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Instrumenta

Instrumenta

o Aplicada
o Aplicada

Ind
Ind

stria do Petr
stria do Petr

leo
leo
- Medio de Vazo: Placas de orifcio
Elemento primrio amplamente utilizado em
instalaes industriais, baseado no princpio de medio
partir da variao do diferencial de presso em um
orifcio com a variao da vazo
Objetivo:
- Seleo
- Dimensionamento adequado
- Instalao
Placas de orifcio:
Medidores de baseados em diferencial de presso
ISO (International Organization for Standardization) 5167
Measurement of fluid flow by means of pressure differential
devices inserted in circular cross section conduits runing
full;
ANSI/API MPMS 14.3.1;
Miller; Flow measurement engineering handbook;
Martins, Nelson; Manual de medio de vazo atravs de
placas de orifcio, bocais e venturis;
Normas e Referncias Bibliogrficas:
Vantagens:
- Facilidade de instalao e de manuteno
- Boa confiabilidade
- Custo relativamente baixo
Desvantagens:
- No linearidade
- Baixa Rangeabilidade (5:1, com o uso da nova
tecnologia de transmissores microprocessados. Com os
transmissores analgicos antigos, essa rangeabilidade era
de 3:1)
- Grande dependncia das condies operacionais
Caractersticas:
Princpio de medio:
Geometria:
Geometria:
Tipos de Placas
Quanto ao orifcio:
Concntrica
Segmental
Excntrica
Quanto ao bordo
Bordo Reto
Bordo Quadrante
Entrada Cnica
Tomadas:
Fluxo unidimensional, incompressvel, sem fluxo de calor e
trabalho atravessando as fronteiras do sistema;
(1) A montante da placa
(2) Na placa
Derivao da Equao Bsica:

= =
+ + = + +
2 2 1 1
2
2 2
2
2
1 1
1
. .
2 2
v A v A Q
g
v P
z
g
v P
z

( )
(
(

|
|

\
|

=
2
1
2
2 1
2
1 .
. 2
.
A
A
P P
A Q

Definindo e introduzindo o fator de expanso


Derivao da Equao Bsica:
( )

2 1
2
2
2
2
. 2
.
4
.
1
1 P P d
D
d
Q

|
|

\
|

=
D
d
=

( )

2 1
2
2
2
. 2
.
4
.
1
.
P P D
Q

=
Derivao da Equao Bsica:
Por definio: (coeficiente de descarga)
teorico
real
Q
Q
C =

P D
C Q
real

=
. 2
.
4
.
1
. .
2
2
2
( )
n
b C f C

= = Re . . Re ,
( ) P = ,
Q Q
teorico
=
Derivao da Equao Bsica:
Exemplo:
- Para placa de orifcio, tomada nos flanges e dimetro da linha
maior que 58,6mm
( ) D D
C
3
4
4
8 1 , 2
000856 , 0
1
002286 , 0
184 , 0 0312 , 0 5959 , 0

+ + =

5 , 2
706 , 91 = b
75 , 0 = n
( )
1
4
.
35 , 0 41 , 0 1
P k
P
+ =
Coeficientes de descarga tomadas nas faces:
Re
Coeficientes de descarga tomadas em 2 e 8D:
Re
Procedimento de dimensionamento:
As placas de orifcios podem apresentar furao de dreno ou de
respiro (vent)
Dreno: Evitar acumulao de pequena quantidade de lquido a
montante do elemento primrio em medio de vazo de gs
com arraste de lquidos em tubulaes horizontais.
Respiro: Evitar acumulao de pequena quantidade de gs a
montante do elemento primrio em medio de vazo de
lquidos com arraste de gs em tubulaes horizontais.
Para levar em considerao a vazo por esses furos, introduzido
um fator F
h
(igual a 1 na ausncia desse furo):
A eficincia desses furos duvidosa, tendo em vista a possibilidade
de entupimento.

P D
F C Q
h real

=
. 2
.
4
.
1
. . .
2
2
2
2
4
1 1
|

\
|
+ =
d
d
F
h
h

Procedimento de dimensionamento:
Agrupando os termos independentes de , definimos o
parmetro S como:
- A determinao de se faz atravs de aproximaes sucessivas,
estimando-se um valor inicial para e calculando o
coeficiente de descarga e fator de expanso em funo do mesmo
at que a diferena entre
4
2
2
1
. .
. 2 . .
. . 4

=
h
F C
P D
Q
S

0
=
0001 , 0
1
<

i
i i


1
. .
1 .
1 1
4
1

=
i
h i i
i
i
F C
S

assim,
Procedimento de dimensionamento:
2
W
S
A P
=

25 , 0
2
2
1
1

(
(

\
|
+ + = k
S
k

1
4
Re
W
D
=
=
i
( )
( )
( )
i
i
h i
f
f
F f

=
=
=
h
F
S

=

i
N
dentro
da faixa?
N
Alterar range do instrumento
de presso diferencial
d = D
S
S
( )
4
1

