longitud de onda viene dada por:
tensin superficial cuya

en donde T es la tensin superficial del lquido, es la densidad y es la frecuencia del haz

ultrasnico. Debido a las vibraciones engendradas en la superficie del lquido y debido
tambin a efectos de cavitacin se genera un aerosol o roco de la solucin qumica. El
dimetro de las gotas en el aerosol resulta ser proporcional a la longitud de onda de las
vibraciones en la superficie del lquido. De este modo, el tamao de las gotas en el aerosol, as
como la cantidad de ste, dependen de la naturaleza del lquido, de la frecuencia del haz
ultrasnico, as como de la potencia empleada.
Difraccin de rayos X (DRX): Es una tcnica de caracterizacin utilizada para analizar
aspectos relacionados con la estructura de los materiales que van desde la constante de red,
estructura cristalina, identificacin de materiales, orientacin de monocristales,
orientaciones preferenciales de policristales, partculas cristalinas en fases amorfas hasta
epitaxia de pelculas delgadas. Los rayos X en el espectro electromagntico se encuentran con
longitudes de onda entre 0.1 y 100 . Cuando los rayos X interaccionan con la materia
dan lugar a fenmenos tales como la dispersin. Cuando los rayos X son dispersados por un
cristal, tienen lugar interferencias entre los rayos dispersados, ya que las distancias entre los
tomos, que son los centros de dispersin, son del mismo orden de la longitud de onda
de los haces dispersados. El resultado que se obtiene de este fenmeno es la difraccin.
H. Bragg y W. L. Bragg in 1913 explicaron el fenmeno de porque los planos de corte de los
cristales aparentemente reflejaban los haces de rayos X a ciertos ngulos de incidencia (theta,
). En la figura 3.2.2.1 se muestra un diagrama del fenmeno de la difraccin de los rayos X
por un objeto para un haz incidente, y en forma especfica su relacin con la ley de Bragg.
Las variables que juegan un papel importante en esta ley son la distancia entre los planos
del cristal d, la longitud de onda y el ngulo al que se est tomando la difraccin.

En la forma general, n es un entero que toma un cierto nmero de capas. Asimismo, k es el

vector de onda del haz incidente que est relacionado con la longitud de onda, y k es el vector
de onda resultante. Si k es fijo, es decir, si el haz incidente es monocromtico y bien definido,
entonces se observa un haz difractado en direcciones que satisfagan a los vectores de onda k=
k+g, donde g es uno de los vectores de la red recproca del cristal, pero como la longitud de
onda del haz difractado es la misma que la del haz incidente, energticamente k y k sern
iguales, por lo que los vectores de onda deben tener el mismo valor numrico. Esto va a

imponer una condicin sobre el ngulo de dispersin, y dado que 2 es el ngulo entre k y k, se
tendr que

Figura N 6. Difraccin de rayos X por un objeto y ley de Bragg.

Si ahora, el valor del vector de red recproca es el recproco del espaciamiento entre los
tomos de los planos a los cuales es normal, entonces se tiene que

donde n se obtiene de la forma exponencial de ondas planas eigr donde gr =2n. Conociendo
la longitud de onda del haz incidente, se obtiene finalmente
n = 2dsen .
Conocida como la ley de Bragg. As que la difraccin ocurre siempre y cundo se
satisfaga la ley de Bragg, por lo que no cualquier direccin arbitraria necesariamente producir
difraccin.
Mtodo

Laue
Cristal rotante
Polvos

Variable
Fijo
Fijo

Fijo
Variable (en parte)
Variable

Tabla N 1 Mtodo de Difraccin de Rayos X.

