Открыть Электронные книги
Категории
Открыть Аудиокниги
Категории
Открыть Журналы
Категории
Открыть Документы
Категории
НАНОЭЛЕКТРОНИКА
Состояние и перспективы
« »
2012
УДК 621.396.4:681.33(075.8)
ББК 32.85 73
И26
Рецензенты:
доц. МТУСИ Копылов А.М.
доц. НГТУ Серых В.И.
Игнатов . .
26 Наноэлектроника. Состояние и перспективы развития [
] : чеб. пособие / . . .— .: , 2012. — 360 .
ISBN 978-5-9765-0174-4
УДК 621.396.4:681.33(075.8)
ББК 32.85 73
3
НАНОТЕХНОЛОГИЧЕСКОЙ СЕТИ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ ...................................... 95
4.1. Состояние и перспективы развития наноиндустрии в Российской Федерации .............. 95
4.2. Цель реализации Концепции развития ................................................................................ 96
4.3. Состав и основные направления деятельности национальной и нанотехнологической
сети (ННС) ..................................................................................................................................... 97
4.4. Задачи, решаемые в рамках Концепции .............................................................................. 99
4.4.1 Исследовательско-технологическая основа (ИТО) ......................................................... 100
4.4.2. Научно-образовательная и кадровая основа ................................................................... 100
4.4.3. Информационно-коммуникационная основа .................................................................. 101
4.4.4. Организационная основа................................................................................................... 102
4.4.5. Правовая основа ................................................................................................................. 103
4.5. Программно-целевое развитие наноиндустрии в России ................................................ 103
4.6. Корпорация «РОСНАНОТЕХ»........................................................................................... 105
ГЛАВА 5. ВОЕННО-ПОЛИТИЧЕСКИЕ АСПЕКТЫ СОЗДАНИЯ НАНОПРОДУКЦИИ И
СИСТЕМ СПЕЦИАЛЬНОГО НАЗНАЧЕНИЯ ........................................................................... 109
5.1. Общие сведения ................................................................................................................... 109
5.2. Наноугрозы и риски ............................................................................................................ 110
5.3. Роль наноиндустрии в обеспечении национальной безопасности ................................. 111
5.4. Реализованные проекты специального назначения с использованием
нанотехнологий .................................................................................................................... 112
5.5. Перспективные проекты специального назначения с использованием
нанотехнологий………………............................................................................................114
5.5.1. Проект «Умная пыль» ....................................................................................................... 115
ГЛАВА 6. СОСТОЯНИЕ И ПЕРСПЕКТИВЫ РАЗВИТИЯ ...................................................... 118
ЭЛЕКТРОННОЙ ПРОМЫШЛЕННОСТИ .................................................................................. 118
6.1. Общие сведения ................................................................................................................... 118
6.2. Полупроводниковые приборы ............................................................................................ 118
6.3. Персональные компьютеры ................................................................................................ 119
6.4. Электронная промышленность в средствах связи ............................................................ 120
6.5. Современное состояние электронной промышленности ................................................. 120
6.5.1. Мировые лидеры по производству электронной продукции ........................................ 121
6.5.2. Состояние электронной промышленности в России ..................................................... 122
6.5.3. Признаки возрождения электронной промышленности в России ................................ 125
6.5.4. Перспективы развития электронной промышленности в России ................................. 127
ГЛАВА 7. ВИДЫ НАНОТЕХНОЛОГИЙ И ПЕРСПЕКТИВЫ ПРОИЗВОДСТВА
НАНОЭЛЕКТРОННЫХ ИЗДЕЛИЙ ............................................................................................ 129
7.1. Общие сведения ................................................................................................................... 129
7.2 Основы кремниевой технологии ......................................................................................... 130
7.2.1. Кристалическое строение и зонная структура полупроводников ................................ 130
7.2.2. Понятие о групповом методе изготовления электронных приборов ........................... 133
7.2.3. Планарная технология ....................................................................................................... 134
7.2.4. Пленочная и гибридная технология................................................................................. 134
7.2.5. Полупроводниковая технология ...................................................................................... 136
7.2.6. Переход к кремниевой нанотехнологии .......................................................................... 139
7.3. Общие сведения об углеродной нанотехнологии ............................................................. 144
7.4. Основные материалы углеродной нанотехнологии ......................................................... 145
7.4.1. Углеродные нанотрубки ................................................................................................... 145
7.4.2. Фуллерены .......................................................................................................................... 146
7.4.3. Графен ................................................................................................................................. 147
