Universidad Nacional Autnoma de

Mxico
Facultad de Estudios Superiores
Cuautitln
Departamento de Ciencias Qumicas
Seccin de Qumica Analtica

Qumica Analtica III

Ingeniera Qumica
Profesores:
Hernndez Matamoros Pablo
Dolores Hernndez Mariana

Reporte Experimental No. 2

Electrodeposicin de un mezcla de Cu (II) y Ni (II)
Equipo 1:

De Luna Hernndez Elizabeth

Granados Ramrez Anayansi Hazel
Guerrero Santana Guillermo
Resndiz Ramrez Jazmn
Uribe Blancas David
1 - septiembre-2015

Introduccin

La electrodeposicin es una tcnica electrogravimtrica que consiste en

depositar un metal presente en solucin en un electrodo, en el caso un
electrodo de platino. La experimentacin se realiz a partir de una mezcla de
cationes: el ion Nquel (II) y el in Cobre (II), disueltos en solucin acuosa a
partir de los reactivos Sulfato de Nquel (II) y Sulfato de Cobre (II).
El sistema consiste en un generador de
corriente conformado por un nodo y un
ctodo. El nodo tiene la principal funcin
de suministrar la energa al medio acuoso
donde estn presentes los iones, estos
se
reducen dirigindose hacia el ctodo lo
cual
podemos observar al notar el cambio
de
coloracin del ctodo por el depsito
del metal. Este proceso es una
reaccin
electroqumica que particularmente los iones N 2+ y Cu2+ se
transforman a Ni0 y Cu0. Para el caso del Cobre podemos notar que se ha
reducido dicho in por el cambio de coloracin del electrodo (que viene siendo
el ctodo) a rojizo (color caracterstico del cobre metlico.
En la prctica se efectu el proceso de reduccin del metal Cu a potencial
controlada y a corriente controlada. De esta manera se pretende identificar las
diferencias en cuanto a resultados de ambas tcnicas.

Objetivos
Identificar las diferentes tcnicas para llevar a cabo una
electrodeposicin, as como los principios fundamentales en que se
basan estas tcnicas.
Determinar el mtodo electro gravimtrico que permite llevar acabo la
separacin cuantitativa de una mezcla de cationes, en solucin acuosa.
Evaluar si la electrodeposicin se realiza con rendimiento adecuado para
fines cuantitativos.

Parte experimental

Preparacin de soluciones
Cu(NO3)2.3H2O 0.01M a 100ml
100 ml=0.2418 g Cu( NO 3) 2.3 H 2O
1000 ml
0.01mol
241.604 g Cu ( NO 3 ) 2 .3 H 2 O

100 g Ra
1 mol Cu ( NO 3 ) 2.3 H 2O

99.91 g Cu ( NO 3 ) 2.3 H 2O
1<

Ni(SO4)2.6H2O 0.01M a 100ml

100 ml=0.2682 g( SO 4) 2.6 H 2O
1000 ml
0.01mol
262.85 g(SO 4)2 .6 H 2O

100 g Ra
1 mol(SO 4) 2 .6 H 2 O

98 g( SO 4)2 .6 H 2O
1<

Resultados
Peso constante a los electrodos de malla de platino

1)
2)
3)
Peso cte

Electrodo 1(g)
Potencial controlado
14.996
14.996
14.996
14.996

Electrodo 2 (g)
intensidad impuesta
10.938
10.938
10.938
10.938

Peso (g)

