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Resumo: O resduo eletro-eletrnico vem aumentando exponencialmente com o passar dos anos. Isto
se deve velocidade com que a tecnologia evolui dia-a-dia. Com o aumento do consumo,
especialmente dos aparelhos celulares, a quantidade de aparelhos que se tornam obsoletos durante
um ano muito grande e desta forma a gerao deste tipo de resduo aumenta constantemente. Estes
aparelhos celulares descartados apresentam um grande valor econmico, pois em sua composio
contm uma pequena quantidade dos metais preciosos como ouro, prata e paldio, alm de uma
maior quantidade de outros metais como cobre, chumbo, nquel e estanho, que tm um bom valor
comercial. H um grande interesse na recuperao destes metais, pois a sua reutilizao como uma
nova matria-prima proporciona uma grande economia de tempo e muitas vezes de energia, pois este
material no ter a necessidade de passar pela etapa de minerao do metal, trazendo uma
alternativa real de reutilizao de uma matria-prima que seria desperdiada. O objetivo deste
estudo recuperar estes metais, especialmente a prata, atravs de uma rota hidrometalrgica
estudando reagentes alternativos ao cianeto, como o cido ntrico e o tiossulfato de sdio. Os
resultados obtidos demonstraram que o cido ntrico um timo agente lixiviante para a prata neste
resduo, apresentando inclusive uma eficincia maior que o deplacante a base de cianeto que
utilizado industrialmente. As melhores condies para a utilizao do tiossulfato de sdio ainda
esto sendo estudadas, mas j demonstra potencial para utilizao na lixiviao de metais preciosos.
Palavras-chave: Reciclagem de sucata eletrnica, Lixo eletrnico, PCI celular, Metais preciosos.
Pg
1
1. INTRODUO
Nos dias atuais a tecnologia eletrnica evolui a cada dia, o que gera muitas inovaes nos
equipamentos eletrnicos, fazendo com que eles se tornem obsoletos muito facilmente. Isto acarreta
um descarte cada vez mais rpido destes tipos de equipamentos, gerando um acumulado muito grande
de resduos eletrnicos.
Segundo Das et al (2010) e Tuncuk et al (2011), o resduo eletro-eletrnico tem uma
taxa de crescimento de 3 a 5% anualmente, sendo o fluxo de resduo que mais cresce no resduo
municipal .
Ao final do ano de 2010, o Brasil possua 28.984.665 milhes de habilitaes de
telefonia celular, de acordo com a ANATEL (Agncia Nacional de Telecomunicaes), o que nos
remete a um grande nmero de aparelhos celulares utilizados. Com o crescente poder econmico da
populao e o interesse de cada vez possuir um equipamento mais moderno, pode-se verificar um
grande problema ambiental associado ao futuro de todos com todos estes aparelhos descartados.
Cui & Zhang (2008) relatam que a reciclagem do resduo eletrnico um importante
instrumento no somente como tratamento, mas como um modo de recuperar metais valiosos.
As placas de circuito impresso de equipamentos eletro-eletrnicos apresentam uma
composio bastante variada, podendo conter polmeros, cermicos e metais (VEIT et al, 2006). Por
ter esta composio, h um grande interesse na recuperao destes componentes, principalmente os
metais que compem as placas de circuito impresso.
De acordo com Kasper et al (2011) e Das et al (2010), apesar do telefone celular ser
pequeno, ele tem um alto potencial de poluio, pois apresenta 12 itens considerados malficos
sade e tambm ao ambiente. Entre estes itens podemos destacar o mercrio (Hg), o cdmio (Cd), o
chumbo (Pb) e o arsnio (As),
Alm dos elementos e substncias malficas, segundo Veit et al (2006), no lixo
eletrnico tambm so encontrados metais preciosos, alm de muitos outros metais que servem de
base para estes equipamentos.
Desta forma, em funo do volume de lixo eletrnico gerado, sua disposio final e a
quantidade de elementos qumicos que ele possui, diversos estudos esto sendo realizados para
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2
caracterizar as Placas de Circuito Impresso (PCIs) de aparelhos celulares, a fim de que se possa
reutilizar novamente esta gama de elementos, como matria-prima (Kasper et AL, 2011).
O processo tradicional de recuperao de metais do resduo eletrnico pirometalrgico,
que depende de um alto investimento econmico e grande consumo de energia. Alm do processo
pirometalrgico h os processos hidrometalrgicos, eletrometalrgicos e biometalrgicos. (CUI &
ZHANG, 2008).
Este trabalho avalia diferentes composies de solues de lixiviao, para a
solubilizao dos componentes metlicos das placas de circuito impresso de aparelhos celulares, para
que estes possam, em uma segunda etapa, ser recuperados por tcnicas hidrometalrgicas.
2. PROCEDIMENTO EXPERIMENTAL
2.1. Materiais
Inicialmente, foram coletados aparelhos celulares em Assistncias Tcnicas , no sendo
observados marca, modelo e nem ano de fabricao.
Aps a captao deste material, os aparelhos foram desmontados manualmente e as
baterias e carcaas polimricas foram separadas e descartas adequadamente.
