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¿Qué es la Sublimación

Inversa?
Por
Rafael Diaz

La sublimación inversa o regresiva, también llamada deposición o la


solidificación de un gas por enfriamiento, es lo opuesto a la sublimación, que
vaporiza los sólidos sin primero licuarlos.

Muchas investigaciones están en curso en el campo de la deposición química


de vapor, especialmente en el área de materiales utilizados para cubrir
polímeros, y encontrar materiales que son menos dañinos para el medio
ambiente (Anne Marie Helmenstine, 2016).
A una temperatura dada, la mayoría de los compuestos y elementos químicos
pueden poseer uno de los tres diferentes estados de materia a diferentes
presiones.

En estos casos, la transición del estado sólido al estado gaseoso requiere un


estado líquido intermedio. Pero a temperaturas inferiores a la del punto
triple, un aumento de la presión dará lugar a una transición de fase,
directamente del gas al sólido.

Diagrama de fase del agua.


También, a presiones por debajo de la presión de punto triple, una
disminución de temperatura dará como resultado que un gas se convierta en
sólido sin pasar a través de la región líquida (Boundless, S.F.).

Ejemplos de sublimación inversa


El hielo y la nieve son los ejemplos más comunes de sublimación inversa. La
nieve que cae en invierno es el producto del sobreenfriamiento del vapor de
agua que se encuentra en las nubes.

La escarcha es otro ejemplo de deposición que puede verse como un


experimento en química que describe los cambios en los estados de la
materia.

También se puede experimentar con una lata de aluminio y agua salada muy
fría. Los meteorólogos fueron capaces de probar deposición de primera mano
durante el invierno de 2014 debido a las temperaturas bajo cero en muchas
zonas de los Estados Unidos.

Los diodos emisores de luz, o luces LED, se recubren con diferentes


sustancias mediante deposición.

Los diamantes sintéticos también se pueden hacer usando deposición


química, lo que significa que los diamantes de todas las formas, tamaños y
colores se pueden hacer mediante el enfriamiento artificial de gas de
carbono.

Los estudiantes pueden experimentar con la fabricación de un diamante


sintético sin todo el calor y la presión (Garrett-Hatfield, S.F.).

Aplicaciones de la sublimación

1- Deposición química de vapores

La deposición química en fase vapor (o CVD por sus siglas en inglés), es un


nombre genérico para un grupo de procesos que implican depositar un
material sólido de una fase gaseosa y es similar en algunos aspectos a la
deposición física en fase vapor (PVD).

PVD difiere en que los precursores son sólidos, con el material a depositar
siendo vaporizado desde un blanco sólido y depositado sobre el sustrato.

Los gases precursores (a menudo diluidos en los gases portadores) se


suministran a la cámara de reacción a aproximadamente las temperaturas
ambiente.

Cuando pasan o entran en contacto con un sustrato calentado, reaccionan o


se descomponen formando una fase sólida que se deposita sobre el sustrato.

La temperatura del sustrato es crítica y puede influir en las reacciones que


tendrán lugar (AZoM, 2002).

En cierto sentido, se puede rastrear la tecnología de la deposición química


de vapor, o CVD, todo el camino de vuelta a la prehistoria:
«Cuando los cavernícolas encendieron una lámpara y hollín se depositó en la
pared de una cueva», dice, que era una rudimentaria forma de CVD.

Hoy en día, CVD es una herramienta básica de fabricación, que se utiliza en


todo, desde gafas de sol hasta bolsas de papas fritas, y es fundamental para
la producción de gran parte de la electrónica de hoy.

También es una técnica sujeta a un refinamiento y una constante expansión,


empujando la investigación de materiales en nuevas direcciones, como la
producción de grandes hojas de grafeno o el desarrollo de células solares que
podrían ser «impresas» en una hoja de papel o plástico (Chandler, 2015).

2- Deposición física de vapores

La deposición física de vapor (PVD por sus siglas en inglés) es


fundamentalmente una técnica de revestimiento por vaporización, que
implica la transferencia de material a nivel atómico. Es un proceso alternativo
a la galvanoplastia

El proceso es similar a la deposición química en fase vapor (CVD), excepto


que las materias primas / precursores.

Es decir, el material que se va a depositar, empieza en forma sólida, mientras


que en CVD los precursores son introducidos en la cámara de reacción en
estado gaseoso.

Incorpora procesos tales como recubrimiento por pulverización y deposición


por pulso láser (AZoM, 2002).

En el proceso de PVD, el material de recubrimiento sólido de alta pureza


(metales tales como titanio, cromo y aluminio) se evapora por calor o por
bombardeo con iones (pulverización catódica).
Al mismo tiempo, se añade un gas reactivo (por ejemplo, nitrógeno o un gas
que contiene carbono).

Forma un compuesto con el vapor metálico que se deposita sobre las


herramientas o componentes como un recubrimiento delgado y altamente
adherente.

Se obtiene un grosor de revestimiento uniforme haciendo girar las piezas a


una velocidad constante alrededor de varios ejes (Oerlikon Balzer, S.F.).

3- Deposición de capas atómicas

La deposición de capas atómicas (DCA) es una técnica de deposición en fase


de vapor capaz de depositar películas finas de alta calidad, uniformes y
conformes a temperaturas relativamente bajas.

Estas propiedades sobresalientes pueden emplearse para afrontar desafíos


de procesamiento para diversos tipos de células solares de próxima
generación.

Por lo tanto, la DCA para celdas fotovoltaicas ha atraído gran interés en la


investigación académica e industrial en los últimos años (J A van Delft,
2012).

La deposición de capas atómicas proporciona una herramienta única para el


crecimiento de películas finas con excelente conformidad y control del
espesor hasta niveles atómicos.

La aplicación de la DCA en la investigación energética ha recibido cada vez


más atención en los últimos años.
En tecnología solar, el nitruro de silicio Si3N4 se utiliza como capa
antirreflectante. Esta capa provoca el color azul oscuro de las células solares
de silicio cristalino.

La deposición se lleva a cabo con plasma mejorado en un sistema PECVD


(deposición de vapor químico mejorado por plasma) (Wenbin Niu, 2015).

La tecnología PECVD permite una rápida deposición de la capa de nitruro de


silicio. La cobertura de los bordes es buena.

Por lo general, el silano y el amoníaco se utilizan como materia prima. La


deposición puede tener lugar a temperaturas inferiores a 400 °C (Crystec
Technology Trading , S.F.).

Referencias

1. Anne Marie Helmenstine, P. (2016, Junio 20). Sublimation Definition (Phase


Transition in Chemistry). Recuperado de thoughtco.com.
2. (2002, Julio 31). Chemical Vapour Deposition (CVD) – An Introduction. Recuperado
de azom.com.
3. (2002, Agosto 6). Physical Vapour Deposition (PVD) – An Introduction. Recuperado
de azom.com.
4. (S.F.). Solid to Gas Phase Transition. Recuperado de boundless.com.
5. Chandler, D. L. (2015, Junio 19). Explained: chemical vapor deposition. Recuperado
de news.mit.edu.
6. Crystec Technology Trading . (S.F.). Deposition of silicon nitride antireflexion layers
on crystalline silicon solar cells by PECVD technology. Recuperado de crystec.com.
7. Garrett-Hatfield, L. (S.F.). Deposition in Chemistry Experiments. Recuperado de
education.seattlepi.com.
8. J A van Delft, D. G.-A. (2012, Junio 22). Atomic layer deposition for photovoltaics:.
Recuperado de tue.n.
9. Oerlikon Balzer. (S.F.). PVD based processes. Recuperado de oerlikon.com.

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