MTODOS DE FABRICACIN

SISTEMAS PTICOS
PROF. GUILLERMO RIVERO

WILSON ACUA
LILLIANA BARRERO CASTRO
JOSEPH HERNNDEZ
JAVIER SOTO

TCNICAS DE DEPOSICIN DE VAPOR
Son los ms empleados en la actualidad y los que permiten una mayor
versatilidad de fabricacin, ya que con ellos pueden obtenerse fibras de
salto de ndice y de ndice gradual.
Deposicin qumica modificada en fase de vapor (MCVD).
Deposicin qumica en fase de vapor activada por plasma (PCVD).
Deposicin externa en fase de vapor (OVD).
Deposicin axial en fase de vapor (VAD).

DEPOSICIN EXTERNA EN FASE DE
VAPOR (OVD)
Las siglas OVD vienen de su significado en ingls, Outside Vapor
Deposition. La manufactura de ste tipo de proceso consiste en 3
pasos: deposicin o exposicin, consolidacin y extraccin.

Deposicin: en este paso, una preforma de holln se hace de vapores
ultra puros a medida que viajan por el quemador de desplazamiento y
reaccionan con la llama, para formar partculas de holln, de slice y
germanio.

Los vidrios del ncleo y del revestimiento se depositan en forma de
vapor en torno a una varilla receptora giratoria para obtener una
preforma de holln. El material del ncleo es depositado primero,
seguido por el revestimiento de slice puro. Como ambas materias
puras (ncleo y revestimiento) se depositan por vapor, la preforma
entera se vuelve totalmente sinttica y extremadamente pura.


Consolidacin: una vez terminado el proceso anterior, la varilla se
remueve del centro de la preforma porosa y la preforma se coloca en
un horno. Durante el proceso de consolidacin, el vapor de agua es
eliminado de la preforma. Este paso se realiza a una alta temperatura
para que la preforma se convierta en un slido, denso y transparente.
Extraccin: la preforma de vidrio terminado se coloca en una torre de
extraccin y se estira en una hebra continua de fibra de vidrio.

La pieza en bruto de vidrio (preforma calentada) se baja en la parte
superior del horno de extraccin. La punta de la pieza en bruto se
calienta hasta que un pedazo de vidrio fundido, llamado un GOB
(hebra de la fibra ptica), comienza a caer como un caramelo
caliente, lo que da comienzo a la fibra ptica.
El gob es cortado y se empieza a enroscar en unos tractores
controlados por computadoras y estirados. El dimetro se controla
con precisin por medio de la velocidad de los tractores.

MTODO VAD
(DEPOSICIN AXIAL EN FASE DE VAPOR)
Este mtodo se desarroll en los ltimos aos en los laboratorios de
la NTT de Ibaraki, Japn. En este mtodo la preforma crece en
direccin axial, mediante la deposicin de finas partculas de vidrio
sintetizados en la fase de vapor. Como el crecimiento es axial el
mtodo resulta ser continuo, si se desea realizar la preforma y el
estirado en una misma lnea de produccin.
La preforma porosa tiene un dimetro de 50 a 70mm, mientras la
preforma transparente, luego de la consolidacin tiene 20 a 30 mm.
Con valores as las fluctuaciones de dimetro estn en el orden del
1% y las desviaciones de circularidad de 0,05%. El largo medio de la
preforma suele ser de 50 a 80 cm.
PASOS DE ESTE PROCESO
PREPARACIN DE RODILLO SUSTRATO
El rodillo sustrato, generalmente de slice, es sujeto verticalmente
sobre el equipo. El dimetro de ste coincide con el dimetro de la
futura preforma consolidada.
DEPOSICIN
Los quemadores contienen una mezcla de gases para prevenir daos en los
quemadores.
Para la fabricacin de fibras monomodo generalmente se utilizan 2
quemadores: uno para la deposicin del ncleo y otro para la del
revestimiento. Para las fibras multimodo un quemador es suficiente, pero
varios quemadores aumentan la velocidad de deposicin.
Para realizar un perfil de ndice de refraccin especifico es necesario tener
controlar cuidadosamente los siguientes parmetros: la estructura de la
llama del quemador, la posicin, la temperatura de la flama, la distancia de
la misma con respecto del rodillo, la relacin H2/O2, la forma de la
preforma, la calidad de la materia prima, la temperatura en la superficie de
la preforma
DESHIDRATACIN
Han sido identificadas cuatro fuentes de contaminacin de la
preforma. Para poder eliminar los posibles contaminantes OH de la
preforma es necesario realizar un proceso de deshidratacin .
A una temperatura de 900-1350C. El tiempo total de este proceso es
de aproximadamente 90 minutos.
CONSOLIDACIN
La preforma se transforma en una homognea y transparente
mediante este proceso. Se reduce la preforma a 1/8 de su volumen
original.
Esta etapa puede realizarse en la misma cmara que la
deshidratacin.

ELONGACIN
Una vez consolidada la preforma, cuyo dimetro exterior es ahora de
25 mm es elongada hasta que este sea aproximadamente de 10 mm.
Este paso en necesario junto con el de overcladding, para ajustar
precisamente la relacin ncleo/revestimiento deseada.
OVERCLADDING
Este paso, como fue descripto en el proceso MCVD, es usual en este
tipo de proceso.
CARACTERIZACIN DE LA PREFORMA
proceso de produccin de preformas donde puede visualizarse como
la llama es aplicada en la parte inferior del rodillo producindose la
deposicin de las partculas de dixido de silicio dopado y el
consecuente crecimiento horizontal de la preforma que luego ser
sometida al secado y posterior sinterizado.
MCVD (DEPOSICIN MODIFICADA DE
VAPOR QUMICO)
Este proceso fue desarrollado por Bell Lababoratories en 1974 y
mejorado por diversos laboratorios de todo el mundo.
El proceso comienza a partir de un tubo de silicio fundido de 96
porciento de pureza cuyas dimensiones, en general, son de
aproximadamente 25 mm de radio exterior y 19 mm de radio interior y
1000 mm de longitud. Que contiene menos de 130 ppm de OH.
El tubo es colocado en una bancada y se lo hace girar, mientras los
reactantes pasan por el interior del tubo acompaados por un gas
transportador
El calor se aplica exteriormente mediante uno a ms quemadores de
gas oxgeno o H2/O2 que se desplazan lateralmente calentando el
tubo.


