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Corrección Análisis de datos de entrada

Tiempo de Servicio Tiempo de Servicio Tiempo de Servicio


Estación 1 Estación 2 Estación 3
Hipótesis Nula NORMAL UNIFORME ERLANG
Nivel de significancia (a) 5% 5% 5%
P-value 0.388 0.427 0.301
Parámetros NORM(10, 1.49) UNIF(5, 12) ERLA(6, 2)
Tiempo de Servicio Tiempo de Servicio Tiempo de Servicio
Estación 4 Estación 5 Estación 6
Hipótesis Nula EMPÍRICA NORMAL UNIFORME
Nivel de significancia (a) 5% 5% 5%
P-value 0.55 >0.75
Parámetros CONT(0.000, 2.000, NORM(5, 1) UNIF(2, 7)
0.000, 2.575,
0.001, 3.150,
0.001, 3.725,
0.002, 4.300,
0.004, 4.875,
0.007, 5.450,
0.010, 6.025,
0.016, 6.600,
0.024, 7.175,
0.035, 7.750,
0.048, 8.325,
0.069, 8.900,
0.094, 9.475,
0.125, 10.050,
0.160, 10.625,
0.202, 11.200,
0.252, 11.775,
0.308, 12.350,
0.367, 12.925,
0.435, 13.500,
0.505, 14.075,
0.575, 14.650,
0.649, 15.225,
0.714, 15.800,
0.779, 16.375,
0.837, 16.950,
0.885, 17.525,
0.925, 18.100,
0.951, 18.675,
0.971, 19.250,
0.985, 19.825,
0.993, 20.400,
0.996, 20.975,
0.998, 21.550,
0.999, 22.125,
1.000, 22.700,
1.000, 23.275,
1.000, 23.850,
1.000, 24.425,
1.000, 25.000)
Tabla 1. Resumen planteamiento prueba de bondad de ajuste para tiempo de servicio en las 3 estaciones del sistema actual

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Nombre del Grupo

Resultados del Modelo de Simulación (Sistema con 12 soportes AK)

Intervalo de Confianza
Indicadores
Promedio Half Width Lim. Inferior Lim. Superior

172.30 0.39 171.91 172.69


Tiempo de ciclo promedio de una Waffer
(166.32)* (0.39)* (165.93)* (166.71)*

Tiempo promedio de transferencia de una 19.5 0.0 19.5 19.5


Waffer (14.5)* (0.0)* (14.5)* (14.5)*

Tiempo promedio de fabricación de una


55.88 0.11 55.77 55.99
Waffer

Tiempo promedio total de espera de una


94.44 0.37 94.07 94.81
Waffer

Tiempo promedio de espera, de una Waffer,


71.96 1.45 70.51 73.41
en la estación cuello de botella

Factor de utilización de la estación de


70.96% 0.0% 70.96% 70.96%
Cleaning

Factor de utilización de la estación de


60.42% 0.0% 60.42% 60.42%
Oxidation

Factor de utilización de la estación de


85.28% 1.0% 84.28% 86.28%
Lithography

Factor de utilización de la estación de


98.00% 0.0% 98.00% 98.00%
Etching

Factor de utilización de la estación de Ion


35.37% 0.0% 35.37% 35.37%
Implantation

Factor de utilización de la estación de


31.82% 0.0% 31.82% 31.82%
Photoresist Strip

Throughput (waffers/hora) 4.25 0.01 4.24 4.26

Tabla 3. Resumen resultados preliminares modelo de simulación sistema actual

*Son los resultados reales, pero para la calificación de la segunda entrega se considerarán válidos cualquiera de los dos
valores

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