Академический Документы
Профессиональный Документы
Культура Документы
УДК 537.525.7+621.762
Проведен анализ математических моделей высокочастотного емкостного (ВЧЕ) разряда. Показана необхо-
димость включения уравнений, учитывающих перенос энергии электронами и тяжелыми частицами, и ба-
лансных уравнений для концентрации метастабильных атомов.
The analysis of mathematical models of capacitive coupled radio-frequency discharge is carried out. The necessity of
the adding of equations that take into account the transfer of energy by electrons and heavy particles, and balance
equation of metastable atoms.
9
Здесь ne, n+ - плотности потоков электронов и ио- поднормальном режиме поперечной структуры раз-
нов, Ge, G+ - плотности потоков электронов и ионов, ряда на катоде в виде многих пятен. Показано что
соответственно, причем в них учитываются только разряд с многими пятнами является трехмерным, а
дрейфовые составляющие ( Ge ne e E , не двумерным объектом
В [20] приводятся результаты численного
G n E ), напряженность электрического поля
моделирования тлеющего разряда в азоте в двумер-
E , e -заряд электрона, e , и De , D - ной постановке для широкого диапазона давлений и
коэффициенты подвижности и диффузии электро- токов. Показано существование стационарных
нов и ионов, β – коэффициент электронной реком- анодных пятен с нормальной плотностью тока. Ана-
бинации, частота ионизации считается завися- лизируются влияние диффузионных процессов на
i параметры анодного сдоя. Приведенные результаты
щей от мгновенного поля и выражается через иони- соответствуют модели с осесимметричной геомет-
зационный коэффициент Таунсенда α согласно со- рией. Для более адекватного описания пространст-
отношениям ne Ge . венных неоднородностей использована нестацио-
i
нарная модель разряда (1)–(3) учитывающая как
Граничные условия у поверхности электро- поперечные, так и продольные составляющие диф-
дов или изолирующих их диэлектриков ставятся в фузионных процессов, то есть
зависимости от направления поля: Ge De ne ne e E, (5)
G G , если поле направлено в электрод; G D n n E, (6)
e
G 0 , если поле направлено от электрода. В качестве граничных условий на боковых
поверхностях и оси симметрии в квазинейтральной
Здесь - коэффициент ион-электронной эмиссии с
плазме ставятся условия непротекания ионного и
поверхности катода. В плазме задается ток электронного токов (4). На аноде ставятся условия
j ja cos t , связанный c n и E посредством x
j 0, G x 0, ne G x ,
уравнения ионизационно-рекомбинационного рав- где - единичный вектор в направлении внешней
новесия e E n . Здесь плазма предполагается нормали на рассматриваемых поверхностях и
квазинейтральной ne=n+=n. -1/ 2
Плазма ВЧЕ-разряда во многом подобна
плазме тлеющего разряда. В работе [19] представле-
2 8kTe
2 1 p
ne
,
11
Плотность потока энергии записывается в n G
виде ne Nk ne n k kmp n 2 ;
t x i * si *
ne e уравнение баланса метастабильных атомов:
G ne e e E De ,
x n G
где L(ε) – член, учитывающий потери энергии и за- * * n Nk k n 2 n Nk
t x e ex mp * e 2q
висящий от локальной средней энергии электронов
таким же образом, как и при равновесных условиях ne n (k ksc kr ) k N 2n ;
* si 3q *
(L(ε)= eμeE2).
Для положительных ионов: уравнение баланса электронной температуры:
n G 3k neTe qe
ne ( n ) n n , eGe E H R 0 .
t x i ( i i ) n 2t x j j j
а для отрицательных ионов Здесь ki, ksi, kmp,kex ,ksc,kr, k2q, k3q -константы со-
nn Gn
ne a n n nn . ответствующих процессов,Hj - количество энергии
t x ( i i ) n d
выделяемой или затраченной в соответствующем
n процессе, Rj есть численное значение соответ-
Здесь Gn Dn n nn n E, и соответственно
x ствующего процесса при j=i, si, mp, ex, sc, r, 2q,
Dn , n - коэффициент диффузии и подвижность 3q, плотности потоков заряженных частиц опреде-
ляются согласно (5), (6); плотность потока метаста-
отрицательных ионов,
( i i )
- коэффициент ион- бильных атомов
ионной рекомбинации . n
G D *,
Уравнение Пуассона для электрического * * x
потенциала записывается в виде:
плотность потока энергии
2 e T 5
2
(n ne nn ) . qe Ke e kTeGe ,
x x 2
0
Используются следующие граничные усло- коэффициент теплопроводности
вия для потока заряженных частиц и концентраций 5
Ke De ne .
