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Alice Leonel Carolinne Ramalho Hugo Leonardo Nascimento Luana Carolino Patrcia Alves
Recobrimento
Tambm conhecido como dividido em: Revestimentos metlicos; Revestimentos no metlicos. revestimento
Revestimentos Metlicos
Finalidade:
Decorativa; Resistncia ao atrito; Resistncia a oxidao; Endurecimento superficial; Resistncia a corroso.
As camadas formadas conferem ao material proteo de natureza mecnica (desgaste), qumica (corroso) e fsica (calor e eletricidade) e so mais empregadas no zinco, alumnio, estanho, chumbo, cobre, cromo, nquel, lato, ao inoxidvel, entre outras. As tcnicas de asperso tcnica so classificadas principalmente pela fonte de calor utilizada no processo.
Aluminizao, revestimento do ao em banho de alumnio puro ou liga com 5 a 10% de silcio a temperatura de 650 C. Obtm-se uma camada intermediria de liga AlFe ou AlSi-Fe. A camada exterior apresenta a resistncia corroso do alumnio, resiste a temperaturas de 510-670 C (AlSi). A pea apresenta as propriedades fsicas e mecnicas do ao.
Mtodos qumicos: tratamento do Al com solues de dicromato ou cromato em presena de carbonato, a quente. Camada resultante com grande aderncia, pouca elasticidade e suporta a aplicao de primer e pintura.
Mtodos eletrolticos: metal base colocado no anodo de uma cuba eletroltica em presena de soluo adequada. Camada com boa aderncia, pequena elasticidade, resistente a corroso e ao desgaste.
Peas cromatizadas.
Processo PVD
Tcnica de deposio de finos filmes metlicos ou cermicos atravs da vaporizao destes materiais em cmeras especiais. Material de revestimento slido evaporado ao mesmo tempo em que se introduz um gs reativo (N2 ou gs que contenha carbono) na cmera; Ocorre formao de um composto com vapor metlico;
Processo PVD
O vapor se deposita na ferramenta na forma de um revestimento fino e altamente aderente; Temperatura do processo: entre 150 C e 500 C; Aplicam-se TiN, TiCN e TiAlN.
Figura 1 Inserto recoberto com filme TiN depositado por processo PVD.
Processo PVD
Processo CVD
Consiste em depositar material slido a partir de uma fase gasosa. O substrato colocado em um reator que recebe alimentao de gases; Ocorre reao qumica entre os gases; O produto da reao um material slido que condensa sobre todas as superfcies dentro do reator, formando a pelcula de revestimento.
Processo CVD
Geralmente ocorre em temperaturas bem mais elevadas (900C a 1000C). Usado para aplicar TiN, TiCN e Al2O3 (barreira trmica).
Processo CVD
Figura 3 Revestimento multicamada produzido por CVD, constitudo de TiN (camada externa), a- Al2O3 (camada intermediria) e TiCN (camada interna). Foto de ferramenta Sandvik Coromant.
Referncias
GENTIL, V. Corroso. 3 Rio de Janeiro: Abdr, 1996. 345 p. PINEDO, C.E. Tratamentos superficiais para aplicaes tribolgicas. Disponvel em: http://www.pmt.usp.br/academic/antschip/Cad erno%20final.pdf . Acesso em : 13 abril 2013.