UNIVERSIDADE FEDERAL DE ALAGOAS - UFAL

CAMPUS ARAPIRACA
CURSO DE QUMICA LICENCIATURA

VOLTAMETRIA CICLICA ESTUDO DE PROCESSOS

SUPERFICIAIS E DIFUNSIONAIS

ARAPIRACA-AL
2017
 LUIS EDUARDO PEREIRA BRS
MARCELO CAPISTRANO COSTA
ROBERTA RAYLINE FERREIRA DOS SANTOS

VOLTAMETRIA CICLICA ESTUDO DE PROCESSOS

SUPERFICIAIS E DIFUNSIONAIS

Relatrio da prtica, calorimetria, apresentado

ao professor Vinicius Del Colle, como
requisito para aprovao parcial na disciplina
Fsico- Qumica III.

ARAPIRACA-AL
2017

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Sumrio

1. INTRODUO ................................................................................................................. 4

2. OBJETIVOS ...................................................................................................................... 5

3. MATERIAIS NECESSRIOS ........................................................................................ 5

4. PROCEDIMENTOS ......................................................................................................... 6

5. RESULTADOS E DISCUSSO ...................................................................................... 6

6. CONCLUSO ................................................................................................................. 10

7. REFRENCIAS .............................................................................................................. 11

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 1. INTRODUO

A voltametria cclica nada mais do que um mtodo eletroanaltico. Tal tcnica empregada
para o estudo de espcies qumicas eletroativas em soluo, pois possvel monitorar o
comportamento redox de espcies qumicas em soluo em uma ampla faixa de potencial. A
voltametria necessita da medida da corrente em funo do potencial aplicado em um eletrodo
mergulhado numa soluo contendo espcies eletroativas de uma clula eletroqumica. Na
voltametria cclica, a clula eletroqumica composta por trs eletrodos, eletrodo de trabalho,
que pode ser composto por platina, carbono e ouro, o eletrodo de referncias, que tem seu
potencial constante durante o experimento, e o contra eletrodo. Os trs eletrodos so
conectados em um potenciostato, figura 1.

Figura 1. Clula eletroltica com trs eletrodos.

Seguindo uma programao definida por um gerador de funes, o eletrodo de trabalho tem
sua voltagem variada sistematicamente enquanto que uma resposta da corrente medida. A
corrente medida gera um voltamograma e, a partir dele possvel obter informaes em
relao ao comportamento eletroqumico da espcie que ser estudada. Na varredura cclica
de potencial, figura 2, possvel observar determinados intervalos de potenciais onde ocorre
reao de transferncia de eltrons, reduzindo ou oxidando uma espcie eletroativa na
interface.

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 Figura 2. Voltamograma cclico resultante de perturbao.

O experimento realizado consiste na obteno de voltamogramas cclicos da platina em cido

sulfrico. Em tais voltamogramas, h a ausncia de espcies eletroativas dentro do intervalo
de potenciais utilizados, para que seja possvel observar os processos que ocorrem na
superfcie do eletrodo de platina como, a adsoro de tomos de hidrognio e, a formao e
reduo de xidos superficiais.

2. OBJETIVOS

Realizar experimentos de voltametria cclica para sistemas onde o reagente difunde-se

do seio da soluo para reagir na superfcie eletrdica;
Analisar os voltamogramas obtidos em diferentes velocidades de varredura para
obteno de parmetros eletroqumicos.

3. MATERIAIS NECESSRIOS

Potenciostato/ Galvanostato gua ultra pura;

PAR263; 1,0M H2SO4 (eletrlito suporte).
Fio de platina (eletrodo de
trabalho);
Tela de platina (contra-eletrodo);
Eletrodo de referncia de
calomelano saturado;
Cilindro de nitrognio;
Clula eletroqumica;

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 4. PROCEDIMENTOS

Para o estudo de tais processos superficiais, inicialmente, na primeira etapa

experimental foi montada uma clula eletroqumica, para tanto essa foi preenchida com
60 mL de uma soluo de H2SO4 0,1M. Na sequncia foram conectados os eletrodos de
trabalho, de referncia e o contra eletrodo. A soluo foi desoxigenada borbulhando-se
nitrognio por aproximadamente 5 minutos. Em seguida, realizaram-se as varreduras
com o potenciostato nas velocidades de 25, 50, 100, 200 mV/s. Nesta parte da prtica,
foram obtidos voltamogramas cclicos na ausncia de qualquer espcie eletroativa
dentro do intervalo dos potenciais utilizados. Assim, foi possvel a observao dos
processos que ocorreram na superfcie do eletrodo de platina, relacionados com a
adsoro de tomos de hidrognio formado pela decomposio de molculas H2O e a
formao e a reduo de xidos superficiais.

5. RESULTADOS E DISCUSSO

Experimento com a platina

Com o intuito de demonstrar o comportamento de um eletrodo de platina
policristalino em meio a um sistema de analticos no eletroativos dentro de uma faixa
de potencial aplicada, as leituras feitas no potencimetro de uma soluo de H2SO4 0,1
mol/L em uma faixa de velocidades de varredura compreendidas entre 10 500 mV/s
foram registradas, e tais resultados podem ser visualizados a partir da figura 4:

10mV/s
50mV/s
300 100mV/s
200mV/s
500mV/s
200

100
Corrente mA

-100

-200

-300

-400
0,0 0,2 0,4 0,6 0,8 1,0 1,2 1,4 1,6 1,8
Potencial (mV)

Figura 4: Voltamograma cclico de um eletrodo de platina policristalino obtido de uma faixa de

velocidade de 10 500 mV/s, em H2SO4 0,1 mol/L.

