Antenas a Plasma e suas aplicações na Guerra
Eletrônica.
Wellington Guilherme da Silva1 e Homero Santiago Maciel2
1 - Comando-Geral de Operações Aéreas – COMGAR, 71615-600, Brasília , DF, Brasil.
2 - Instituto Tecnológico de Aeronáutica – ITA, 12228-900, CTA , São José dos Campos, SP, Brasil.
INTRODUÇÃO
Plasma é um meio gasoso contendo partículas ionizadas,
assim, quando suficientemente ionizado, um plasma é um
bom condutor de eletricidade e, portanto, pode substituir
elementos metálicos em linhas de transmissão, irradiadores e
refletores de antenas [1]. Desta forma, define-se antenas a
plasma como aquelas que utilizam dispositivos de plasma em
vez dos tradicionais condutores metálicos. Esta não é uma
nova tecnologia, no início do século passado já havia estudos
sobre estes dispositivos, tanto que em 1919 há registro nos
EUA de uma patente empregando este conceito [2].
Entretanto, nos últimos dez anos, alguns países como os EUA
e a Austrália iniciaram pesquisas para utilizarem antenas a
plasmas em aplicações militares, pois estes dispositivos
possuem propriedades interessantes para a Guerra Eletrônica,
tais como: baixa RCS (Radar Cross Section); resistência à
interferência (jamming); e fácil reconfiguração [1, 3, 4, 5].
Este artigo apresenta uma pesquisa bibliográfica sobre
antenas a plasma objetivando ressaltar suas características em
aplicações na Guerra Eletrônica, partindo dos conceitos
fundamentais sobre a física de plasma. As limitações e
dificuldades de operacionalização destas antenas também são
abordadas.
I - FUNDAMENTOS DA FÍSICA DE PLASMA
A palavra plasma tem sua origem no grego e significa algo
moldável. Lewi Tonks e Irving Langmuir, em 1920, foram os
primeiros a utilizarem este termo para descrever o estado de
um gás em uma descarga elétrica luminescente [6].
De forma geral, plasmas contêm partículas neutras, elétrons,
íons, partículas excitadas e fótons. Compreender o complexo
comportamento deste meio levou ao surgimento de uma nova
área de pesquisa denominada física de plasma, onde são
estabelecidas as teorias que descrevem os fenômenos que
ocorrem em um gás no estado de plasma.
Pesquisas sobre plasmas levaram a importantes avanços em
diversos campos como: microeletrônica; iluminação;
tratamento de lixo; engenharia espacial; medicina; e lasers
entre outras aplicações.
Plasmas possuem algumas propriedades importantes. A
primeira é chamada de quase-neutralidade, ou seja, as
quantidades de partículas positivas e negativas estão em
equilíbrio. Outra propriedade é o chamado comportamento
coletivo, isto significa que o movimento de uma partícula
carregada é influencia outras partículas carregadas [6].
Plasmas ocorrem na natureza ou podem ser produzidos
artificialmente. A mais simples forma de plasma é encontrada
1
nas lâmpadas fluorescentes largamente utilizadas para
iluminação e as lâmpadas de neon dos avisos luminosos.
Estes plasmas são denominados de plasmas de descargas
elétricas luminescentes. Mais recentemente, as telas dos
televisores vieram popularizar o termo plasma. Na TV a
plasma a radiação luminosa é produzida por micro descargas
elétricas, com características bastante diferentes da descarga
em baixa pressão própria da lâmpada fluorescente. Muitos
experimentos relatados na bibliografia sobre antenas a plasma
utilizam simples lâmpadas fluorescentes na função de
elementos refletores ou irradiadores [1,3,4].
Plasmas diferem dos gases ordinários em alguns pontos,
apresentando:
• reatividade química;
• condutividade elétrica;
• altas temperaturas;
• irradiação eletromagnética; e
• emissão de luz.
Cada aplicação tecnológica explora um ou mais destes
pontos especificamente. Processos químicos assistidos a
plasma aproveitam-se das propriedades da reatividade
química do plasma [7]. Plasmas térmicos, que atingem
temperaturas na ordem de 15000 K, são utilizados para
tratamento de lixo, solda a plasma e simulação do ambiente
de reentrada atmosférica nos chamados túneis de vento a
plasma. Para o estudo das antenas a plasma, um importante
ponto é a condutividade elétrica do plasma que é função da
densidade de partículas carregadas [6].
O principal parâmetro de um plasma é a densidade do
plasma que indica a quantidade de partículas carregadas por
unidade de volume. Tendo em vista a propriedade de quase-
neutralidade, a densidade de íons (ni) e a densidade de
elétrons (ne) apresentam valores muito próximos. Devido à
alta mobilidade dos elétrons, em relação aos íons, a densidade
de elétrons é o parâmetro mais significativo regendo a
maioria dos outros parâmetros do plasma. Outros importantes
parâmetros de interesse no desenvolvimento das antenas a
plasma são: grau de ionização; freqüência do plasma;
comprimento de Debye; e condutividade do plasma [1].
1) Grau de Ionização: O grau de ionização expressa a
