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20072072038
1)
MOSFET EMPOBRECIMIENTO
DE
MOSFET ENRIQUESIMIENTO
DE
El desempeo del MOSFET de empobrecimiento. Es similar al JFET, porque se controla por la unin pn entre la compuerta y el extremo del drenaje. Para el MOSFET de canal N una VGS negativa saca los electrones de la regin del canal, empobrecindolo. Cuando VGS alcanza VP el canal se estrangula, los valores positivos aumentan el tamao del canal dando por resultado un aumento en la corriente de drenaje. El MOSFET de empobrecimiento opera tanto para valores positivos como negativos de la VGS.
UNSIONAMIENTO
Este difiere del MOSFET de empobrecimiento en que no tiene la capa delgada del material n, si no que requiere una tensin positiva entre la compuerta y la fuente para establecer una canal. Este canal se forma por la accin de una tensin positiva compuerta a fuente VGS, que atrae electrones de la regin del substrato ubicada entre el drenaje y la compuerta contaminados de tipo n. Una VGS positiva provoca que los electrones se acumulen en la superficie inferior de la capa de xido, cuando la tensin alcanza el valor umbral VT, han sido atrados a esta regin los electrones suficientes para que se comporte como canal n conductor. No habr una corriente ID hasta que VGS excede VT. IDSS es cero para VGS=0
CURVA CARACTERISTICA
SIMBOLO
La frmula es : ID=IDSS(1-[Vgs/Vgs(off)]) donde: -IDSS es el valor de corriente cuando la VGS =0. -VGS(off) es el voltaje cuando ya no hay paso de corriente entre drenaje y fuente (ID=0). -VGS es el voltaje entre la compuerta y la fuente para la que se desea saber ID frmula para la resistencia: RDS=VDS/ID.
3) MOSFET son las siglas de Metal oxide semiconductor field Effect transistor . Consiste en un transistor de efecto de campo basado en la estructura MOS. Es el transistor ms utilizado en la industria microelectrnica prcticamente la totalidad de los circuitos integrados de uso comercial estn basados en transistores MOSFET. Es un tipo especial de transistor FET que tiene una versin NPN y otra PNP. El NPN es llamado MOSFET de canal n y el PNP es llamado MOSFET de canal p. Una delgada capa de material aislante formada de dixido de silicio (SiO 2) (tambin llamada slice o silica) es colocada del lado del semiconductor y una capa de metal es colocada de lado de la compuerta (GATE). En el MOSFET de canal N la parte N est conectado a la fuente (source) y al drenaje (drain). En el MOSFET de canal P la parte P est conectada a la fuente (source) y al drenaje (drain).
4)
FUENTE COMUN
PUERTA COMUN
DRENADOR COMUN
Drenador comn
Puerta Comn
Fuente comn
( (
Zi=RG
) )
( )