на электродах: 2
Ge= ne vt / 4, Граничные условия задавались в виде:
n+ →0 на электродах, Ge ks ne G , при x 0, L
где vt – тепловая скорость электронов.
Граничные условия для потенциала соот- G n E , при x 0, L
ветствуют заземленному левому электроду (нулевой
потенциал), на правый электрод подается ВЧ на- n 0, Te 0.5 эВ, при x 0, L
*
пряжение. Начальные условия не оказывают значи-
тельного влияния и задаются только начальная тем- 0, при x 0,
пература электронов в эВ и начальная максимальная Va sin ft , при x L.
концентрация плазмы. Алгоритм расчетов основы-
вается на использовании схемы Кранка– Николсона. Здесь Va - амплитуда напряжения.
В работе выделен следующий набор реак-
Модели ВЧЕ- разряда с учетом ций для трехуровневой схемы термов атома аргона:
*
A
r
e
A
r r
e
метастабильных атомов
(i) - возбуждение метастабильного
A
e
A
r
2 A
e *r
Так как концентрация метастабильных ато-
уровня, (si) - прямая ионизация с
мов в аргоне сопоставима с концентрацией заря-
A
r
2
e
e
женных частиц, то сверхупругие столкновения этих основного состояния, (mp)
атомов с электронами приводят к изменению сред- ступенчатая ионизация с метастабильного уровня,
*
r
A
r
e
A
r
e
A
r
A
r
A
r
e
A
r r
2 e
A
r
A
r
A
r
A
r
A
2
ne Ge
ne Nk ne nn k kmp n 2 , .
t ч i si * В работе [36] более подробно рассмотрено
влияние резонансных атомов:
12
r
*
A
r*
e e
A
rr
e e
A
rr
e e
A
r A
e 2
, , атомов и уравнение Пуассона для распределения
A потенциала.
r
A
r
A
r
e
, Работа выполнена при финансовой под-
и упругих соударений частиц друг с другом, всего держке РФФИ (проекты 12-01-00955, 14-01-00755) и
учтено 16 реакций. Минобрнауки РФ (базовая часть госзадания, проект
В работе [37] для аргона учитывались кине- от 01.02.2014 г. № 2196).
тические уравнения для ионов (Ar+, Ar2+) и элек-
тронных возбужденных состояний аргона: связанно- Литература
го метастабильного уровня, связанного резонанст- 1. Р. Оулет, М. Барбье, П. Черемисинофф и др. Техноло-
ного уровня и 3-х вышележащих сосредоточенных гическое применение низкотемпературной плазмы. М.:
уровней, всего учитывалось 26 реакций. Энергоатомиздат, 1983. 144с.
В работе [38] определены абсолютные засе- 2. А.Л. Моссе, Междунар. Науч. конф. «Плазмен. Технол.
ленности метастабильных состояний аргона в плаз- исследования, модификации и получения материалов
ме высокочастотного разряда в атмосфере чистого различной природы» и Междунар. Шк. молодых ученых
и специалистов «Плазмен. Технол. в исслед. и получении
аргона.
новых материалов»: материалы конференции ( Казань,
В работе[39] дана схема нижних электрон- 2012) Изд-во КНИТУ, 2012, С. 16-19.
ных уровней аргона и обозначено уже 32 элемен- 3. И.Ш. Абдуллин, Р.Г. Ибрагимов, О.В. Зайцева
тарных процесса. В.В.Парошин. // Вест. Казан. Технол. Ун-та, 9, 11-16
Программное обеспечение BOLSIG+ версия (2013)
1.2 позволяет считать константы физических про- 4. Г.И. Гарипова., И.Ш Абдуллин, Л.Ю. Махоткина //
цессов для моделей сплошной среды с учетом их Вест. Казан. Технол. Ун-та, 17, 153-155 (2013)
зависимости от приведенной напряженности элек- 5. И.Ш. Абдуллин., Р.Г. Ибрагимов, О.В. Зайцева., В.В.