7.5. Продукты углеродной нанотехнологии ............................................................................. 147
7.6. Органические нанотехнологии ........................................................................................... 148
7.6.1. Жидкие кристаллы............................................................................................................. 148
4
7.6.2. OLED технология.. ............................................................................................................ 158
7.6.3. Состояние разработок OLED ............................................................................................ 163
7.7. Квантовая нанотехнология ................................................................................................. 164
7.7.1. Общие сведения ................................................................................................................. 164
7.7.2. Разработки в области квантовых компьютеров .............................................................. 166
7.7.3. Разработки в области квантовой криптографии ............................................................. 176
7.8. Молекулярная нанотенология ............................................................................................ 178
7.8.1. Введение в молекулярную технологию........................................................................... 178
7.8.2. История концепции молекулярной нанотехнологии ..................................................... 182
7.8.3. Оценки ожидаемых параметровмолекулярных наномеханических устройств ........... 183
7.8.4. Стратегии реализации молекулярной нанотехнологии ................................................. 186
7.8.5. Молекулярный транзистор .............................................................................................. 188
7.8.6. Одноэлектронный транзистор .......................................................................................... 189
ГЛАВА 8. НАНОЭЛЕКТРОННЫЕ ИЗДЕЛИЯ ДЛЯ ИНФОКОММУНИКАЦИОННЫХ
СИСТЕМ………………………………………….………………………………………………191
8.1. Общие сведения ................................................................................................................... 191
8.2. Конденсаторы для наноэлектронных систем .................................................................... 192
8.3. Источники электроэнергии для наноэлектронных систем .............................................. 197
8.3.1. Способы получения электроэнергии ............................................................................... 201
8.3.2. История химических источников тока ............................................................................ 202
8.3.3. Основные типы аккумуляторов для мобильных устройств .......................................... 208
8.3.4. Состояние и перспективы развития производства химических источников тока ...... 210
8.3.5. Тенденции развития сегмента вторичных систем до 2010 года ................................... 215
8.3.6. Производители перспективных типов химических источников................................... 218
8.4. Наноэлектронные транзисторы .......................................................................................... 219
8.4.1. Наноэлектронные транзисторы на основе структур хранения на сапфире ................. 222
8.4.2. Нанотранзисторы с гетеропереходами ............................................................................ 228
8.5. Наноэлектронные переключатели и ячейки памяти ....................................................... 233
8.5.1. Квантово-точечные клеточные автоматы ....................................................................... 233
8.5.2. Молекулярные переключатели ........................................................................................ 235
8.5.3. Перспективы использования нанотехнологий при изготовлении устройств
хранения информации ....................................................................................................... 237
8.6. Наноэлектронные лазеры .................................................................................................... 239
8.6.1. Наноэлектронные лазеры с горизонтальными резонаторами ....................................... 239
8.6.2. Наноэлектронные лазеры с вертикальными резонаторами ........................................... 242
8.6.3. Оптические модуляторы ................................................................................................... 249
8.7. Дисплеи и осветительные приборы с использованием наноматериалов ....................... 251
8.7.1. Дисплеи и осветительные приборы на основе нанотрубок ........................................... 251
8.7.2. Перспективы создания дисплеев невидимок .................................................................. 253
8.8. Фотоприемные наноэлектронные устройства и системы ................................................ 254
8.8.1. Фотоприемники на квантовых ямах ................................................................................ 254
8.8.2. Фотоприемники на основе квантовых точек .................................................................. 257
8.9. Устройства и системы хранения информаци .................................................................... 262
8.9.1. Виды запоминающих устройств ...................................................................................... 262
8.9.2. Элементы памяти ............................................................................................................... 264
8.9.3. Фотоприемные ПЗС........................................................................................................... 265
8.9.4. КМОП-фотодиодные СБИС и их применение ............................................................... 267
8.10. Наноэлектронные изделия для компьютерных систем .................................................. 270
8.10.1. Однокристальные системы ............................................................................................. 270
8.10.2. Системы для компьютеров ............................................................................................. 272