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 Compreendem-se as reaes na superfcie do eletrodo de platina atentando-se para
as seguintes definies de corrente: (I) produzida nos diferentes potenciais (E) indicados
pelas regies de 1 5 no grfico acima. Pode-se dividir as reaes apontadas em 3
reas: rea I (Regies 1 e 5), nesta rea (e consequentemente nesta faixa de voltagem),
h a oxidao (Regio 1 corrente andica) e reduo (Regio 5 corrente catdica)
dos tomos de hidrognio adsorvidos na superfcie do eletrodo de platina; rea II
(Regio 2): A regio de corrente constante, isto , sem picos acima ou abaixo indica que
no ocorrem processos superficiais especficos, mas apenas o processo de carga da
dupla camada eltrica; rea III (Regies 3 e 4), nesta rea ocorre a oxidao superficial
da platina formando monocamadas de PtO2 devido a adsoro de ons hidroxila (OH-)
durante a corrente andica (Regio 3) e a reduo do xido platina metlica na
corrente catdica (Regio 4). possvel observar, ainda, que a rea do pico aumenta de
acordo com o aumento do potencial por segundo a cada varredura.

Acredita-se que esse fato esteja associado quantidade de analito oxidado ou

reduzido na superfcie do eletrodo de platina, j que maiores quantidades de eltrons
passam pelos eletrodos gerando maiores correntes eltricas. Tambm na Figura 5,
possvel observar a rea ativa do eletrodo de platina, no entanto, se faz necessrio uma
integrao da Regio 1 deste grfico o qual est relacionado a adsoro e oxidao dos
tomos de hidrognio na superfcie da platina na corrente andica.

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 Figura 5: Voltamograma cclico do eletrodo de Pt em uma soluo aquosa de H 2SO4 0,1M.

A unidade de rea ser ento expressa AxV ou CxV/s. Lembrando que v=

dE/dt=E/t, dividindo-se o valor acima pela velocidade de varredura, v, obtm-se o
valor da carga de adsoro de hidrognio em C. Assim, temos:

A= ixE= AxV/(10-3V/s)= Axs/10-3=Q

Uma integrao desta Regio 1 nos d um valor de 5,172. 10-6 C.V/s a qual, sendo
dividida pela velocidade de varredura 200.10-3 V/s nos fornece um valor de 0,0258.10-3
C. Uma vez com o valor da carga, e dividindo-se este valor por 240 C/cm2 tem-se o
valor de 0,1075 cm2 o qual a rea efetiva do eletrodo de platina policristalina.

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 Figura 6: rea integrada do grfico de Pt.

A rugosidade deste eletrodo pode ser determinada dividindo-se a rea efetiva pela
rea geomtrica do mesmo:

Aefetiva/Ageomtrica = x

0,1075 cm2/ 0,107 cm2 = x

x = 1,00

Um valor de rugosidade abaixo de 1 pode ser entendido como se uma rea menor
do que a superfcie do eletrodo fosse ativa frente as reaes de oxidao dos tomos de
hidrognio. Por outro lado, uma rea maior do que a superfcie do eletrodo indica que a
superfcie composta de regies irregulares como cavidades ou salincias
microscpicas que consequentemente aumentam a superfcie de contato e aumentam o
nmero de stios ativos para adsoro de hidrognio resultando enfim, em valores de
rea maiores do que as medidas manualmente.

Para compreender como a variao na velocidade de varredura influencia nos

valores da corrente, observa-se abaixo um grfico na Figura 7 que demonstra os valores
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do primeiro pico da corrente andica dos voltamogramas nas velocidades de leitura de
20 200 mV/s.

Figura 7: Grfico das correntes de pico andico (Ipa) do primeiro pico relativo oxidao dos tomos de
hidrognio nas velocidades de leitura (v).

Observando o grfico acima, fica ntida uma relao proporcional entre o aumento
da velocidade de leitura e o aumento dos valores de corrente de pico andico. Percebe-
se que, uma vez que haja um aumento da voltagem por um mesmo limite de tempo h
uma maior concentrao de cargas eltricas no eletrodo de platina o que
consequentemente atrair cargas de sinais opostos para as proximidades.

6. CONCLUSO

Observamos a partir dos experimentos que reaes- redox tanto de analticos no

eletroativos, quanto de analticos ativos frente aos potenciais aplicados ocorrem no
eletrodo de trabalho e apresentando um consumo mnimo destes analticos,
caracterstica de uma anlise voltamtrica. E, por meio das leituras dos voltamogramas
10
foi possvel, alm da percepo de que tais reaes realizam-se no eletrodo de trabalho,
uma viso de outros parmetros como a rea ativa do eletrodo de platina policristalino,
o modo como os eletrlitos se comportam na corrente andica e catdica, a variao de
corrente pela variao da velocidade de varredura, e a velocidade de difuso destes
eletrlitos no seio da clula eletroqumica.

7. REFRENCIAS

ATKINS, P.; PAULA, J. Fsico-Qumica. Vol. 1. 8 ed. Trad: Edilson Clemente da

Silva et
al. Rio de Janeiro: LTC, 2008.

CONWAY, B.E., Angerstein-Kozlowska, H., Sharp, W.B.A. e Criddle, E.E.

Ultrapurification of water for eletrochemical and surface chemical work by
catalytic
pyrodestillation. Anal. Chem., 45 (1973) 1333.

MARCOLINO-JUNIOR, L. H. Eletrodos voltamtricos e amperomtricos para a

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determinao de espcies de interesse farmacutico. Tese (Doutorado), 543 9 (20)--
-
Universidade Federal de So Carlos, So Paulo, 2007.

SKOOG, D. A. et al. Fundamentos de qumica analtica. 8 ed. Trad.: Marco Grassi.

So
Paulo: Cengage Learning, 2010.

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