relação entre o número de partículas carregadas (ni ou ne) e o
número total de partículas do plasma. A equação (2)
determina o grau de ionização de um plasma, onde na é o
número de partículas neutras (átomos) e o ni é o número de
partículas carregadas [9].
 ni
α= (2)
ni + na
Conforme o grau de ionização os plasmas podem ser
classificados em [7].
• Plasma completamente ionizado: α > 90%
• Plasma parcialmente ionizado: 1% < α < 90%
• Plasma fracamente ionizado: α < 1%
Plasmas completamente ionizados ocorrem somente em
processos de fusão nuclear como os que ocorrem no núcleo
das estrelas [6]. Antenas a plasma apresentam plasmas
fracamente ionizados, com graus de ionização da ordem de
10-5 [1].
2) Freqüência de Plasma: Quando um plasma é perturbado,
por exemplo por um campo eletromagnético, partículas
carregadas positivamente e negativamente são separadas, o
que causa a perda da neutralidade elétrica. Entretanto, a
separação de cargas forma um campo elétrico que irá
restaurar a condição de equilíbrio, este efeito é caracterizado
por uma freqüência natural de oscilação chamada de
freqüência de plasma, sendo expressa pela equação (2) [6].
nee 2
ωp = (2)
meε
Onde: ne é a densidade de elétron; e é carga elétrica do
elétron; me é massa do elétron; e ε é a permissividade elétrica
do meio. Assim, o único parâmetro controlável é a densidade
de elétrons, que depende da pressão do gás e do percentual de
ionização.
3) Comprimento de Debye: Esta é uma dimensão
característica de uma região em que pode ocorrer
concentração local de cargas, dando origem a campos
eletrostáticos que tendem restabelecer a neutralidade do
plasma. Esta dimensão é determinada pela equação (3), onde
Te é a temperatura dos elétrons em eléton-volts (eV). O
comprimento de Debye é da ordem de 10-4 metros (0,1 mm)
para uma descarga típica em gás a baixa pressão onde a
temperatura dos elétrons é próxima de 4 eV e a densidade de
elétrons é de 10-10 cm-3 [9].
ε Te
λD = (3)
nee2
4) Condutividade do Plasma: Este parâmetro depende da
densidade de elétrons (ne) e da freqüência de colisão (υc),
conforme equação (4) [6,9,10]. A freqüência de colisão
expressa o número de colisões ionizantes que ocorrem no
intervalo de um segundo. Uma colisão ionizante é a colisão
entre duas partículas, geralmente um elétron e um átomo,
resultando na ionização do átomo e liberação de mais um
elétron.
2
e2 ne
σ= (4)
meυc
Há muitos outros parâmetros envolvidos na física do
plasma, porém não é adequado apresentá-los neste estudo,
porém as referências bibliográficas são apropriadas para um
estudo mais detalhado.
II - GERAÇÃO DE PLASMA
A geração de plasmas ocorre pela utilização de algum
método para produzir pares de íons e elétrons a partir das
partículas neutras, ou seja, a partir dos átomos. Dentre as
diversas formas de geração de plasma pode-se citar os
plasmas gerados por:
• campo elétrico contínuo (DC)
• campo elétrico alternado (RF)
• microondas;
• onde de choque;
• magneto hidrodinâmica (MHD);
• feixe de partículas de alta energia;;
• combustão; e
• laser.
Dentre estes métodos, o mais comum, e o mais simples, é a
aplicação de um campo elétrico contínuo transferindo energia
cinética aos elétrons que ionizam os átomos por processos de
colisões, este fenômeno é apresentado na Fig. 1. Os círculos
menores são elétrons que colidem com os círculos azuis
(átomos) resultando em mais um elétron livre e um íon
(círculo preto). Este processo leva a um fenômeno de
crescimento exponencial de partículas carregadas (elétrons e
íons), conhecido como avalanche de elétrons, ocorrendo a
ruptura elétrica do gás (gas breakdown) que passa ao estado
de plasma [9].
Fig. 1 – Esquema simplificado de geração de plasma pela aplicação
de um campo elétrico entre dois eletrodos, promovendo a ruptura
elétrica do gás (gas breakdown).
A tensão elétrica que resulta em um campo elétrico em que
ocorre a avalanche d elétrons é denominada tensão de ruptura
Vb (voltage breakdown). Este fenômeno foi estudado por
Friedrich Paschen que, em 1989, verificou, empiricamente,
que esta tensão depende da pressão do gás, da distância entre
os eletrodos que produzem o campo elétrico e do tipo de
material dos eletrodos [8]. A equação (5) ficou conhecida
como a Lei de Paschen. Onde, p é a pressão do gás; d é a
distância entre eletrodos; e γ é o coeficiente de emissão de
elétrons secundários. A e B são constantes empíricas pelo chaveamento dos elementos da antena. Esta técnica
características do gás. O coeficiente gama (γ) varia entre resulta em um diagrama de radiação variável semelhante ao
0.001 e 0.0001 e depende do tipo de gás e do material do diagrama de uma matriz de dipolos [1].
eletrodo [9]. Antenas a plasma podem utilizar dispositivos a plasma como
elementos refletores, Fig. 3, ou como elementos irradiadores.
Bpd
Vb = (5)
Apd
ln
ln(1 + 1/ γ )