8.11. Перспективы разработок квантовых информационных систем ................................... 278
8.12. Наноэлектронные системы для беспроводной связи ..................................................... 284
5
8.13. Перспективы разработок наноэлектронных систем ....................................................... 285
ГЛАВА 9. СОСТОЯНИЕ И ПЕРСПЕКТИВЫ РАЗВИТИЯ МИКРО- И
НАНОЭЛЕКТРОМЕХАНИЧЕСКИХ СИСТЕМ ......................................................................... 292
9.1. Общие сведения ................................................................................................................. 292
9.2. Области применения МЭМС и НЭМС .............................................................................. 292
9.3. Состояние и перспективы разработок МЭМС и НЭМС .................................................. 298
ГЛАВА 10. МЕДИЦИНСКИЕ И БИОЛОГИЧЕСКИЕ АСПЕКТЫ ПРОИЗВОДСТВА
НАНОПРОДУКЦИИ ..................................................................................................................... 305
10.1. Нанориски – новые угрозы для здоровья и окружающей среды .................................. 305
10.1.1. Новая категория рисков .................................................................................................. 305
10.2. Европейские инициативы в области оценки нанорисков .............................................. 306
10.3. Руководства по безопасному обращению с наночастицами и наноматериалами ....... 307
10.3.1. Стандарт корпорации DuPont для оценки нанорисков ................................................ 310
10.3.2. Стандарты как ответ на угрозы, связанные с нанорисками ........................................ 312
10.4. Рекомендации по исследованию токсичности наночастиц в лабораторных
условиях .............................................................................................................................. 313
10.5. Материалы и оборудование, используемые при определении острой токсичности
наночастиц .......................................................................................................................... 315
10.6. Перспективы разработки медицинских нанороботов .................................................... 318
10.7. Проблемы безопасности.................................................................................................... 321
ГЛАВА 11. НАНОТЕХНОЛОГИЧЕСКОЕ ОБОРУДОВАНИЕ ................................................ 322
11.1. «НаноФаб-100» – платформа для наноэлектроники ...................................................... 322
11.2. Установка эпитаксильного наращивания слоев для индивидуальной обработки
подложек большого диаметра .......................................................................................... 322
11.3. Новейшие разработки НИИ точного машиностроения. Комплект вакуумных
установок для научных исследований и отработки технологических
процессов наноэлектроники. 323
11.4. Новое поколение установок молекулярно–лучевой эпитаксии .................................... 324
11.5. Оборудование для наноструктурного анализа материалов и покрытий ...................... 325
11.6. Нанотехнологический комплекс оборудования NanoEducator ..................................... 326
11.6.1. Устройство и принцип работы ....................................................................................... 327
11.6.2. Конструкция СЗМ NanoEducator.................................................................................... 329
11.6.3. Техническая спецификация прибора ............................................................................. 332
11.6.4. Режимы работы ................................................................................................................ 332
11.6.5. Дополнительные приложения NanoEducator ................................................................ 333
ГЛАВА 12. ПОДГОТОВКА КАДРОВ ДЛЯ НАПРАВЛЕНИЯ «НАНОТЕХНОЛОГИЯ» ..... 336
12.1. Материально-техническая база кадровой инфраструктуры наноиндустрии ............. 336
12.1.1. Научно-образовательные центры .................................................................................. 337
12.1.2. Центры коллективного пользования ............................................................................. 340
12.1.3. Кафедры и лаборатории.................................................................................................. 342
12.2. Целевые индикаторы выполнения задач программы развития (по итогам
выполнения программы развития к 2010 г.) .................................................................. 345
12.3. Перечень вузов, ведущих подготовку по специальности «Нанотехнология в
электронике» ...................................................................................................................... 347
Список цитированной литературы ............................................................................................... 348
Перечень принятых сокращений……..……………………………………………………….….358
6
ВВЕДЕНИЕ
Научно-технический прогресс однозначно связан с развитием нанотехно-
логий. Уже с 2003 г. нанотехнологии обеспечивают плавный переход от микро-
электроники к наноэлектронике – основе информационных технологий 21 века.
В 2003 г. элитные вузы Российской Федерации начали подготовку специали-
стов в области нанотехнологий и наноэлектроники.
Тогда было сформулировано новое направление подготовки инженеров
210600 «Нанотехнология». В рамках этого направления выделено две специ-
альности: 210601 «Нанотехнология в электронике» и 210602 «Наноматериалы».
Ведется разработка ГОС ВПО по специальности «Электроника и наноэлектро-
ника». В настоящее время специальность «Нанотехнология в электронике»
предусмотрена в направлении 210400 «Телекоммуникации». Кроме инженер-
ной подготовки ведется подготовка бакалавров и магистров.
Фирмы, внедряющие нанотехнологии, с 2003 г. приступили к серийному
выпуску электронных наноизделий: микропроцессорных интегральных схем
(ИС) с ультравысокой и гигантской степенью интеграции, мобильных систем
нового поколения, широкоформатных дисплеев, цифровой видеотехники и др.