=
C
Viscosidade absoluta (cP)
[ ] ( ) t t d d
m m
+ = 1
Re
DV

=
Procedimento de dimensionamento:
Para o clculo de k
1
e k
2
, existe uma tabela que correlaciona o tipo
de elemento primrio com esses valores.
Nessa tabela, embora no apresentado, tambm podem ser
encontrados dados para venturi e bocal.
-0,062 0,634
Orifcio Segmental
0,088 0,607
Orifcio Excntrico
0,06 0,6
Orifcio bordo reto
Re<200000
0 0,6
Orifcio bordo reto
Re>200000
k
2
k
1
Tipo de Elemento
Procedimento de dimensionamento:
Determinao de nas condies de manufatura
C
proj
0
20 @
@

( ) [ ]
op placa M
T d d + = 15 , 293 . 1 .
( ) [ ]
op tubulao M
T D D + = 15 , 293 . 1 .
int

M
M
M
D
d
=
Nmero de condies operacionais (normal, mxima e mnima)
Vazo
Range de calibrao
Presso a montante
Massa especfica (lquidos)
Viscosidade (lquidos)
Temperatura a montante (gas e vapor)
Peso molecular (gas e vapor)
Fator de compressibilidade (gas e vapor)
Cp/Cv (gas e vapor)
Dimetro interno da linha
Dados de Processo para Dimensionamento de Placas
de Orifcio:
Limites:
Dimetro do elemento primrio
Limites:
Dimetro interno da tubulao
Limites:

Limites:
Nmero de Reynolds
Cuidados de Instalao:
Sentido da face
Posio da haste
Posio das tomadas em relao ao tipo de fluido
Encaminhamento das linhas de impulso
Selagem
Purga
Comprimento de trechos retos a montante e jusante
Cuidados de Instalao:
Os medidores de presso diferencial devem ser instalados o
mais prximo possvel das tomadas de presso, para melhorar
a velocidade de resposta e evitar problemas com o
encaminhamento das linhas de impulso.
Os dimetros internos das duas linhas de conexo (tomadas de
impulso) devem ser iguais. Normalmente tubing de
polegada.
H vrias montagens diferentes em funo do estado fsico do
fluido e de suas caractersticas:
Fluido limpo ou sujo
Fluido corrosivo ou no
Gs com ou sem condensado
Posio das tomadas:
Posio das tomadas:
Quando as tomadas esto na parte inferior do flange, qualquer
slido em suspenso pode entupir as tomadas.
Quando as tomadas esto na parte superior da tubulao,
qualquer gs dissolvido pode gerar erros e distrbios na medio
Para a localizao das tomadas de processo no flange utiliza-se,
como regra geral, para tubulaes horizontais:
Gs/Vapor: Tomadas Superiores
Lquido: Tomadas Inferiores
Posio das tomadas:
Selagem:
Para fluidos que solidifiquem na temperatura ambiente, as
tomadas de impulso devem ser traceadas;
Os lquidos corrosivos devem ser mantidos afastados do elemento
secundrio.
Para evitar esse contato, so utilizados os lquidos de
selagem, com instalao de potes ou ts de selagem.
O lquido de selagem no pode se misturar nem reagir com
o fluido do processo.
Pode ser utilizado tambm, um diafragma de selagem, onde
nesse caso, o material do diafragma deve ser resistente ao
lquido corrosivo.
Selagem:
Transmissor diferencial de presso:
Purga:
Se o fluido de processo no puder entrar em contato com o
medidor de presso diferencial devido a problemas de sujeira,
sedimentos, solidificao ou entupimento do fluido de processo
nas linhas de conexo, so usados flushing ou purga.
Comprimentos de trechos retos a montante e
jusante:
Correo de medio e compensao de presso,
temperatura e peso molecular:

P D
C Q
real

=
. 2
.
4
.
1
. .
2
2
2
P fator Q
medido
= .
( )
projeto
geometria C f fator
@
, , , =

proj real
proj real
proj real
C C
@ @
@ @
@ @


Correo de vazo volumtrica:
P
C
C
fator Q
real
proj
proj
real
proj
real
real
= . . . .

( ) PM T P f , , =
P
PM P
T
T
PM P
C
C
fator Q
real real
real
proj
proj proj
proj
real
proj
real
real
= .
.
.
.
. . .

Correo de vazo mssica:


P
C
C
fator W
proj
real
proj
real
proj
real
real
= . . . .

P
PM P
T
T
PM P
C
C
fator W
proj proj
proj
real
real real
proj
real
proj
real
real
= .
.
.
.
. . .

Aplicaes:
- Lquidos: polidutos
- Gases: fechamento de balano, faturamento
Correo de vazo em Nm
3
/h:
[ ]
[ ]
[ ]
normais
m kg
h kg W
h Nm Q
@
3
3
/
/
/

=
P
PM P
T
T
PM P
C
C
fator Q
real proj
proj
real
proj real
proj
real
proj
real
real
= .
.
.
.
. . .