Maquinado Qumico

Luis Francisco Herrera Ruiz 00032412

Rodrigo Jos Mena Serrano 00005012
Francisco Mauricio Gallego Guadron 00013112
Mario Alfredo lvarez Medina 00109412
Rodrigo Girn Batarse 00043712
 Introduccin
El maquinado qumico (CHM)es un proceso no tradicional en el que ocurre una remocin de material
mediante el contacto con sustancias de accin qumica fuerte.
Es importante hacer notar que no intervienen fuerzas, ni herramientas como ocurre en las tcnicas
convencionales.
Las aplicaciones de este proceso comenzaron poco despus de la Segunda Guerra Mundial en la aeronaves.

Esquema general sobre maquinado qumico [1]

 Mecnica y Qumica del maquinado
El proceso de maquinado qumico consta de varios pasos:

1- Limpieza: asegura que el material se remueva de forma uniforme de las superficies que se van a atacar.
2- Enmascarado: recubrimiento protector resistente al material de ataque.
3- Ataque qumico: paso de remocin de material.
4- Desenmascarado el protector se retira de la pieza

Inspeccin de limpieza del material de trabajo. [2]

 Enmascarado

Los materiales protectores incluyen el neopreno, cloruro de polivinilo, el polietileno entre otros polmeros.

La proteccin se consigue por alguno de estos tres mtodos:

1) Corte y desprendimiento: aplicacin de protector en toda la pieza de trabajo por inmersin recubrimiento o
roco y se desprende manualmente las partes de la superficie que sern atacadas qumicamente.

2) Resistencia fotogrfica: se recubre con materiales qumicos fotosensibles. Utilizado solo para piezas
pequeas en grandes cantidades.

3) Resistencia de pantalla: se aplica mediante mtodos de serigrafa, utilizando una malla de seda o acero
inoxidable.

Enmascarado por corte y desprendimiento [2]

 Ataque qumico

El material de trabajo se convierte en una sal que se disuelve en un material de ataque qumico, y
posteriormente se remueve de la superficie y se enjuaga para detener el proceso.

La eleccin del material de ataque depende del material de trabajo a atacar, profundidad y velocidad de
remocin de material deseada, as como los requerimientos de acabado superficial.
 Tipos de maquinado qumico
Los principales procesos de maquinado qumico son los siguientes:
1. Fresado qumico
2. Preformado qumico
3. Grabado qumico
4. Maquinado fotoqumico
 Fresado qumico
Fue el primer proceso de CHM.
Durante la Segunda Guerra Mundial una compaa de Estados Unidos lo empez a utilizar para remover el
metal de componentes de las aeronaves.
En la actualidad, en esta misma industrial se utiliza para retirar material en paneles de alas y fuselaje con el
propsito de reducir el peso.
El mtodo es aplicado a piezas grandes de las que se le retiran cantidades sustanciales de metal durante el
proceso.
 Fresado qumico

El fresado qumico produce un acabado superficial.

Conforme aumenta la profundidad empeora el acabado, acercndose a los limites superiores que proporciona
la tabla.
 Preformado qumico
Usa la erosin qumica para cortar piezas de laminas metlicas muy delgadas con un espesor de hasta
0.025 mm o para patrones de corte complicados.
El preformado qumico produce piezas sin rebaba y aventaja a otras operaciones convencionales (perforado y
troquelado)
Los mtodos que se usan para aplicar el protector en el preformado qumico son :
1. Fotorresistencia
2. Resistencia de pantalla
Fotorresistencia Para patrones de corte pequeo o complicados as tambin para tolerancias estrechas.
 Preformado qumico
Resistencia por pantalla -Para patrones complicados y tolerancias no estrechas.

La aplicacin del preformado se limita a materiales delgados o patrones complicados.

El grosor mximo de la materia prima es de 0.75mm.
 Grabado qumico
Es un proceso de maquinado para hacer placas con nombres y otros paneles planos que tienen letras o
dibujos en un lado.
Se usa para hacer paneles con letras bajo relieve o alto relieve.
La sucesin de pasos del grabado qumico es parecida a todos los CHM excepto que despus de el
ataque con material qumico se hace una operacin de rellenado.

El propsito del rellenado es aplicar pintura u otra proteccin en las reas hundidas formadas por el
material de ataque qumico.
 Maquinado Fotoqumico

En este proceso se utiliza el mtodo de ferroresistencia para enmascarar.

Se emplea en procedimientos de metales cuando se necesitan tolerancias cerradas o patrones complicados sobre
piezas planas.
Los procesos fotoqumicos tambin se usan ampliamente en la industria de la electrnica para producir diseos
de circuitos sobre tarjetas semiconductoras.
Variables Relevantes
Velocidad de remocin de material
Profundidad de corte
Seleccin de material de ataque
Socavado
Material de proteccin
Geometra de la pieza
Ventajas y Desventajas del CHM
Ventajas Desventajas
Fcil reduccin de peso. Difcil maquinado para
No afecta las propiedades esquinas.
de la pieza de trabajo. Difcil mecanizar grosores
Se pueden llevar a cabo mayores a 10mm.
varias operaciones de Precisin limitada.
eliminacin de material Los reactivos son
del mismo. peligrosos.
No hay formacin de Las irregularidades
rebabas. superficiales son
Fcil y rpidamente reproducidas durante el
adaptable a los cambios fresado.
de diseo. La calidad superficial
Bajas tasas de desecho. depende de la
Posibilidad de maquinado profundidad de
de contornos complejos. penetracin.
Buen acabado superficial.

Productos
Empresas
 Investigaciones
Se hallo un articulo publicado en Elsevier,
Investigacin experimental en el maquinado qumico de aleaciones a base de nquel y titanio para componentes
aeronuticos
Bibliografa