Potencial controlado

intensidad impuesta

Inicial

14.996

10.938

Final

15.024

10.967

Calculo de los miligramos tericos de Cu0

0.242 g R . A Cu(NO )3

99.9 g R . P
63.65 g Cu

=0.0638 g Cu
100 g R . A 241.04 g Cu( NO)3

Si consideramos un aforo de 50 en 100

0.0638 g Cu

50 ml
=0.0319 g = 31.9 mg Cu
100 ml

Calculo de los miligramos tericos de Ni0

=0.05973 g
262.86 g (SO)4
99.8 g R . P
0.268 g R . A (SO)4

100 g R . A

58.71 g

Si consideramos un aforo de 50 en 100

0.05937 g

50 ml
=0.02986 g = 29.8669 mg Ni
100 ml

Anlisis de resultados
Las reacciones electroqumicas que se est llevando acabo es la siguiente:
Cu 2+ + 2 e ------- Cu

1)

E = 0.339 v reduccin (catado)

H 2O +2 e ----------1/2 O2 +2 H+ E =-1.229 v oxidacin (nodo)

Cu 2+

2)

H 2 O ---------- Cu + O 2 + 2 H+

Ni

2+

+ 2 e ------- Ni

H2 O +2 e ----------1/2 O2 +2 H+
Ni 2+

E =-0.890 v

E =-0.25 v

reduccin (catado)

E =-1.229 v oxidacin (nodo)

H2 O ---------- Ni + O2 + 2 H+ E =-1.479 v

Nos damos cuenta que la reaccin que ocurre primero es la de Cu2+ ya que
requiere de menor energa para poder efectuarse a compararla con la de Ni 2+
Este ser el potencial aplicado mnimo para que ocurra la reduccin del Cu 2+
se desprenda O 2. Si el potencial es inferior a 0.9 v es de esperar que no ocurra
nada.

Como est a potencial controlado quiere decir que es ms selectiva la reaccin

Ya que la reaccin no es espontanea, se necesita aplicar energa para que esta

se vuelva espontanea, por lo cual se modifican las condiciones; en el caso del
cobre, se necesita menos energa para revertir la reaccin, y volverla ms
espontnea, por lo cual se deposita primero el cobre, lo cual lo podemos
observar con el siguiente esquema:

Al agregar H 2 SO 4 se impone un muro (acido), para poder solo electro

depositar cobre, impidiendo que al finalizar la electrodeposicin de cobre
comience la de nquel.
En el caso de utilizar amoniaco, se hace para desplazar justamente este muro,
permitiendo as poder electro depositar el nquel.

Electro deposicion
del cu

Potencial controlado
Intensidad Controlada

En la electrodeposicin a intensidad controlada: Para el cobre

Se coloca en un vaso de pp. 50 mL de la mezcla Cu(II) Ni(II) colocando 1 mL
de H2SO4.

Como se puede ver en la escala de oxido-reducion existe un muro impuesto

por el medio acido hace una barrera que hace que solo que el cobre se
electrodeposite en el electrodo, mientras que el niquel sigue en la solucion,
esto tambien con ayuda de la corriente impuesta.
Se introducen los electrodos limpios y pesados con un previo tratamiento para
tener una cuantificacion mas exacta se colocan el nivel de la solucion tiene que
estar 3 cm por debajo del nivel superior de la rejilla.
Se coloca una intensidad de 0.5 amperes que esta, al igual que el muro de
hidrogeno producen un muro que impide que se electrodeposite el niquel en el
electrodo, de estas dos maneras aseguramos la efectividad de la
cuantificacion.
Se dejan transcurrir 20 min para que se logre una buena electrodeposicion,
despues de este tiempo colocamos un poco de agua para que suba el nivel, si
en este se vulve a elctrodepositar se dejara mas tiempo y posteriormente se
subira el nivel hasta que se asegure que todo el cobre quedo en el electrodo y
ya no hay en la solucion.

La influencia de la composicin qumica del electrolito

se ve en la evolucin de las propiedades fsicas de
los depsitos, son utilizados para mejorar las
propiedades de los materiales como la apariencia,
las propiedades fsicas o mecnicas. En este
contexto, los depsitos de cobre son ampliamente
usados en la industria por su dureza, resistencia a la
corrosion y conductividad.
Se colocaron composiciones equivalentes en 100mL de los dos metales para
que fueran 50mL-50mL en la mezcla, y asi poder hacer una comparacion entre
ambas tecnicas.

