Compuesto Grupo protector Para ponerlo Para quitarlo Comentarios

a proteger
Aminas Alquilación
N-Bn 1. Base H2 / Pd La hidrogenolisis
H2 2. BnBr Hidrógenolisis en leve tiene
N C medio ácido (AcOH) preferencia por el
Para que se forme la sal N antes que el O
bencilo

Formación de amidas
O Ac2O ó CH3COCl H+ ó OH- No recomendado
N C CH 3

Formación de carbamatos o uretamas

O O Me3SiI en CHCl3
N C O CH 3 Cl C O CH3
Cloroformiato de metilo
+ H2CO3 ó Et3N
N-CBz Cl-CBz + Et3N H2 / Pd
O
N C O Bn
benziloxicarbonilo
N-BOC BOC2O + Et3N HCl diluido ó CF3- Mejor que CBz
O COOH Un ácido de
N C O tBu Lewis (AlCl3)
tiene preferencia
tercbutoxicarbonilo por liberar este
grupo
Alcoholes Alquilación (Formación de enoles)
O-Bn 1. Base H2 cat ó HBr
eter de bencilo 2. BnBr
O-tBu 1. Base HCl 4M
2. tBuBr
O-PMB PMBCl DDQ Ruptura selectiva
H2 + Et3N ó DMAP O
O C O CH 3 N
C Cl
parametoxibencilo
C Cl
N
O
1,2 dicloro-5,6-
dicianoquinona
O- Tr TrCl + H+
Ph Et3N ó DMAP +
O Si Ph CH2Cl2
Ph
tritilo
Silil éteres
O-TMS Et3N + Cl(TfO)TMS TBAF (n-Bu4NF) La reactividad
Me fluoruro de tetra(n- decrece de arriba
O Si Me butil)amonio a abajo
ó HF
Me
trimetilsililo
O-TES 2,6 lutidina + Cl(TfO)TES TBAF ó HF
Et
O Si Et
Et
trietilsililo
O-TBS Imidazol + ClTBS TBAF ó HF
Me ó
O Si Me Lutidina + TfOTBS
tBu
tercbutildimetilsililo
O-TBDPS Base + Cl(OTf)TBDPS TBAF ó HF
Ph
O Si Ph
tBu
tercbutildifenilsililo
Acetales
O-THP 1. DHP + H+ H+ (TsOH, PPTS, Soporta
2. R-OH BF3·Et2O) reductores, bases.
No aguanta
O O acidos
tetrahidropirano
O-MOM 1. Base ZnBr2 No aguanta
O C O CH 3 2. ClMOM ácidos
H2
metoximetileno
O-MEM 1.Base ZnBr2 No aguanta
H2 2. ClMEM ácidos
O C O C C O CH 3
H2 H2
metoxietoximetileno
Esteres
O-Ac Ac2O / Pi NH3 en MeOH Con colidizina se
O Ac2O / Et3N selecciona el OH
O C CH 3 O primario
acetato Cl C CH 3 /Et3N N

O O NH3 en MeOH Protege alcoholes

O C tBu Cl C tBu + primarios en
pivaloilo presencia de
Pi
secundario
Esteres de azufre
O-Ts TsCl + Pi ó Et3N Na(Hg) (libera) H- (destruye
O alcohol)
O S CH3
O
tosilato
O-Tf TsCl + Pi ó Et3N Na(Hg) (libera) H- (destruye
O F alcohol)
O S C F
O F
Triflato
 O-Ms MsCl + Et3N Na(Hg) (libera) H- (destruye
O alcohol)
O S CH3
O
mesilato
Dioles Cetales
O MeCOMe + H2SO4 ó TsOH H + / H 2O El éxito de la
protección
O depende de retirar
1,2-dioxolanos el agua
Me2C(OMe)2 + TsOH
(transcetalación)
O

O OMe

1,3-dioxolanos OMe ester de enol

Carbonilos O,O acetales

RO OR CH3OH / Et3N H + / H 2O Reactividad
TiCl4 cetalización
H+ (TsOH)/ H2O RCHO >
O OH
HO +
etilenglicol O
O >
BF3·Et2O
O
>

O
>

S,S acetales
S SH HgCl2 / CaCO3 Con Ni Raney /
HS H2 EtOH se
etanoditiol
S produce la
eliminación del
carbonilo
SH SH (desulfuración)
propanoditiol

BF3·Et2O
Carboxilo Esteres
RCOOR’ R’OH + H+ ó HO- + H2O
R’OH + DCC
(diciclohexilcarbodiimida)
RCOOMe CH2N2 HO- + H2O
ester metilico
RCOOtBu tBuOH + H+ + DMAP (4- TsOH ó CF3-COOH
ester de tercbutilo dimetilaminopiridina)
RCOOBn BnOH + H+ H2 cat ó HBr
ester de bencilo
 1. BHA (hidroanisol butilado) (NH4)Ce(NO3)6 Bloquea
+ BuLi CAN estericamente el
2. ClCOR (cerioamonionitrato) carbonilo
O O
H3C R
O
RCOOBHA
ester voluminoso
Oxazolinas
O OH H+ Protege el
hidroxilo y el
R carbonilo a la vez
N NH2
oxazolina
Alquinos Metalación
CH3 1. BuLi 1. AgNO3 + F- +
R C C Si CH3 2. Me3SiCl MeONa
2. H+
CH3