трического поля (E/N) или (электронной температу- Парошин // Вест. Казан. Технол. Ун-та, 24, 34-37 (2012)
6. И.Ш. Абдуллин, Е.В. Слепнева, В.В. Хамматова //
ры).
Вест. Казан. Технол. Ун-та, 16, 106-109 (2011)
Заключение 7. Т.В. Бурдикова, Междунар. Науч. конф. «Плазмен.
Технол. исследования, модификации и получения мате-
Оценки элементарных процессов в плазме риалов различной природы» и Междунар. Шк. молодых
высокочастотных ВЧ-разрядов пониженного давле- ученых и специалистов «Плазмен. Технол. в исслед. и по-
ния, приведенные в работе, показывают, что мате- лучении новых материалов»: материалы конференции
матическая модель ВЧЕ-разряда пониженного дав- (Казань, 2012), Изд-во КНИТУ, 2012, C. 24-30.
ления может быть удовлетворительно описана в 8. А.Л.Моссе, И.О.Буров, Обработка дисперсионных
приближении сплошной среды. В результате анали- материалов в плазменных реакторах. Минск: Наука и
техника, 1980 – 205 с.
за изложенных математических моделей ВЧЕ-
9. В.ВКудинов, Н.В.Корнеева, Междунар. Конф. «Физ.
разряда пониженного давления установлено, что Высокочастот. разрядов». Междунар. Шк. Мол. ученых
они не дают полного самосогласованного описания и специалистов «Высокочастот. разряд: теория и тех-
состояния плазмы, а в частности не учитывают ряд ника»: материалы конференции (Казань, 2011): Изд-во
факторов приобретающих существенное значение КНИТУ, С. 35.
при изменении характеристик плазмотронов, на- 10. В.В. Рыбкин. Сорос. Образ. Ж., 6, 3, 118-123 (2000).
пример развод электродов на большие межэлек- 11. В.В. Шалимов, Е.Б. Беспалов, Г.А. Зорин,
тродные расстояния. Т.Б.Кандиболотская. .ЖТФ, 63, 9, 185-190 (1993)
Как уже было показано выше в аргоне на- 12. Р.Б. Салихов, А.Н Лачинов, В.М. Корнилов, Р.Г. Рах-
меев. ЖТФ, 79, 4, 131-135 (2009)
личие метастабильных атомов оказывает сущест-
13. А.Х. Зайнутдинов, М.А.Магрупов, ЖТФ, 63, 9, 53-64
венное влияние на процессы происходящие в разря- (1993).
де. Кроме этого при описании свойств низкотемпе- 14. В.Л. Бычков, ЖТФ, 63, 2, 152–159 (1993)
ратурной плазмы, при постоянном давлении, темпе- 15. И.Ш.Абдуллин, В.С.Желтухин, Н.Ф.Кашапов. Высо-
ратура газа является важным параметром, который кочастотная плазменно-струйная обработка материа-
определяет концентрацию тяжелых частиц в объеме. лов при пониженных давлениях. Теория и практика при-
Параметры электронной компоненты плазмы, а менения, Казань: Изд-во Казан. ун-та, 2000, 348 с.
именно средняя энергия электронов, коэффициенты 16. М.Митчнер, Ч.Кругер. Частично-ионизованнные газы.
переноса и коэффициенты скоростей процессов при М.: Мир, 1976, 496 с.
17. А.Е.Дулькин., С.А.Мошкалев, А.С.Смирнов,
электронном ударе зависят от приведенного элек-
К.С.Фролов, ЖТФ, 63, 7, 64-73 (1993)
трического поля. Кроме того, от температуры газа 18. Ю.П Райзер, М.Н.Шнейдер, Н.А. Яценко, Высо-
часто зависят коэффициенты скоростей реакции кочастотный емкостный разряд: Физика. Техника
тяжелых частиц и длину свободного пробега тяже- эксперимента. Приложения. М: Изд-во МФТИ, 1995,
лых частиц [18, 27, 41]. 320 с.
Следовательно для определения диапазона 19. В.А. Швейгерт, ЖТФ, 63, 5, 29-40 (1993).
устойчивого горения ВЧЕ-разряда пониженного 20. Р.Ш. Исламов, ЖТФ, 61, 7, 12-15 (1991)
давления в плазмотроне с большим межэлектрод- 21. Р.Ш. Исламов, ЖВМиМФ, 46, 11, 2065–2080 (2006).
