ВВЕДЕНИЕ .......................................................................................................... 3
1 Методическая часть .......................................................................................... 4
1.1 Подготовка бидоменов LN необходимых кристаллографических срезов 4
1.2 Изготовление кристаллодержателя ............................................................ 8
2 Экспериментальная часть ............................................................................... 11
2.1 Калибровочные испытания пьезоотклика биморфа ................................ 11
ЗАКЛЮЧЕНИЕ .................................................................................................. 14
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ .......................................... 15
2
ВВЕДЕНИЕ
3
1 Методическая часть
4
Резка производится на трехкоординатном станке раскроя
полупроводниковых пластин SYJ-400 с использованием гальванического
диска с режущим алмазным покрытием. Важно отметить, что существует
необходимость изначально подготовить образцы № 1-3 шириной 6 мм с целью
дальнейшего удаления бокового загиба доменной стенки после процесса
бидоменизации. Образцы и свидетели, используемые в работе, представлены
на рисунке 2.
а б
Рисунок 2 – Примеры вырезанных минокристаллов ниобата лития (а),
примеры подготовленных свидетелей (б)
5
который можно также рассматривать, как градиент концентрации
собственных точечных дефектов), способный влиять на направление
спонтанной поляризации в кристалле. Такой метод формирования бидоменной
структуры можно условно назвать диффузионным отжигом.
При диффузионном отжиге ниже точки Кюри основной объем кристалла
сохраняет исходную поляризацию на протяжении всего времени
термообработки. Инверсный по отношению к этой поляризации домен
постепенно «разрастается» вместе с увеличением объема приповерхностной
области, имеющей градиент состава. Это приводит к постепенному
перемещению междоменной границы вглубь кристалла вплоть до ее
стационарного состояния, совпадающего со средней плоскостью пластины.
Минимальная температура, необходимая для формирования инверсного
домена, который можно наблюдать после селективного травления с помощью
оптического микроскопа, находится по данным различных источников в
диапазоне от 800… 900 °C [2] до 1000 °C [3].
После диффузионного отжига необходимо проверить положение
доменной стенки в образцах на оптическом микроскопе. Для этого, согласно
рисунку 1, от образцов №3 и №7 были отрезаны свидетели №9 и №10,
оптические снимки косых шлифов которых представлены на рисунке 3. При
этом, длина образцов №3 и №7 должна быть равна заявленной величине 50 мм.
Перед снятием косых шлифов на проверку доменной структуры проводится
шлифовка торца под 45 градусов, последующая полировка и селективное
травление в растворе плавиковой и азотной кислот.
б
6
в
г
Рисунок 3 – Снимки протравленных косых шлифов образца №3 (а, в) и
образца №7 (б,г)
а б
Рисунок 4 – Подготовленная подложка для магнетронного напыления
контактов NiCr (а) и напыленная сторона одного из образцов (б)
1.2 Изготовление кристаллодержателя
8
Согласно смоделированной и собранной малогабаритной печи
сопротивления, с помощью которой будет производиться нагрев
подготовленных образцов для измерения температурных зависимостей
стандартных пьезомодулей ниобата лития, необходимо подготовить
крепления для этих биморфов.
Для изготовления таких кристаллодержателей был выбран поликор,
который разрезался на необходимые прямоугольные пластины на
трехкоординатном станке раскроя SYJ-400 (рисунок 5).
а б
Рисунок 5 – Резка поликоровой пластины на кристаллодержатели на
трехкоординатном станке раскроя SYJ-400 (а), пример готовых частей
кристаллодержателей (б)
9
водного щелочного раствора силиката натрия в соотношении примерно 1:1
(рисунок 6). После просушки при температуре примерно 70 °С – 90 °С и
затвердевания данный слой является прижимающим для верхней грани
кристалла, что позволяет в грубом приближении использовать метод
измерения смещения свободного конца биморфа.
\
Рисунок 6 – Готовый кристаллодержатель с закрепленным биморфом и
выведенными контактами
10
2 Экспериментальная часть
11
а б
Рисунок 7 – Калибровочный стенд с оптическим микроскопом: общий вид
стенда (а), конструкция закрепленного кристаллодержателя с нацеленным на
свободный конец биморфа микроскопом (б)
40
y = 0.137x + 0.144
30 R² = 0.9995
20
10
l, мкм
0
-400 -300 -200 -100 0 100 200 300 400
-10
-20
-30
-40
-50
U, В
12
Анализируя полученную зависимость можно отменить линейное
измерение смещения свободного конца биморфа от подаваемого напряжения,
что теоретически подтверждается основными пьезоэлектрическими
уравнениями. В дальнейшем коэффициент наклона k = 0,137 зависимости
оптической калибровки будет сравниваться с коэффициентом наклона
калибровки на лазерном интерферометре для подтверждения корректности
работы метода лазерной интерферометрии.
13
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
14
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ
15