Espectroscopa de Energa de Rayos X Dispersados (EDS): En los equipos de microscopa
electrnica de barrido (SEM) se obtiene emisin de rayos X a partir de un espcimen
bombardeado por medio de un haz de electrones enfocados de una manera muy precisa. Esta
emisin puede ser utilizada para analizar cuantitativamente con una aproximacin y precisin
del 1% la composicin qumica que existe en la muestra que est siendo bombardeada, lo cual
se hace con accesorios que se pueden adaptar a estos equipos de anlisis. Normalmente la emisin
de rayos X que se obtiene de un material son caractersticos de sus componentes qumicos (K,
K, L, etc.) dado que son producidos cuando el haz electrnico expulsa electrones de las
capas atmicas K, L, etc., de los elementos que componen la muestra y esos niveles son

llenados por otros electrones que son de capas con una mayor energa. La diferencia en la
energa de un electrn que de una capa ms energtica cae a otra de menor energa, se compensa
por medio de la emisin de un fotn de frecuencia que corresponde a la diferencia de energa
entre las dos capas. La frecuencia del fotn es caracterstica de ese proceso en ese componente
qumico y se puede expresar por medio de la ley de Moseley

Figura N 7. Esquema del proceso de EDS para una estructura con pelcula delgada.
Donde Z es el nmero atmico, es una constante para cada tipo de lnea caracterstica y C una
constante de proporcionalidad. Las mediciones de la longitud de onda, as como de intensidad
del fotn emitido proporcionan un anlisis qumico cualitativo o al menos semicuantitativo.
Microscopa de Fuerza Atmica.
El anlisis de superficies mediante Microscopa de Fuerza Atmica (MFA) es muy til pues
proporciona diversa informacin entre la que se encuentra altura de islas, rugosidad promedio y
una altura valle pico. Esta tcnica utiliza un microscopio de barrido mediante el uso de una
punta de prueba. Los alcances de este microscopio van desde la estructura molecular hasta
estructuras de orden de micras entre las que se encuentran aplicaciones biolgicas como son la
superficie de una clula, morfologa de bacterias, etc. En particular, el microscopio de fuerza
atmica se utiliza para anlisis superficial de slidos.

Figura N 8. Esquema de un microscopio de fuerza atmica.

Actualmente la tcnica MFA ha evolucionado de tal manera que no solo se hacen imgenes
tridimensionales, sino que se estudian interacciones elctricas, magnticas, trmicas y de
grabados (hasta nanomanipulacin de tomos) entre la punta y las muestras a estudiar. Incluso se

ha extendido la tcnica en ambientes controlados de fluidos para hacer investigacin en

procesos de electroqumica en situ. A todas las tcnicas en su conjunto se les conoce como
Microscopas de Barrido con Puntas de Anlisis (tambin conocida como Microscopa de
Fuerzas) o en ingls "Scanning Probe Microscopy SPM".
Perfilometra: Una de las variantes de la Microscopa de Fuerzas SPM es cuando
consideramos la interaccin de una punta de diamante muy aguda con alguna superficie
en el rgimen repulsivo de fuerzas escaneando la superficie a analizar en una dimensin
para obtener "el perfil" transversal de la misma. A dicho dispositivo se le conoce como
Perfilmetro y nos sirve para determinar espesores de pelculas, rugosidad promedio, tamao de
grano promedio. De hecho el perfilmetro dio al lugar al desarrollo del microscopio de fuerza
atmica.
Espectroscopa de Absorcin UV-vis
Una de las tcnicas de caracterizacin ptica que nos permite estudiar la transparencia ante luz
visible y ultravioleta de pelculas delgadas es la espectroscopia de absorcin UV-vis. Dicha
tcnica permite adems medir el ancho de banda ptico de muestras semiconductoras lo cual
nos suministra una idea de la conductividad elctrica de las mismas.
En la tcnica de absorcin UV-vis, luz monocromtica a diferentes longitudes de onda se hace
incidir sobre las muestra, parte de la intensidad de la luz se refleja, parte se transmite y parte se
absorbe en la muestra. De la intensidad absorbida se extraen
parmetros como el ndice de refraccin y el coeficiente de
absorcin ptico.
Figura N 9. Proceso de Absorcin: Esquema general de un haz
de luz de intensidad Io que atraviesa una pelcula delgada
perdiendo parte de su energa terminando con una intensidad I.
El ancho de banda ptico (Eg) de las pelculas delgadas se calcula usando la relacin.

Donde la densidad ptica (DO):

h es la energa de los fotones incidentes es una constante de proporcionalidad.