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Módulo de Arena
Descripción del Módulo Empleado
Empleado
El módulo Create lo utilizamos para modelar la llegada de los 10
soportes AK y las entidades a recorrer el sistema llamadas Waffers,
para ello se tuvo un tiempo entre llegadas en unidades de
minutos y un inicio de sistema de a partir de cero (0).
El módulo Dispose se utilizó para modelar las salidas de los waffers
luego de culminar todo el proceso, entiéndase como el almacén
de esterilizado que solo tiene capacidad para 5.000 waffers o
entidades.
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Módulo de Arena
Descripción del Módulo Empleado
Empleado
El módulo Process se utilizó para crear cada una de la estación y
transferencias de tiempo, así como los tiempos de operarios 1 y 2
que tiene el proceso.
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Módulo de Arena
Descripción del Módulo Empleado
Empleado
▪ Transferencia Estación 4: Esta estación se modelo con
Delay con un tiempo de llegada constante de 2.5 minutos.
▪ Transferencia Estación 5: Esta estación se modelo con
Delay con un tiempo de llegada constante de 2.5 minutos.
▪ Transferencia Estación 6: Esta estación se modelo con
Delay con un tiempo de llegada constante de 5 minutos.
▪ Transferencia Almacén: Esta estación se modelo con Seize
Delay Release ya que trabaja con 1 recurso (operario 2).
Intervalo de Confianza
Indicadores Half
Promedio Lim. Inferior Lim. Superior
Width
Tiempo de ciclo promedio de
una Waffer 250.39 1.23 249.16 251.62
Tiempo promedio de
transferencia de una Waffer 12.50 0.00 12.50 12.50
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Tiempo promedio de fabricación
de una Waffer 111.89 0.23 111.66 112.12
Tiempo promedio total de espera
de una Waffer 125.00 1.06 123.94 126.06
Tiempo promedio de espera, de
una Waffer, en la estación cuello
de botella Lithography 89.98 1.51 88.47 91.49
Factor de utilización de la
estación de Cleaning 80.84% 0.00 80.83% 80.85%
Factor de utilización de la
estación de Oxidation 71.63% 0.01 71.62% 71.64%
Factor de utilización de la
estación de Lithography 96.93% 0.00 96.93% 96.93%
Factor de utilización de la
estación de Etching 74.50% 0.00 74.50% 74.50%
Factor de utilización de la
estación de Ion Implantation 59.80% 0.00 59.80% 59.80%
Factor de utilización de la
estación de Photoresist Strip 55.63% 0.00 55.63% 55.63%
Throughput (Rendimiento
waffers/hora) 2.37 0.01 2.36 2.38
Tabla 3. Resumen resultados preliminares modelo de simulación sistema actual.
Referencias
- Arena Simulation SW; El modelado de eventos discretos permite la
optimización de procesos complejos; tomado de: http://www.mimesis-
soluciones.com/versionesarena/
- ITESCO Simulación. (2013). Input Analyzer; tomado de;
https://www.youtube.com/watch?v=eg_sTev_BAs
- León Darío Bello Parias. (2013). Estadística: Prueba Kolmogorov.; tomado de:
https://www.youtube.com/watch?v=Gh5TdxlCV6s
- Hernández Evelio. 2012. Histograma. 26 Ago 2012; tomado de
2012.https://www.youtube.com/watch?v=g6YJFyv1JgI
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- Sesiones sincrónicas # 599. (2019). Obtenido de; https://ca-
sas.bbcollab.com/site/external/jwsdetect/nativeplayback.jnlp?sid=2010324
&psid=2019-04-01.1703.M.A116CA7825D3ECC960E3442D30A5DF.vcr
- Sesiones sincrónicas # 624. (2019). Obtenido de https://ca-
sas.bbcollab.com/site/external/jwsdetect/nativeplayback.jnlp?sid=2010324
&psid=2019-03-29.1530.M.D044B4287FF0345C32B1D5F0DF0CEE.vcr
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