DEPOSICIN QUMICA EN FASE DE VAPOR o CVD

CIENCIA E INGENIERA DE MATERIALES

Recubrimientos metlicos

L. Guerra
03 de mayo de 2017

Resumen.-. La optimizacin de los tratamientos condiciones del proceso, con los que se depositan una
superficiales y en especial la creciente aplicacin de los variedad de compuestos gaseosos [1].
recubrimientos metlicos, a las piezas y herramientas en
general que requieren mayores exigencias, permiten obtener
resultados considerados en sus propiedades y
caractersticas. El objetivo de este artculo es informar sobre
las capas C.V.D., su principio, generacin, sus beneficios
que se estn obteniendo mediante su aplicabilidad, sus
caractersticas, sus aplicaciones industriales y su correcta
eleccin.

DEFINICIN
Fig. 2 Esquema de un proceso CVD
Fuente: (Gomez. J, 2009)

En estos procesos la activacin de los gases puede llevarse a

cabo trmicamente, mediante fotones o con la utilizacin de un
plasma.

1. Activacin trmica: cuando se hace por calentamiento

directo de los reactivos [2].
- Convencional
- A baja presin
Fig. 1 Micrografa de una capa de obtenida por proceso CVD. - Organometlico
Fuente: (Dobkin & Zuraw, 2003) - Con filamento caliente
- Por Pack cementation
La deposicin qumica en fase de vapor CVD, es un proceso - Reactor de lecho fluidizado
de recubrimiento termoqumico que implica la interaccin entre
una mezcla de gases y la superficie de un sustrato calentado, 2. Activacin por plasma.- mediante una descarga
lo que provoca la descomposicin qumica de algunas de las elctrica o plasma de tipo luminosa las cuales crean
partes del gas y la formacin de una pelcula slida en el lugares con radicales en los cuales reaccionan
sustrato para enriquecer la superficie del componente. Las productos qumicos facilitando la adhesin de
reacciones ocurren en una cmara de reaccin sellada. Existen superficies no reactivas [2].
numerosos procesos de CVD, dependiendo del campo de - Por plasma
aplicacin. Estos procesos se diferencian en el medio por que
se inician las reacciones qumicas (activacin) y las 3. Activacin por fotones.- se produce mediante la
excitacin de las molculas reactivas por iluminacin
 con fotones de energa elevada (luz ultravioleta) o de
intensidad elevada (radiacin laser) [2].
- Foto CVD
- CVD asistida por plasma
Aspectos bsicos de las reacciones de CVD.
La reaccin de uno o varios compuestos en forma de gas o
vapor para dar un producto slido (recubrimiento), hay dos
tipos de reaccin, se muestra en la Figura1 [2]:
- Homognea: Fase gas - Polvo cermico.
- No homognea (heterognea): Superficie-
Recubrimiento.
Cmo se generan los recubrimientos CVD.
En un proceso CVD estndar el sustrato se expone a uno o
ms precursores voltiles, que reaccionan o se descomponen
en la superficie del sustrato para producir el depsito deseado.
Donde adems se producen subproductos voltiles, que son
eliminados por medio de un flujo de gas que pasa a travs de
la cmara de reaccin. Las capas creadas mediante este
proceso, estn en el intervalo de temperaturas entre 500 y 750
C, que confieren buenas propiedades tecnolgicas y
tribolgicas a una amplia gama de materiales. Los procesos de
microfabricacin CVD se emplean ampliamente para depositar
materiales en diversas formas, incluyendo: monocristalinos,
policristalinos, amorfo, y epitaxial. Estos materiales incluyen:
silicio, fibra de carbono, nanofibras de carbono, tungsteno,
carburo de silicio, nitruro de silicio, El proceso de CVD se utiliza
tambin para producir diamantes sintticos [3].
Beneficios del recubrimiento CVD.
Los beneficios que ofrecen los recubrimientos CVD al
emplearlo en equipos recubiertos con esta tcnica son
considerables, porque hace a los equipos ms fiables,
prolongando la vida til, por su alta resistencia al desgaste y
excelente adherencia al metal duro. Recubrimientos CVD ms
modernos combinan MT-Ti(C, N), Al2O3 y TiN. Donde las
propiedades del recubrimiento se han mejorado de forma
continua en cuanto a adherencia, tenacidad mejor resistencia a
la deformacin plstica, desgaste mediante optimizacin
microestructural y tratamiento posterior. Todo esto gracias a las
caractersticas que brinda de esta tcnica: versatilidad,
compatibilidad con otros tratamientos y procesos, posibilidad
de controlar la composicin del producto y obtener capas de
composicin prefijada y su homogeneidad de espesor obtenido
[4].
Las propiedades de este tipo de recubrimientos CVD dependen
significativamente de la qumica del material base,
especialmente en el caso de los recubrimientos de alta
actividad [5].
Ventajas de los recubrimientos CVD.
El CVD es un sistema que ofrece las siguientes ventajas:
- La principal ventaja de la CVD frente a otras tcnicas
de deposicin de recubrimientos es su capacidad de
envolver y penetrar piezas con geometras muy
complejas.
- Mayor calidad, se pueden producir materiales
altamente densos y puros.
- Pelculas o capas delgadas uniformes con buena
reproducibilidad y adhesin.
- Mediante el estudio de los parmetros del proceso es
posible controlar la estructura cristalina, la morfologa
de la superficie y la orientacin de los productos del
CVD.
- Permite obtener capaz ms gruesas.
- Velocidades elevadas.
Desventajas de los recubrimientos CVD.
- Riesgos qumicos y seguridad, debido a que
precursores utilizados suelen ser, txicos, corrosivos,
inflamables, y/o explosivos. Sin embargo, stos han
sido minimizados usando variantes en el CVD
mtodos que emplean precursores menos
contaminantes.
- Control y ajuste sobre las variables.
- Los costos del proceso son altos. Actualmente existen
variantes del proceso que pueden ser una buena
alternativa para la aplicacin de recubrimientos con
costos de produccin ms bajos.
Materiales adecuados para el tratamiento con CVD.
Todos los aceros de alta y baja aleacin y los metales duros se
pueden recubrir con el proceso de CVD. Casi todos los
materiales como los metales, plsticos y cermicas se pueden
revestir con el proceso CVD.
Propiedades generales y caractersticas de los
recubrimientos CVD.
- Alta resistencia al desgaste
- Gran dureza
- Conductividad elctrica mejorada de las superficies
- Gran precisin dimensional
- Mayor nivel de pureza en sus capas
- Propiedades pticas mejoradas
- Propiedades antifriccin ptimas
- Optimizacin de las propiedades adhesivas
- Resistencia excelente a la corrosin
Aplicaciones de la tcnica CVD.
Las aplicaciones de la deposicin qumica de vapores (CVD)
se pueden clasificar segn las caractersticas funcionales de
los productos obtenidos [6]:
- Aplicaciones elctricas
- Opto-elctricas
- pticas
- Mecnicas y
- Qumicas