Se justifica el potencial controlado (cte) debido a que la diferencia de potencial

aplicada a los electrodos se ajusta a un valor lmite que permite solamente la
electrodeposicin de una especie, aquella especie que tenga un potencial
estndar que difiera solo en una cuantas decimas de voltios. Es decir, que
requiera menor energa, por lo tanto que sea menos espontnea.
Para llevar a cabo la electrodeposicin a potencial constante, el potencial
aplicado al ctodo est en funcin del metal que se desea separar (separacin
selectiva), como caracterstica principal, dicho potencial aplicado al ctodo
debe ser mayor al potencial estndar o del ion metlico, generando as una
completa deposicin, en el caso de separar una mezcla de varios iones. El
potencial aplicado debe ser inferior al potencial de reduccin de las dems
especies electroactivas presentes en la solucin, como se llev acabo en la
electrodeposicin de cobre, adems de contar con la presencia de un muro de
oxidacin para evitar las interferencias provocadas por una deposicin
simultnea, razn por la cual se aplic un potencial mayor al estndar.

Electrodeposicin del cobre a potencial controlado V=cte

Electrodo de rejilla de
platino

(g)

Masa inicial (p0)

10.938

Masa final (pf)

10.967

Diferencias (pf-p0)

0.029

Electrodeposicin del cobre a intensidad controlado i=cte

Electrodo de rejilla de platino
Masa inicial (p0)
Masa final (pf)
Diferencias (pf-p0)

(g)
14.996
15.024
0.028

Intensidad impuesta
RA99.91 g de Cu( NO 3)2.3 H 2O
63.65 g de Cu
100 g RA
0.242 g
=0.0638 g de Cu
241.04 g de Cu( NO 3)2 .3 H 2 O

Con las dilucin previamente

0.0638 g de

cu50 ml
=0.0319 g Cu
100 ml

31.9 mg de Cu ----------100% (terico)

29 mg de Cu--------------90.90% (experimental)
Potencial controlado
RA99.91 g de Cu( NO 3)2
63.65 g de Cu
100 g RA
0.242 g
=0.0638 g de Cu
241.04 g de Cu( NO 3)2
Con las dilucin previamente
0.0638 g de

cu50 ml
=0.0319 g Cu
100 ml

31.9 mg de Cu ----------100% (terico)

28 mg de Cu--------------87.77% (experimental)

Potencial controlado
Intensidad impuesta

%Cu recuperado
90.90
87.77

%Ni recuperado
Si hay
Si hay

Para la electrodeposicin de nquel no fue efectuada por falta de tiempo solo se

llev a cabo cualitativamente agregndole amoniaco y unas gotitas
dimetilgioxima y si tenemos tonalidad rosa quiere decir, que hay presencia de
nquel

Esquema Simple de un circuito potencimetro

Potenciostato con Regulacin

electrnica

Conclusiones
Como podemos darnos cuenta la electrodeposicin potencial controlado y a
intensidad impuesta tenemos semejantes el % de recuperacin del Cu esto
quiere decir que estas dos tcnicas son favorables para la separacin de
metales.
Es necesario aplicar un potencial considerablemente mayor para que la
reaccin ocurra es porque la formacin de oxgeno en la superficie de Pt se
observa que se requiere un potencial extra para vencer la energa de activacin
del agua en un electrodo de platino, a fin de formar O 2 como producto.
Le agregamos H2SO4 para imponer un muro y as controlar mejor la reaccin cu y
permitir una mejor separacin ya que tenemos tambin el Ni lo cual podra
quedar en ctodo terminando la de cobre.

Bibliografa

Harris, D.C., Anlisis qumicos cuantitativo, Iberoamericana, Mexico,

1992.
https://books.google.com.mx/books?isbn=8429175199