Os gráficos de Vb em função do produto pd são conhecidos

como curvas de Paschen e possuem uma forma característica
conforme apresentado na Fig. 2. É possível observar que as
curvas de Paschen apresentam um valor mínimo de Vb, assim
é possível encontrar o valor de pd que requeira a menor
tensão elétrica para alimentar o dispositivo.

Fig. 3 – Antena utilizando um refletor a plasma [1].

Refletores a Plasma

A Fig. 3 apresenta uma antena a plasma experimental

Fig. 2 – Curvas de Paschen para plasmas de argônio e nitrogênio
gerados em descargas elétricas de corrente contínua com eletrodos
planos e paralelos e com coeficiente gama de 0,01.
III - PROJETOS DE ANTENAS A PLASMA
Antenas a plasma já foram desenvolvidas, em caráter
experimental, operando na faixa de 100 MHz a 10 GHz e
apresentaram características semelhantes às antenas
convencionais [1,3,4,5]. Estas antenas experimentais foram
construídas com tubos de lâmpadas fluorescentes comerciais
contendo uma mistura de gás argônio e mercúrio. Estas
lâmpadas são comuns em nosso cotidiano, entretanto poucas
pessoas sabem que são dispositivos a plasma.
Três importantes parâmetros para uma antena a plasma são:
utilizando lâmpadas fluorescentes como elementos refletores
[12]. Nos metais a reflexão das ondas eletromagnéticas
ocorre em uma superfície bem definida que é a fronteira entre
o metal e o espaço livre. No plasma esta reflexão ocorre a
certa profundidade em uma pseudo superfície denominada
superfície crítica [1].
A superfície crítica deve ser estável e reproduzida
consistentemente para a operação da antena. O plasma
apresenta-se como um bom refletor para freqüências abaixo
da freqüência de plasma [1].
Antenas com refletores a plasma apresentam lóbulos de
radiação principais semelhantes aos de uma antena com
refletor metálico, porém apresentam lóbulos laterais
reduzidos. Conforme apresentado no diagrama de radiação da
Fig. 4, esta redução nos lóbulos secundários pode ser da
ordem de 5 dB [13].

• tempo de ionização;
• tempo de decaimento; e
• freqüência de plasma.