Para realizar este trabalho foi utilizado um total de 2 kg de placas de circuito impresso
provenientes dos aparelhos celulares desmontados.
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3
Sucatas de Aparelhos
Celulares
Desmontagem
Manual
Placas de Circuito
Impresso
Baterias e Carcaas
Polimricas
Cominuio
Descarte
Adequado
Caracterizao aps
dissoluo
com gua-Rgia a
60C / 80C
1 Hora / 2 Horas
Ensaios de
Lixiviaes com
diferentes solues e
parmetros
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4
Figura 2: Digesto qumica das Placas de Circuito Impresso com gua-rgia em um balo
com refluxo para posterior caracterizao qumica.
Pg
5
Aps realizar a caracterizao qumica das PCIs, foram realizados vrios ensaios de
lixiviao, com diferentes lixiviantes, a fim de determinar qual o melhor lixiviante para Prata e Ouro e
quais os melhores parmetrosde lixiviao. Os lixiviantes avaliados foram cido Clordrico, cido
Sulfrico, cido Ntrico, Deplacante Galvastripper de Ouro (utilizado comercialmente, fornecido
pela Galva), Tiossulfato de sdio e Tiossulfato de Sdio com adio de variadas concentras de
Hidrxido de Amnio, Sulfato de Cobre II e Perxido de Hidrognio.
O cido Clordrico, o cido Sulfrico e o cido Ntrico foram preparados numa
proporo de 1/3 com gua deionizada. Estas lixiviaes foram realizadas com uma relao
slido/lquido de 1/20, nas temperaturas de 25C e 60C, utilizando um sistema fechado com refluxo e
uma agitao magntica, durante 2 horas, conforme apresentado na Tabela 1.
Tabela 1: Condies da lixiviao de Prata e Ouro das PCIs com cido Clordrico,
cido Ntrico e cido Sulfrico.
Ensaio
1
2
3
4
5
6
HCl
-
HNO3
H2SO4
1/3
1/3
-
1/3
1/3
-
1/3
1/3
Temperatura (C)
25
60
25
60
25
60
Tempo (Horas)
2
2
2
2
2
2
Relao S/L
1/20
1/20
1/20
1/20
1/20
1/20
Para comparar os resultados obtidos neste trabalho com uma soluo comercial foi
realizado a lixiviao com o Deplacante Galvastripper sem nenhuma diluio. A lixiviao foi
realizada com uma proporo slido/lquido de 1/20, a temperatura ambiente, de acordo com a
recomendao do fabricante, durante 4 horas, utilizando um sistema com agitao mecnica para se
obter um melhor controle da velocidade de agitao do sistema. Os parmetros da lixiviao esto
apresentados na Tabela 2.
Os ensaios com Tiossulfato de Sdio foram realizados numa proporo slido/lquido de
1/20 com agitao mecnica a temperatura ambiente. O pH do sistema foi controlado entre 9,0 e 11,5,
com Hidrxido de Sdio (NaOH), pois de acordo com Breuer & Jeffrey (2003), Briones & Lapidus
(1998) e Zipperian et al (1980), esta a melhor faixa de pH para a lixiviao dos metais preciosos. Os
dados de lixiviao esto apresentados na Tabela 2.
Nos sistemas contendo Tiossulfato de Sdio, Hidrxido de Amnio, Sulfato de Cobre II e
perxido de hidrognio utilizou-se diferentes concentraes molares de cada reagente. Estes ensaios
foram preparados numa proporo slido/lquido de 1/25, mantendo o volume de Tiossulfato de Sdio
constante. Os ensaios foram realizados em temperatura ambiente em sistema com agitao mecnica.
O pH do sistema foi controlado entre 9,5 e11 com cido Clordrico (HCl), para que estivesse na
melhor condio de lixiviao dos metais preciosos (Tabela 2).
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6
Tabela 2: Condies da lixiviao de Prata e Ouro das PCIs com o Deplacante Galvastripper e
com Tiossulfato de Sdio com variaes nas concentraes de Hidrxido de Amnioa, Sulfato de
Cobre II e Perxido de Hidrognio.
Ensaio
Galvastripper
S2O3
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
concentrado
-
1
1
0,1
0,1
0,1
0,1
1
0,5
0,1
1
0,5
1
0,1
[]M
-2
[ ]M
[]M
NH3
Cu
0,2
0,2
1
1
0,2
1
1
1
0,2
+2
0,015
0,003
0,1
0,1
0,05
0,05
[]M
H2O
2
1
0,5
0,1
1
0,5
1
0,1
Temperatura Tempo
(C)
(Horas)
25
25
25
25
25
25
25
25
25
25
25
25
25
25
4
4
4
4
4
4
4
4
4
4
4
4
4
4
pH
Relao S/L
12,6
10,9
11
10,1
10,3
10,5
9,9
10,8
9,8
10,4
10,8
9,5
10,5
10,4
1/20
1/20
1/20
1/20
1/20
1/25
1/25
1/25
1/25
1/25
1/25
1/25
1/25
1/25
3. RESULTADOS
0B
Temperatura
(C)
60
Tempo
(Horas)
1
60
80
80
932,78
875,10
911,97
853,27
910,73
853,32
805,36
897,85
357796,34
353023,07
368953,21
369816,59
422337,87
413469,22
348920,86
403032,72
Sn
(g/tonPCI)
Ni
(g/tonPCI)
20087,51
18735,08
20777,16
20035,89
23819,05
23181,45
15827,34
21548,28
22215,59
21300,72
22898,49
22049,44
27542,03
28157,47
21282,97
22106,94
* ND = No determinado
Considerando-se os resultados obtidos, determinou-se que as amostras avaliadas
apresentam a composio qumica mostrada na Figura 4.
