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ELECTRNICA
Diseo VLSI
Dr. Byron Navas
NRC: 2157
Santiago Gallegos
Jonathan Solrzano
Fecha: 14/11/2016
Informe Laboratorio #1
1 Objetivo
Al finalizar este laboratorio, el estudiante debe ser capaz de entender y usar las funciones
bsicas de un editor de layout CMOS como Microwind. Adems, mediante simulacin,
verificar algunas propiedades de la estructura de un transistor CMOS.
2 Preparacin
2.1 Lea los captulos 2 y 3 del tutorial de Microwind v3.0 [1]. Realice todos los
ejercicios indicados en esos captulos. Guarde su trabajo en archivos claramente
identificados
MOS model 1
MOS model 3
BSIM4 MOS model
http://www.set-up.es/la-tecnologia-cmos/
2. Escriba la ecuacin IDS del CMOS Model 3 e indique cual es la relacin que tiene el
valor de W y L sobre la corriente IDS y el voltaje de encendido Von del transistor.
= (1 + ) (( ) )
2
Donde:
= 1.2
= + ( )
= min(, )
= + 2 + 2
=
=
0.06
= 2
0
=
(1 + ( ))
Modo sub umbral ( < )
( )
= ( , )
La concentracin de dopaje
La capacitancia de xido
Estado de la superficie de carga
https://ece-research.unm.edu/jimp/vlsi/slides/chap2_1.html
Es VDD menos el voltaje de umbral que necesita ser superado para que el transistor
supere el efecto de campo y Vout cambie de estado alto a bajo y viceversa.
n-well es un pozo de material n sobre el sustrato de material tipo p. La regin del pozo
debe estar polarizada con un voltaje alto para evitar corto circuitos entre VDD y VSS.
3 Actividades
3.1 Efectos del tamao del canal (L) en forma de onda de salida de un transistor n-MOS
nMos
Vgate
Vdrain
2. Capture la imagen de la forma de onda y explique por qu Vout tiene esa forma
de onda en cada segmento.
4. Repita el procedimiento 3.1.1 pero usando un transistor n-MOS con L=32. Simule
el comportamiento y registre los valores solicitados en 3.1.5
5. Para los tres transistores creados, registre los valores observados en la siguiente
tabla: (nota: desprecie los valores de voltaje observados al inicio de la onda)
0 good
1 poor
3.2 Efectos del tamao del canal (L) en forma de onda de salida de un transistor p-MOS
Vdrain
p-mos
2. Capture la imagen de la forma de onda y explique por qu Vout tiene esa forma
de onda en cada segmento.
3. Repita el procedimiento 3.2.1 pero usando un transistor p-MOS con L=8. Simule el
comportamiento y registre los valores solicitados en 3.2.5
4. Repita el procedimiento 3.2.1 pero usando un transistor p-MOS con L=32. Simule
el comportamiento y registre los valores solicitados en 3.2.5
5. Para los tres transistores creados, registre los valores observados en la siguiente
tabla: (nota: desprecie los valores de voltaje observados al inicio de la onda)
0: poor.
1: good.
3.3 Diseo de Circuitos CMOS, XOR Gate
1. Disee el circuito CMOS AOI de una compuerta XOR de dos entradas A y B. Dibuje
el circuito. Presente una tabla con los valores lgicos esperados en cada punto del
circuito
AOI22
Xor=AB+AB
A B A B F F
0 0 1 1 1 0
0 1 1 0 0 1
1 0 0 1 0 1
1 1 0 0 1 0
2. Implemente su diseo en el Layout Editor con tecnologa de 1um. Use el CMOS
generador si es necesario.
3. Inserte seales apropiadas, simule y verifique el funcionamiento. Compare con la
tabla realizada en la actividad 3.3.1.
A B AB AB
(Terico) (Simulacin)
0 0 0 0
0 1 1 1
1 0 1 1
1 1 0 0
1. Consulte como realizar una salida tipo tri-state con tecnologa CMOS. Explique su
funcionamiento.
Una salida tri-state puede tener como su nombre lo indica tres estados lgicos: alto,
bajo y alta impedancia; esto es utilizado cuando se conectan mltiples lneas en
cortocircuito y para evitar el choque de niveles de voltaje entre estas, se utiliza el
estado de alta impedancia denominado tambin estado Z.
Un diseo utilizado para realizar una compuerta tri-state es la siguiente
Donde C es la seal que controla la alta impedancia o el paso de un nivel alto o bajo,
este circuito an si se encuentra en alta impedancia tiene el inconveniente de
consumir niveles de potencia por su primera etapa donde uno de los transistores ser
siempre polarizado ya sea a VDD o GND.
Por esta razn se puede generar una variante de este circuito para as no utilizar esta
potencia innecesaria de la siguiente manera.