ным расстоянием математическая модель должна 22. Р.Ш. Исламов, О разрешимости диффузионно-
дрейфового приближения в теории газового разряда.
включать в себя уравнения баланса для электронно-
Троицк, 1991, 32 с (НИЦТЛАН 91-81)
го и ионного газа, электронной энергии, энергии 23. Р.Ш. Исламов, ЖВМиМФ, 46, 1, 131–147(2006)
тяжелых частиц, а также баланса метастабильных 24. С.Т. Суржиков. Физико-химическая кинетика в газо-
вой динамике, 7 (2008)
13
25. В.А. Лисовский, Н.Д. Харченко, Вест. Харьк. Нац. Ун- 34. Dimitris P. Lymberopoulos and Demetre J. Economou, J.
та. Сер. Физ.: ядра, частицы, поля. 887, 1(45), 81-87 Appl. Phys., 73, 8, 3668–3679 (1993).
(2010). 35. Е.А. Богданов., А.А. Кудрявцев., Л.Д. Цендин., Р.Р.
26. А.Н. Ткачев, А.А Феденев, С.И. Яковленко, ЖТФ, 77, Арсланбеков, В.И. Колобов, В.В. Кудрявцев, ЖТФ, 74,
6, 22-27 (2007) 6, 35–42 (2004).
27. Ю.П. Райзер, Физика газового разряда. Долгопрудный: 36. L Lauro-Taroni, M M Turner and N StJ Braithwaite ,J.
Изд. дом «Интеллект», 2009. – 736 с Phys. D: Appl. Phys. 37, 2216–2222(2004)
28. J.P. Boeuf, L.C. Pitchford, Phys. Rev. E, 51, 2, 1376- 37. I. L. Epstein, M. Gavrilović, S. Joviґcević, N. Konjević,
1390 (1995) Yu. A. Lebedev, A. V. Tatarinov. Eur. Phys. J. D , 68, 334,
29. SIGLO-RF v.1.0. KINEMA SOFTWARE & CPAT. 1995. (2014)
http://www.kinema.com 38. Б.Т. Байсова, В.И. Струнин, Н.Н. Струнина,
30. Л.С. Полак, Г.Б.Синярев, Д.И. Словецкий и др. Химия Г.Ж. Худайбергенов, ЖТФ, 73, 8,30–33.( 2003)
плазмы. Под редакцией Л.С. Полак и Ю.А. Лебедев. 39. Н.А. Дятко, Ю.З. Ионих, А.В. Мещанов, А.П. Напар-
Новосибирск, »Наука»,1991-325с. тович, Физика плазмы. Т. 31, 10,939–953 (2005).
31. Ю.А. Лебедев, Высокочастотный разряд в волновых 40. G. J. M. Hagelaar and L. C. Pitchford, Plasma Sources
полях: материалы конференции, (Самара, 1990), 25-62. Sci. Techn., 14, 722-733 (2005).
32. E. Karoulina, Yu. Lebedev, J .Phys. D: Appl.Phys., 25, 41. И.Ш. Абдуллин, В.С. Желтухин, В.Ю., Чебакова, М.Н.
401-412 (1992) Шнейдер, Уч. Зап. Казан. Ун-та. Сер. Физ.-мат. науки,
33. Б. М. Смирнов, УФН, 133, 4, 569-616. 155, 2, 123–130 (2013).
_____________________________________________
© И. Ш. Абдуллин – д.т.н., проф., зав. каф. ПНТВМ КНИТУ, abdullin_i@kstu.ru; В. С. Желтухин – д.ф.-м.н., г.н.с. каф.
ПНТВМ КНИТУ, vzheltukhin@gmail.com; В. Ю. Чебакова – асс. каф. мат. статистики КФУ, vchebakova@mail.ru.
© I. Sh. Abdullin – Dr.Sci., Prof., Chief of the Plasma Technology and Nanotechnology of High Molecular Weight Materials of
Kazan National Research Technological University, abdullin_i@kstu.ru; V. S. Zheltukhin – Dr.Sci., chief researcher of the Plasma
Technology and Nanotechnology of High Molecular Weight Materials of Kazan National Research Technological University,
vzheltukhin@gmail.com; V. Yu. Chebakova – lecturer of Chair of Mathematical Statistics Department of Kazan Federal University,
vchebakova@mail.ru.
14