Pg
7
Estanho e Nquel
1000
30000
800
25000
600
Ag
400
Au
g /to n P C I
g /to n P C I
Prata e Ouro
20000
15000
Sn
Ni
10000
200
5000
Cobre
420000
g /to n P CI
400000
380000
Cu
360000
340000
320000
Figura 4: Caracterizao Qumica das PCIs aps digesto com gua-Rgia numa relao
slido/lquido 1/20.
A partir desta caracterizao, foram estudados os diferentes lixiviantes apresentados nas
Tabelas 1 e 2. Os resultados obtidos para as lixiviaes cidas so apresentados na Tabela 4.
Tabela 4: Resultados da lixiviao de Prata e Ouro das PCIs com cido Clordrico,
cido Ntrico e cido Sulfrico.
Ensaio
Lixiviante
Temperatura
gAg/ ton PCI
gAu/ton PCI
(C)
21,67
1
HNO3
25
3419,48
30,77
2
HNO3
60
3236,76
3
HCl
25
Nd*
23,55
60
43,68
33,51
4
HCl
5
H2SO4
25
Nd*
36,2
6
H2SO4
60
Nd*
42,78
Nd* = No detectado.
Ao compararmos os resultados obtidos das lixiviaes da Prata (Ag) com gua-rgia
(Figura 4) e o cido ntrico (Tabela4) observa-se que a gua-rgia no consegue lixiviar totalmente a
prata contida nas placas de circuito impresso de celulares, provavelmente porque h formao do
precipitado Cloreto de Prata (AgCl).
Em relao lixiviao do Ouro (Au), comparando novamente a gua-rgia (Figura 4) e
o cido Ntrico (Tabela 4), verificou-se que o cido Ntrico no apresentou uma boa eficincia para a
lixiviao do ouro.
A variao da temperatura durante a lixiviao das placas de circuito impresso de celular
com cido Ntrico no ocasionou uma grande variao no resultado final para anlise da lixiviao do
Pg
8
Ouro e da a Prata. Para o Ouro a melhor condio se apresentou a 60C e para a Prata a melhor
condio foi a digesto a temperatura ambiente.
Ao se comparar as lixiviaes do cido Clordrico, do cido Sulfrico e do cido
Ntrico, nos ensaios 1 ao 6, conclui-se que o cido Sulfrico no conseguiu lixiviar a Prata,
independente da temperatura. J o cido Clordrico s consegue lixiviar a Prata com a utilizao de
aquecimento. Para a Prata o cido Ntrico se mostrou um bom lixiviante. Em relao ao ouro, os trs
reagentes conseguiram lixiviar aproximadamente 3% do Ouro presente na amostra em comparao ao
lixiviado com a gua-rgia (Figura 4).
Os ensaios de lixiviao com cido Ntrico foram realizados 3 vezes e pode-se afirmar
que a concentrao de prata determinada aps a lixiviao com cido Ntrico de 3493,67 (gAg/ton
PCI) 300,91. (Tabela 5)
Amostra
7
8
9
Pg
9
Ensaio
Lixiviante
10
Galvastripper
1692,46
589,28
11
1M S2O3-2
16,95
48,47
12
1M S2O3-2
35,15
52,83
13
0,1M S2O3-2
18,16
13,57
14
0,1M S2O3-2
44,27
14,16
33,89
85,23
35,22
87,56
26,40
58,09
71,83
44,78
41,90
12,47
42,62
61,88
84,44
51,17
28,85
42,02
50,30
13,71
15
16
17
18
19
20
21
22
23
gAu/ton PCI
Pg
10
rgia no apresentou bons resultados porque possui em sua composio o cido clordrico, que pode
causar a precipitao de cloreto de prata, diminuindo desta forma a eficincia desta lixiviao.
O Deplacante Galvastripper consegue lixiviar 67% de Ouro e 48% da Prata lixiviada
com cido Ntrico.
Verificamos que o cido clordrico e o cido Sulfrico apresentam um grau de
lixiviao muito pequeno para o Ouro e a Prata das PCIs de aparelhos celulares.
Com relao a utilizao do Tiossulfato de Sdio ainda no foi obtida uma condio
satisfatria para a lixiviao dos Metais Preciosos. Porm, deve-se que ressaltar a importncia da
continuidade destes estudos na busca de lixiviantes alternativos ao cianeto em funo de suas
implicaes ambientais.
6- REFERNCIAS BIBLIOGRFICAS
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HUUU
UH
Pg
11