Donde C representa igualmente la seal de control que dar paso a la alta impedancia
(C en alto nivel) o nivel alto o bajo invertido de la entrada (C en bajo nivel) y en estado
de alta impedancia ni VDD ni GND conducen evitando as un desgaste de potencia en
este estado.
2. En el Layout Editor, implemente un inversor CMOS con salida tri-state. Verifique y
demuestre el correcto funcionamiento.
Diseo 1
Diseo 2
Diseo 1
Diseo 2
Las compuertas tri-state por su capacidad de presentar adems del estado alto y bajo
gracias a su estado Z de alta impedancia son capaces de impedir el flujo de corriente
a travs de ellas por lo que una de sus aplicaciones ms importantes es la
multiplexacin de un bus compartido donde por ejemplo transitan datos y
direcciones especialmente en comunicaciones, la alta impedancia evita estas
colisiones evitando cortocircuitos y por ende fallas en los sistemas.
3.5 CMOS Design Rules (.rul files)
2. Investigue y presente una gua rpida con (1) estructura, (2) significado y objetivo
de cada seccin, e.g., Crosstalk, Junction capacitances. (No necesita explicar
significado de todas las abreviaciones/parmetros pero si entender de manera
general)
Especificaciones generales
En esta seccin se detalla las caractersticas que gobiernan esta regla las cuales son:
Se indica detalladamente la longitud, ancho, rea y espaciado que debe de existir entre
cada una de las capas existentes sean de poli silicona, difusiones, metales o vas de transmisin
se dividen en secciones segn el material utilizado
Pozo (r20x)
Poly (r30x)
Contactos(r40x)
Metal (r50x)
Via(r60x)
Metal2 (r70x)
Via2(r80x)
Metal3 (r90x)
Pads(rp0x)
Espesor de capas (especificado para cada material en m)
Parmetros de simulacin
Muestran los principales elementos que intervienen en la ejecucin de la simulacin
dependiendo de las dimensiones de los componentes y las propiedades de los
transistores cmos se dividen en las siguientes:
Resistencia: Detalla por cada material la resistencia que presenta en una escala de 1
por cada cuadrado en la malla del simulador de dimensin por lo que en este
documento ser un cuadrado de 0.3x0.3 m.
Capacitancias Parasitas: Define la capacitancia creada por los diferentes elementos a
utilizar en funcin de las dimensiones de los mismos se clasifican en:
- Capacitancias de superficies: Generadas por todo elemento, se presentan en
aF/m2
- Croostalk: Son capacitancias generadas al presentarse dos conductores ruteados
de la misma manera, la capacitancia Crosstalk se mide en aF/m en funcin de la
distancia de separacin de los conductores.
- Capacitancias de juntura: Son capacitancias generadas entre las difusiones P y N
midindose en aF/2
Caractersticas NMOS Y PMOS basadas en el modelo 3: Son las caractersticas bsicas
que presentan los transistores en la simulacin dentro de estas se pueden notar por
ejemplo l3vot (Voltaje umbral), l3theta (factor de degradacin), etc. Estos valores se
basan en el modelo 3.
Caractersticas NMOS Y PMOS basadas en el modelo BSIM4: Son las caractersticas
bsicas que presentan los transistores en la simulacin dentro de estas se pueden
notar por ejemplo l3vot (Voltaje umbral), l3theta (factor de degradacin), etc. Estos
valores se basan en el modelo BSIM4.
DeltaT: Intervalo de tiempo mnimo necesario para el simulador
Vdd: Alimentacin entregada al chip
Temperatura: Temperatura de operacin del chip
RiseTime: Tiempo de subida y de bajada tpico del reloj.
3.6 Conclusiones:
Las medidas tanto de largo como de ancho de los transistores NMOS y PMOS afectan
en su funcionalidad y niveles de voltaje a la salida de los mismos, por lo que las
dimensiones de estos al momento de disear una compuerta lgica son esenciales.
Se debe tomar en cuenta que para disear un transistor tipo PMOS se debe colocarlo
previamente en un pozo tipo N, el cual debe de polarizarse correctamente con un
voltaje positivo para evitar cortocircuitos.
Gracias a la capacidad de crear diferentes niveles de contactos entre poli silicn y los
diferentes metales es posible disear circuitos no solamente en horizontal sino de
forma vertical lo que representa un ahorro de espacio significativo al momento de
disear un microchip.
3.7 Recomendaciones:
4 Bibliografa
[1] E.Sicard, Microwind & DSCH Version 3.0 Users Manual Lite Version, Insa, Tolouse-France,
2005
[2] E.Sicard, Microwind & DSCH Version 3.0 Users Manual Version 2, Insa, Tolouse-France,
2002
[3] Segura,J ; Hawkins C, CMOS Electronics: How it Works, How it fails, Wliey
Interscience,2004.