Clasificacin que corresponde a las diversas reas de la

industria, tales como: la industria electrnica, ptica, de las
herramientas, y la industria qumica. Las aplicaciones de la
tcnica CVD tambin se clasifican por la forma de los
productos obtenidos como recubrimientos, polvos, fibras y
composites.

Figura 3. Herramientas con tratamiento CVD.

Fuente: (Alcotanes. CL, 2010)

Referencias.

[1] J.-T. Wang (2017). Chapter 7 Chemical Vapor Deposition

and Its Applications in Inorganic Synthesis, Modern [6] Alcotanes, CL. (2010). Recubrimientos Metlicos mediante
Inorganic Synthetic Chemistry, 167- CVD. Recuperado de www.trateriber.es
188.doi.org/10.1016/B978-0-444-63591-4.00007-0

[2] Dobkin & Zuraw (2003). Principles of Chemical Vapor

Deposition. Kluwer. ISBN 978-94-017-0369-7

[3] Gomez, J. (2009). La Deposicin Qumica en fase de Vapor

o CVD. Recuperado de
https://es.scribd.com/doc/232387491

[4] Sherman, A. (1987), Chemical Vapor Deposition for

Electronics, Noyes Publications, Park Ridge, NJ

[5] Llus Carreras. Sandra Bueno. Francesc Montalherman, A.

(1998), Recubrimientos duros obtenidos por procesos
C.V.D., T.R.D.D., P.V.D. Recuperado de
http://www.grupttc.com/treballs/trabajocongresonacion
alingmet1998.pdf