Tempo de ionização é o tempo necessário para que o plasma

atinja a condição de operação desejada. Este é o tempo de
ativação da antena, sendo da ordem de 10-9 segundos. Já o
tempo necessário para a extinção do plasma, uma vez que o
sistema seja desligado, ou seja, que as partículas carregadas
(elétrons e íons) se recombinem e o plasma volte à condição
de um gás ordinário, é o tempo de decaimento que é da Fig. 4 – Comparação entre os diagramas de radiação de uma antena
utilizando refletor metálico e refletor a plasma [13].
ordem de 10-6 segundos. Estes tempos característicos são
importantes no desenvolvimento de antenas inteligentes, ou Sistemas de radares usualmente utilizam refletores
antenas reconfiguráveis, cujo padrão de radiação é alterado metálicos em suas antenas e apresentam uma significativa

3
RCS (Radar Cross Section), sendo facilmente detectados por
outro radar. Esta característica dos radares com antenas
convencionais é um inconveniente em muitos casos, e em
especial para os sistemas de radares embarcados como o que
ocorre nas aeronaves AWACS (Airborne Warning and
Control System). Antenas a plasma apresentam baixa RCS,
podendo, quando desligadas, apresentar RCS de até -20 dB
em relação a uma antena convencional [1]. A Fig. 5 apresenta
uma típica aeronave AWACS, onde é possível notar a antena
do radar embarcado.
Fig. 5 – Aeronave AWACS com radar embarcado.
A Fig. 6 apresenta a aeronave E-99 da FAB (Força Aérea
Brasileira) equipada com o radar Erieye e utilizada em
missões de AEW (Airborne Early Warning).
Fig. 6 – Aeronave E-99 da FAB em missões AEW.
Antenas Lineares a Plasma
Uma antena linear é a forma mais simples de construir uma
antena a plasma. A Fig. 7 apresenta uma antena a plasma
utilizada experimentalmente em um rádio receptor AM-FM.
Quando a densidade de plasma na antena é alta, a antena
opera na faixa de VHF e o rádio sintoniza as estações de FM.
Para uma densidade de plasma baixa, o rádio sintoniza tanto
estações AM como FM. Ou seja, uma antena a plasma é um
filtro passa alta sintonizado na freqüência do plasma [14].
Quando uma onda eletromagnética, abaixo da freqüência
de plasma, incide no plasma, não ocorre interação desta onda
com o plasma. Logo, as antenas a plasma apresentam baixa
RCS (Radar Cross Section) [4] e uma relativa imunidade às
interferências (jamming) quando são expostas a sinais de RF
(Rádio Frequência) abaixo da freqüência de plasma [3]. Estas
características tornam as antenas a plasma ideais para
aplicações de guerra eletrônica.
4
Fig.
7 – Antena a plasma conectada a um rádio AM/FM [14].
IV - PROBLEMAS DE OPERACIONALIZAÇÃO
Os projetos de antenas a plasma, até o momento publicados
na literatura, apresentam algumas desvantagem e limitações
que precisam ser superadas para a operacionalização destes
dispositivos. Dentre os principais obstáculos tecnológicos a
serem suplantados, pode-se citar: fragilidade mecânica;
emissão de luz,; energia necessária na geração do plasma;
vida útil das antenas; e interferência em sistemas eletrônicos.
Fragilidade Mecânica
Para diminuir o potencial elétrico necessário, na geração de
plasma por campo elétrico, utiliza-se gases específicos em
baixa pressão. No caso das lâmpadas fluorescentes é utilizada
uma mistura de gás argônio e mercúrio a uma pressão típica
de 2 Torr, lembrando que a pressão atmosférica é de 760
Torr. O confinamento do gás é realizado em tubos de vidro
apresentando a desvantagem da fragilidade mecânica. Uma
solução é o emprego de materiais cerâmicos resistentes aos
esforços mecânicos e que não interfiram na interação das
ondas eletromagnéticas com o plasma.
Emissão de Luz
No processo de geração do plasma, nem todas as colisões de
elétrons com átomos resultam na ionização. Algumas
colisões não transferem energia suficiente para a ionização e
pode levar o átomo ao estado de excitação. O átomo
permanece um período muito curto nesta condição e retorna
ao estado fundamental, entretanto o retorno ao estado inicial
resulta na liberação de energia na forma de fótons. Este é um
fenômeno desejado nas lâmpadas fluorescentes e lâmpadas
do tipo neon que são projetadas para a emissão de luz, mas é