Clasificacin del tubo: El tubo es medido en todas sus dimensiones,
sus extremos, ovalidad, etc.
Limpieza del tubo: El tubo, generalmente, es sometido a un proceso
de desengrase y a una lluvia
cida para removerle cualquier impureza o vestigio que se encuentre
incrustado en la superficie.
Presentacin del tubo: el tubo es ajustado y alineado precisamente
en el sujetador de la bancada donde va a ser trabajado. Es necesario
tener gran cuidado en esta tarea y asegurarse que el tubo quede libre
de estrs utilizando una articulacin. La conexin con el sistema de
alimentacin de gas debe ser ajustada fuertemente para evitar
escapes
Calentamiento: Esta etapa consiste en hacer correr el quemador a lo
largo del tubo calentndolo hasta una temperatura de 2000C. El
quemador es monitoreado por una computadora que recoge datos de
distintos sensores y regula la temperatura con un error de 1C. Este
bao de calor sirve para homogeneizar la preforma y eliminar el resto
de las impurezas que hayan quedado en el tubo.
Deposicin: una vez acondicionado el tubo, el programa de
deposicin puede empezar. Primero, es necesario que el tubo se
encuentre calentado. Luego pequeas capas de slice pura de 10 a
15 mm son depositadas en el interior del tubo.
Estas capas previenen la fuga de OH desde el tubo substrato hasta la
parte central de la futura fibra, donde causara grandes aumentos de
prdida.

Este proceso desde un punto de vista fsico-qumico incluye varias
reacciones.
SiCl4 + O2 SiO2 + 2 Cl2
Consolidacin: luego de finalizar la deposicin es necesario realizar
la consolidacin mediante el sinterizado.
En MCVD, este paso se realiza simultneamente luego de la
deposicin por el barrido del quemador a lo largo del tubo. Se debe
tener mucha precaucin ya que una mala consolidacin (o un exceso
en la temperatura de deposicin)provocara burbujas en la fibra de
vidrio. Generalmente, la temperatura de este proceso vara entre
1500 1800 C.
Colapso: la fase de colapso sirve para dar lugar a un cilindro macizo
de vidrio de aproximadamente 1 cm de dimetro a partir del tubo
consolidado. En MCVD, el proceso de consolidacin de la preforma
puede ser dejado de lado y realizar el proceso de colapsado en la
misma bancada (o no). Dejando pasar el quemador unas seis veces a
lo largo de la preforma es suficiente para colapsarla. La temperatura
de colapso es entre 1900-2100C.
MTODOS CON PLASMA
Microondas asistida por plasma CVD (MPCVD)
Mejorada por plasma CVD (PECVD) - procesos que utilizan CVD de plasma.
para mejorar la tasa de reaccin qumica de los precursores procesamiento
PECVD permite la deposicin a temperaturas ms bajas, lo cual es a menudo
crtico en la fabricacin de semiconductores.
Remoto mejorada por plasma CVD (RPECVD) - Similar a PECVD excepto que
el sustrato (oblea) no est directamente en la regin de descarga de plasma. La
separacin de la oblea de la regin del plasma permite procesar menores
temperaturas hasta la temperatura ambiente.

MTODO PCVD [DEPOSICIN DE VAPOR
QUMICO ACTIVADO POR PLASMA ]

Este mtodo es una variante del MCVD desarrollado por los
laboratorios de la Philips (1976).
El proceso es muy similar al MCVD, pero en el tubo para la preforma se
coloca una bola de plasma que va movindose a gran velocidad.
Los pasos de Clasificacin, Limpieza, Presentacin,
Calentamiento y Colapsado son los mismos descriptos en el
proceso anterior. La diferencia principal, y ventaja, de este mtodo
comparado con el MCVD es que un no isothermal plasma inicia una
reaccin heterognea en la pared interior del tubo. Gracias a este
plasma se evita la formacin de soot porque se trabaja con
temperaturas ms bajas. PCVD es un proceso de baja temperatura.
La eficiencia de la deposicin del SiO2 es casi 100% y la del GeO2
85%.
El mtodo parte de un tubo de slice por el cual circulan los
reaccionantes bombeados por una bomba de vaco y transportados por
02. El tubo se encuentra inmerso en una cavidad resonante mvil de
microondas, conectado a un generador de 2 o 3 GHz y de 100 a 500w.
El tubo de slice se lo hace rotar para obtener la simetra adecuada. La
reaccin de deposicin tiene lugar an a temperatura ambiente, pero
en este caso el vidrio resulto agrietado. A fin de evitar esto se mantiene
el sistema a 1300k por medio de una resistencia de calentamiento.
La mayor ventaja del mtodo PCVD frente al MCVD es la elevada
reaccin del movimiento y la falta de inercia trmica del plasma que
produce la reaccin.
Otra ventaja sobre MCVD consiste en obtener fibras con un perfil ms
gradual para el ndice de refraccin, mientras que en el MCVD sigue
habiendo ciertos escalones.
GRACIAS