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P.A. Corengia1, D.A. Egidi1, M.O.Quinteiro 1, G.O. Ybarra 2, C.A. Moina 2, A. Cabo3
1
Centro de Investigación y Desarrollo en Mecánica (CEMEC), Instituto Nacional de Tecnología Industrial
(INTI ), Buenos Aires, Argentina. e-mail : surfaces@inti.gov.ar
2
Centro de Investigación y Desarrollo en Electrodeposición y Procesos Superficiales (CIEPS), Instituto
Nacional de Tecnología Industrial (INTI), Buenos Aires, Argentina.
3
IONAR SA, Buenos Aires, Argentina. e-mail: ionar@sinectics.com.ar
RESUMEN
En este trabajo se nitruraron por plasma muestras de un acero inoxidable martensítico AISI 410 con
diferentes estructuras durante 20 h a temperaturas de 400ºC y 500ºC. Los materiales fueron nitrurados en
un equipo industrial bajo una descarga dc-puldsada en un plasma de 25% N2 y 75% H2. Las muestras
tratadas fueron caracterizadas mediante microscopía electrónica de barrido, microscopía óptica,
difracción de rayos X y microdureza Vickers. Se estudió la influencia de la temperatura de nitruración en
la topografía y el comportamiento frente a la corrosión. En todas las muestras nitruradas se obtuvieron
valores de dureza en la superficie mayores a 1000 HV; la mayor dureza fue obtenida en las muestras
tratadas a 400ºC. El espesor de capa endurecida fue de aproximadamente 30 µm en ambos tratamientos.
Se observaron diferentes morfologías en las capas tratadas, según la temperatura de proceso, con una
mayor cantidad de nitruros precitados en borde de grano para las muestras de menor temperatura. La
rugosidad y el tamaño de los droplets aumentaron con la temperatura de proceso. Las mediciones
electroquímicas evidencian una disminución de la resistencia a la corrosión para ambos tratamientos; se
discriminó el efecto de la sensibilización por el ciclo térmico asociado a la nitruración.
0.05 µm.
HV ( 5 0 g r f )
800
Previo a la nitruración, los sustratos fueron
600
limpiados de acuerdo a la técnica convencional
RCA [8] y sometidos a una limpieza por 400
sputtering catódico a una presión de 0.15 hPa en
200
una mezcla de Ar-H2 a un potencial de 850 V y
una densidad de corriente de 0.7 mA.cm-2. 0
0 50 100 150 200 250 300
La nitruración por plasma dc -pulsada se realizó en distancia / µ m
un equipo industrial desarrollado por la empresa
Ionar S.A. bajo las siguientes condiciones de Fig. 1. Perfiles de microdureza de las muestras A
proceso: atmósfera (l/min): N2-0,2/H2-0.6; presión: ( ) y QT ( ) nitruradas a 400ºC.
0.6 hPa; tensión: 750 V; tiempo: 20 h;
temperatura: 400-500ºC; ton-toff: 70-200 µs; 1200
(a)
(a) (a)
(b) (b)
(b)
Fig.6. (a) Imagen AFM de la muestra sin Fig.7. (a) Imagen AFM de la muestra
tratamiento. (b) 3D. nitrurada a durante 20 h a 500ºC. (b) 3D.
superficie de las muestras están sometidas al zona pasiva y se observa un comportamiento
proceso de sputtering y redeposición que característico de corrosión generalizada. Esto
modifican su topografía [15]. De acuerdo a puede explicarse por la precipitación de nitruros
Pranevicius et al. [16] los átomos de la superficie de cromo en la capa tratada [1,2], cuya presencia
que están sujetos al proceso colisional no fue confirmada por XRD.
abandonan el sólido sino que se reubican como
adátomos. La energía de colisión para la creación
de un adátomo es menor que para sputtering. Los
átomos removidos se desplazan a través de la 0.01
-2
i / A.cm
La formación de droplets durante la nitruración por 1E-6
1E-3
1E-5
Agradecimientos
Referencias