um fenômeno indesejado em antenas para aplicações
militares. Assim, é necessário que o material que confina o
plasma seja opaco.
Energia Elétrica de Operação
Antenas a plasma podem requerer altas tensões para gerar e
manter o plasma sendo um problema em sistemas
embarcados com baixa disponibilidade de potência elétrica.
Aeronaves de pequeno porte, com geradores modestos, terão
dificuldades para o emprego de antenas a plasmas, mas a
maioria das aeronaves de médio e grande porte poderão ser
adaptadas para fornecerem a energia elétrica necessária para
a operação destes dispositivos a plasma.
Vida Útil
Os sistemas de baixa pressão, como os que confinam o
plasma, podem apresentar algum vazamento trazendo duas
consequências que reduzem a vida útil ou o tempo entre
manutenção das antenas a plasma. Uma consequencia destes
vazamentos é o aumento da pressão do gás e a outra é a
contaminação do gás do plasma pelo ar atmosférico. Estes
dois efeitos alteram os parâmetros de funcionamento da
antena como a tensão de ruptura e a freqüência de plasma.
Interferência em Sistemas Eletrônicos
Dispositivos a plasmas geralmente apresentam-se como
fontes de ruído que podem interferir em equipamentos
eletrônicos. Este é um ponto crítico em sistemas embarcados
que podem ter os equipamentos de navegação e comunicação
perturbados pelas interferências colocando a segurança do
voo em risco. Minuciosos projetos e testes de
compatibilidade eletromagnética devem ser executados para
homologar o uso de dispositivos a plasmas em sistemas
embarcados.
CONCLUSÕES
A pesquisa bibliográfica verificou que, em trabalhos
experimentais, as antenas a plasma apresentaram
funcionamento semelhante ao das antenas convencionais.
Porém, apresentaram características especiais que são
atrativas para aplicações militares em especial no cenário de
Guerra Eletrônica. Tais características são: a) quando
desligadas tornam-se material dielétrico não interferindo em
outros sistemas e não sofrendo interferência; b) são furtivas
(stealth), ou seja, apresentam baixa RCS (Radar Cross
Section); c) são imunes aos sinais interferidores (jamming)
abaixo da freqüência de plasma; e d) apresentam lóbulos
secundários reduzidos, reduzindo a possibilidade de
interferência nestes lóbulos. Foram identificados alguns
problemas para tornar as antenas a plasma operacionais, mas
estudos adequados podem superar as dificuldades
tecnológicas e permitir o emprego destas antenas em
situações reais com adequada eficiência.
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Design Using Resistive Surfaces,” IEEE Trans. on Antennas and Prop.,
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[14] Anderson, T. Alexeff, I. Farshi, E. Karnam, N. Pradeep, E.P.
Pulsani, N.R. Peck, J. “An Operating Intelligent Plasma Antenna”, IEEE
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[15] Max Chung, Wen-Shan Chen, Yen-Hao Yu and Zong Yao Liou,
“Properties of DC-biased Plasma Antenna”, ICMMT, 2008.
Sobre os Autores:
O Cap Esp Com Wellington Guilherme da Silva concluiu o CFOE-
COM em 2001 e possui graduação em Engenheira Elétrica pela
Universidade de Pernambuco (1999), especialização em Gestão de
Pessoas e Processos pela Pontifícia Universidade Católica de Minas
Gerais (2005), especialização em Análise de Ambiente
Eletromagnético pelo Instituto Tecnológico da Aeronáutica (2007) e
mestrado em Física de Plasmas pelo Instituto Tecnológico de
Aeronáutica (2009). Atualmente é Oficial Adjunto do Grupo de
Inteligência Aérea (GIA) do COMGAR.
O Professor Homero Santiago Maciel possui graduação em
Engenharia Eletrônica pelo Instituto Tecnológico de Aeronáutica
(1976), mestrado em Física pelo Instituto Tecnológico de
Aeronáutica (1980) e doutorado em Electrical Discharges And
Plasmas pela University of Oxford (1986). Atualmente é professor
titular do Instituto Tecnológico de Aeronáutica. Tem experiência
nas áreas de Física e Eletrônica, com ênfase em Física de Plasmas e
Descargas Elétricas, atuando principalmente nos seguintes temas:
plasmas frios térmicos e não-térmicos, tecnologias de plasma,
processos de deposição, corrosão e tratamento de superfícies por
plasmas.