Академический Документы
Профессиональный Документы
Культура Документы
532
а б
, мкм
Рис. 6. Профили микротвердости титана
ВТ1-0 после азотирования в тлеющем РПК
при низких давлениях и температурах: 1, 2 – 750;
3, 4 550; 5, 6 450 °С. Кривые 1, 3, 5 – тыльная
и 2, 4, 6 – лицевая стороны образца [22]
Метод ИА в тлеющем разряде наиболее изучен,
Рис. 5. Изменение микротвердости по глубине широко применяется в промышленных условиях.
азотированного слоя: без ЭПК (○) Достигнуты большие глубины (до 200 мкм) и мик-
и с проявлением ЭПК (●) [12] ротвердости азотированных слоев (до 20 ГПа). Од-
нако существующие на сегодняшний день техноло-
Повышение микротвердости обусловлено обра- гические процессы ИА в тлеющем разряде прово-
зованием нитридов титана на поверхности образцов. дятся или при относительно высоких температурах
Микротвердость образцов после азотирования в (700…800 °С), или при большой продолжительно-
условиях проявления ЭПК в 1,6 раза выше, чем без сти процесса (6…10 ч) при 550…650 °С, что может
ЭПК. Использование тлеющего разряда с полым приводить к разупрочнению сердцевины деталей из
катодом позволило понизить рабочее давление от некоторых титановых сплавов. Возможности по по-
300 до 60 Па. вышению экономичности, интенсификации процес-
В работах [22, 26, 30] для снижения рабочего са азотирования в тлеющем разряде ограничены из-
давления и получения минимального напряжения за затруднений, связанных с дальнейшим снижени-
горения разряда при азотировании титановых спла- ем рабочего давления и ростом плотности тока, что
вов в тлеющем разряде с полым катодом использо- обусловлено условиями существования тлеющего
вали инжекцию быстрых электронов из плазмы до- разряда.
полнительного дугового разряда с холодным полым ИА В ДУГОВОМ РАЗРЯДЕ
катодом в плазму тлеющего разряда. Такая внешняя
инжекция заряженных частиц в полый катод позво- Использование для ИА плазмы дугового разряда,
ляет уйти в сторону более низких давлений при со- который характеризуется низким напряжением го-
хранении всех положительных качеств обычного рения, высокой плотностью плазмы (до 1018 м-3),
тлеющего разряда и реализовать режимы как само- высоким значением разрядного тока и широким
стоятельного, так и несамостоятельного тлеющего диапазоном давлений, при которых он стабильно
разряда с полым катодом. зажигается и горит, является одним из перспектив-
В [22] приведены результаты исследования азо- ных вариантов решения проблем, которые возника-
тирования титана ВТ1-0 при низких давлениях на ют при проведении процесса ИА в тлеющем разря-
протяжении 4,5 ч при температурах 450…750 °С в де. Метод ИА в плазме дуговых разрядов позволяет
плазме тлеющего разряда с полым катодом. В плаз- существенным образом снизить температуру и про-
ме с концентрацией n = 1010…1011 см-3 диффузион- должительность поверхностной обработки.
ное насыщение титана азотом происходило при ИА в плазме дуговых разрядов проводится или с
плотностях ионного тока на катоде 1,6…4,0 мА/см2. холодным катодом (двухступенчатый вакуумно-
Выявлено формирование градиентной структуры с дуговой разряд, реализуемый с помощью электроду-
высокой (14 ГПa) микротвердостью на поверхности гового испарителя [33, 34]), или с горячим тер-
(рис. 6). моэмиссионным катодом (с использованием источ-
Увеличение температуры от 450 до 750 °С при- ника газовой плазмы [13, 35]). Преимуществами ИА
водило к увеличению микротвердости в 2,2 раза. На в дуговом разряде перед традиционным ИА в тлею-
поверхности формировалась многослойная структу- щем разряде являются: более высокая концентрация
ра с высокой микротвердостью, состоящая из слоев заряженных частиц в плазме дугового разряда,
нитрида титана, диффузионного насыщения и тер- меньшее насыщение водородом азотированных де-
мического влияния, плавно переходящего в основ- талей, проведение процесса ИА в более чистых ва-
ной объем материала. Микротвердость поверхности куумных условиях при давлении азота на 12 по-
рядка ниже.
ИА В ДУГОВОМ РАЗРЯДЕ
ТЕРМОЭМИССИОННЫМ КАТОДОМ 0
0 1000 2000 3000
Наличие в плазменном потоке, генерируемом ду- Глубина, нм
говыми разрядами с холодным катодом, большого Рис. 7. Зависимости нанотвердости поверхности
количества микрокапель материала распыляемого ВТ1-0 от глубины проникновения индентора
катода накладывает некоторые ограничения на ис- для исходного образца (1) и образцов после ИА
пользование их в процессах модификации поверх- в течение 2 ч при температурах:
ности. Дуговые разряды с накаленным катодом поз- 500 (2); 550 (3); 600 °С (4) [41]
воляют получать относительно чистую (бескапель-
ную) газоразрядную плазму при азотировании. Та- Процесс ионно-плазменного азотирования про-
кие системы обеспечивают широкий диапазон регу- водили на установке типа «Булат-6» в азотной плаз-
лирования плотности плазмы. Диапазон рабочих ме, получаемой с помощью источника газовой
давлений таких систем находится в пределах плазмы (ИГП) [13], при отрицательном напряжении
0,01…5 Па. Наличие дополнительных регулировок на подложке 300…400 В. Вследствие бомбардиров-
(токов накала, анода и питания катушек соленоида ки ионами азота поверхность образцов нагревалась
для создания магнитного поля) позволяет обеспечи- до температуры диффузии, и производилось насы-