Министерство образования и науки Российской Федерации

ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ АВТОНОМНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО

ОБРАЗОВАНИЯ

“САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКИЙ НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ

УНИВЕРСИТЕТ ИНФОРМАЦИОННЫХ ТЕХНОЛОГИЙ,
МЕХАНИКИ И ОПТИКИ”

Факультет ПИИКТ

Лабораторная работа №3
по дисциплине «Метрология, стандартизация и сертификация»
на тему «Обработка экспериментальных данных по определению
времени проявления фоторезиста в технологии фотолитографии на
основе регрессионного анализа»
Вариант 14

Выполнила студент группы P3401

Федотова Маргарита

Проверила: Рассадина А.А.

Санкт-Петербург
2021
Задание
Требуется определить коэффициенты регрессии полинома первого порядка,
описывающего модель проявления фоторезиста в технологии фотолитографии.
Время появления фоторезиста T псогласно варианту описано в таблице 1. Факторы
эксперимента представлены в таблице 2.
Таблица 1. Результаты измерений
Номер опыта 1 2 3 4
T п, c 24 71 27 20

Таблица 2. Факторы эксперимента и их уровни варьирования

Фактор Нулевые уровни варьирования Интервалы варьирования
Толщина фоторезиста H0=0,45 мкм ΔН=0,1 мкм
Время экспонирования Тэ0=145 с ΔТэ=60 с
Концентрация щелочи в
F0=0,6% ΔF=0,2%
проявителе

Выполнение
Модель проявления фоторезиста записывается в виде уравнения 1:
T п=a 0+ a1 h+a2 t э +a 3 f ( 1 )

где t э – время экспонирования, h - толщина фоторезиста, f – концентрация щелочи в

проявителе. Все три величины выражены в относительных единицах.
Выполняется планирование дробно факторного эксперимента, матрица планирования
эксперимента представлена в таблице 3. Все три фактора варьируются в зависимости от x i,
где i изменяется от 1 до 3. Далее значения факторов кодируются согласно формуле 2.
x i−x i 0
x iб = (2)
∆ xi

Таблица 3. Матрица планирования

Номер опыта x1 x2 x3 yn
1 -1 -1 +1 24
2 +1 -1 -1 71
3 -1 +1 -1 27
4 +1 +1 +1 20

Согласно полученной матрице планирование требуется определить коэффициенты

регрессии по формулам 3 и 4.
N

∑ yn
a 0= n=1 , N=4(3)
N
 N

∑ x¿ yn
a i= n=1 , N =4 (4 )
N

Рассчитанные коэффициенты регрессии:

a 0=35.5 с

a 1=10 с

a 2=−12 с

a 3=−13.5 с

Тогда уравнение 1 представляется в виде:

T п=35.5+10 h−12t э −13.5 f

Вывод
В ходе выполнения лабораторной работы были определены коэффициенты регрессии
полинома первого порядка для модели проявления фоторезиста в технологии
фотолитографии. Коэффициенты были определены на основании дробного факторного
экперимента. Это активный эксперимент, так как в нем варьировались все независимые
переменные.
Наибольшее влияние на время проявления модели оказывает концентрация щелочи в
проявителе. Ее коэффициент по модулю больше чем у остальных факторов. Наименьшее
влияние оказывает толщина фоторезиста.
Направление влияния фактора зависит от знака при коэффициенте. Если коэффициент
положителен, то с ростом значения фактора вырастет и выходное значение. Если
коэффициент отрицателен, то выходное значение будет уменьшаться. Для рассмотренного
эксперимента увеличение толщины фоторезиста приводит к увеличению времени
проявления модели, а увеличение времени экпонирования и концентрации щелочи
наоборот уменьшает время проявления.