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MAYOR DE SAN
MARCOS
Facultad de Ing. Electrónica,
Eléctrica y de Telecomunicaciones
LABORATORIO N°1
LABORATORIO: ELECTRONICA DE POTENCIA I
PROFESORA: ING RUBÉN ALARCÓN MATUTTI
GRUPO DE CLASE: G2
TIPO DE INFORME: PREVIO
FECHA DE ENTREGA: 23/04/2018
ALUMNA
2018
1) OBLIGATORIA: Presentar en laboratorio el LAYOUT del inversor realizado por Ud.
Considerar para el layout el esquema de la Fig. A y la Fig. B del diagrama de barras
(STICK). Tratar de conseguir un layout de dimensiones mínimas. Mostrar y describir las
vistas de corte 2D y 3D
Se ha utilizado DRC que sirve la verificar las reglas de diseño minimas por lo tanto se ha
comprobado que no hay errores en el proceso de diseño(ver la parte inferior de la imagen).
Por que lo podemos comprobar que el layout se encuentra en las dimensiones minimas
Para ver las vistas de corte en 2D y 3D se usará las herramientas:
A=dx*dy= 35 λ *55 λ
A=1925 λ2=1925(0.125*10-6)2=30.078125 µm2
CIRCUIT C:\Users\Roxana\Desktop\2018-
1\microelectronica\LABORATORIO\LABORATORIO 1\inversor.MSK
*
* IC Technology: ST 0.25µm - 6 Metal
*
VDD 1 0 DC 2.50
VVin 7 0 PULSE(0.00 2.50 1.00N 0.05N 1.00N 2.10N)
*
* List of nodes
* "N2" corresponds to n°2
* "Vout" corresponds to n°4
* "Vin" corresponds to n°7
*
* MOS devices
MN1 0 7 4 0 TN W= 0.75U L= 0.25U
MP1 4 7 1 2 TP W= 0.75U L= 0.25U
*
C2 2 0 2.804fF
C3 1 0 0.658fF
C4 4 0 1.117fF
C5 1 0 0.403fF
C7 7 0 0.176fF
*
* n-MOS Model 3 :
*
.MODEL TN NMOS LEVEL=3 VTO=0.45 KP=300.000E-6
+LD =0.020U THETA=0.300 GAMMA=0.400
+PHI=0.200 KAPPA=0.010 VMAX=130.00K
+CGSO= 0.0p CGDO= 0.0p
*
* p-MOS Model 3:
*
.MODEL TP PMOS LEVEL=3 VTO=-0.45 KP=120.000E-6
+LD =0.020U THETA=0.300 GAMMA=0.400
+PHI=0.200 KAPPA=0.010 VMAX=100.00K
+CGSO= 0.0p CGDO= 0.0p
*
* Transient analysis
*
.TEMP 27.0
.TRAN 0.80PS 10.00N
.PROBE
.END
Se verifica que los 2 transistores cumplen con las mismas dimensiones para los valores de W y
L:
* MOS devices
MN1 0 7 4 0 TN W= 0.75U L= 0.25U
MP1 4 7 1 2 TP W= 0.75U L= 0.25U
*
( File : "C:\Users\Roxana\Desktop\2018-
1\microelectronica\LABORATORIO\LABORATORIO 1\inversor.CIF")
( Conversion from Microwind 2b - 17.01.2000 to CIF)
( Version 22/04/2018,10:12:30 p.m.)
DS 1 1 1;
9 topcell;
L 1;
P -36375,81750 -32750,81750 -32750,85875 -36375,85875;
L 19;
P -34150,80475 -33850,80475 -33850,80775 -34150,80775;
P -35400,84600 -35100,84600 -35100,84900 -35400,84900;
P -34150,82725 -33850,82725 -33850,83025 -34150,83025;
P -34150,84100 -33850,84100 -33850,84400 -34150,84400;
P -34150,79225 -33850,79225 -33850,79525 -34150,79525;
L 13;
P -34875,80125 -34500,80125 -34500,83500 -34875,83500;
P -34875,79875 -33000,79875 -33000,80125 -34875,80125;
P -34875,83500 -33000,83500 -33000,83750 -34875,83750;
L 23;
P -34375,83875 -33625,83875 -33625,84125 -34375,84125;
P -34375,84125 -32000,84125 -32000,84625 -34375,84625;
P -34375,80250 -33625,80250 -33625,81000 -34375,81000;
P -34375,79000 -32000,79000 -32000,79500 -34375,79500;
P -34375,79500 -33625,79500 -33625,79750 -34375,79750;
P -34250,81000 -33750,81000 -33750,82500 -34250,82500;
P -34375,82500 -33625,82500 -33625,83250 -34375,83250;
P -35625,84375 -34875,84375 -34875,85125 -35625,85125;
L 2;
P -34375,79000 -33625,79000 -33625,79875 -34375,79875;
P -34375,79875 -33625,79875 -33625,80125 -34375,80125;
P -34375,80125 -33625,80125 -33625,81000 -34375,81000;
P -34375,83750 -33625,83750 -33625,84625 -34375,84625;
P -34375,82500 -33625,82500 -33625,83500 -34375,83500;
P -35625,84375 -34875,84375 -34875,85125 -35625,85125;
P -34375,83500 -33625,83500 -33625,83750 -34375,83750;
L 16;
P -34625,78750 -33375,78750 -33375,80125 -34625,80125;
P -34625,79625 -33375,79625 -33375,80375 -34625,80375;
P -34625,79875 -33375,79875 -33375,81250 -34625,81250;
L 17;
P -34625,83500 -33375,83500 -33375,84875 -34625,84875;
P -34625,82250 -33375,82250 -33375,83750 -34625,83750;
P -35875,84125 -34625,84125 -34625,85375 -35875,85375;
P -34625,83250 -33375,83250 -33375,84000 -34625,84000;
L 60;
94 Vdd -32250,84375;
94 Vin -34750,81500;
94 Vout -33875,81375;
94 Vss -32375,79250;
94 Vdd -35250,84750;
DF;
C 1;
E
4) OBLIGATORIA: Presentar en laboratorio el LAYOUT de la puerta NAND. Considerar para
el layout el esquema de la Fig. C, hacer su diagrama de barras (STICK). Tratar de
conseguir un layout de dimensiones mínimas. Mostrar y describir las vistas de corte 2D
y 3D.
Comprobamos con la simulación para ver si da los valores correctos de una compuera NAND
Como se observa en la imagen de simulación el layout cumple con los valores que da una
compuerta NAND
Process selection in 2D
Process selection in 3D