Специалисты, получившие степень бакалавра по направлению 210600
«Нанотехнология» имеют возможность дальнейшего обучения по следующим
направлениям магистратуры:
• 554500 «Нанотехнология»;
• 550700 «Электроника и микроэлектроника»;
• 553100 «Техническая физика»;
• 210601 «Нанотехнология в электронике»;
• 210100 «Электроника и наноэлектроника».
Подготовке магистров по перспективным направлениям наноэлектроники,
представляющим значительный интерес для работодателей промышленных
предприятий, должна предшествовать подготовка бакалавров.
Перспективность работы в области нанотехнологий и наноэлектроники
обуславливает необходимость создания материально-технических баз кафедр,
реализующих инновационные образовательные программы, создание научно-
учебных лабораторий «Наноэлектроники», «Химии и наноматериалов», учебно-
научных центров «Опто-, микро- и наноэлектроники».
Важной задачей является реализация системной подготовки студентов по
блокам естественно-научных (химия и физика), общепрофессиональных (элек-
троника, оптоэлектроника) и специальных (микросхемотехника, СВЧ-техника,
наноэлектроника) дисциплин.
Обширный справочный материал, обобщающий информацию более двух-
сот научных и учебных публикаций, по мнению автора, будет полезен студен-
там, изучающим курсы «Введение в специальность нанотехнология в электро-
нике», «Электроника», «Наноэлектроника», «Приборы СВЧ и оптического диа-
пазона», «Устройства и системы оптической связи», «Оптоэлектроника и нано-
фотоника». Накопленный опыт постановки указанных дисциплин целесообраз-
но учесть в учебных планах профильной подготовки студентов направления
210400 «Телекоммуникации».
7
В данном учебном пособии приведен анализ состояния и перспектив раз-
вития микро- и наноэлектроники. Автор выражает благодарность Игнатовой
А.С., Полянскому С.В., Ананьеву А.В. за помощь в подготовке книги к изда-
нию.
ГЛАВА 1. ОСНОВНЫЕ ПОНЯТИЯ И КЛАССИФИКАЦИЯ
НАНООБЪЕКТОВ
Размер, нм
б)
Рис. 1.1. Линейные размеры природных объектов
12
Наночастицы металлов обладают большой реакционной способностью и
часто используются в качестве катализаторов. Наночастицы металлов обычно
принимают правильную форму – октаэдра (а), икосаэдра (б), тетрадекаэдра (в),
в соответствии с рис. 1.4.
а) б) в)
13
Рис. 1.6. Молекула однослойной нанотрубки
15
Таблица 1.1. Наноэлектронные частицы и системы
Наночастицы Наносистемы
Фуллерены Кристаллы, растворы
Тубулены Агрегаты, растворы
Молекулы белков Растворы, кристаллы
Полимерные молекулы Золи, гели
Нанокристаллы неорганических ве- Аэрозоли, коллоидные растворы, осад-
ществ ки
Мицеллы Коллоидные растворы
Наноблоки Твердые тела
Пленки Ленгмюра – Блоджета Тела с пленкой на поверхности
Кластеры в газах Аэрозоли
Наночастицы в слоях различных ве-
Наноструктурированные пленки
ществ
22
Закон Мура и сегодня продолжает действовать. В полном соответствии с
ним корпорация Intel продолжает вводить новые технологические процессы
каждые два года.
Рост плотности компонентов в интегральных схемах происходит в соот-
ветствии с законом Мура, что иллюстрирует рис. 3.1. В 2010 г. прогнозируется
технологический скачок – переход от классической эры к квантовой, когда
начнут широко использоваться квантовые вычисления и средства связи. Клас-
сические средства вычисления не смогут обеспечить экспоненциальный рост
вычислительной мощности, что образно называется «стеной Мура» (Moor’s
Wall).
Корпорация Intel в 2005 г. израсходовала 10 млрд. долл. на научно-
исследовательские разработки, модернизацию и расширение своих производ-
ственных мощностей.
В 2006 г. началось производство ИС по технологии 65 нм, в 2007 г. про-
изошел переход на 45 нм процесс, на 2009 г. намечено внедрение 32 нм, в
2011 г. настанет черед технологического процесса 22 нм. Вплоть до 2020 года
будут создаваться транзисторы по современной схеме работы. К тому времени,
однако, размеры всех элементов транзистора достигнут атомарных величин, и
уменьшать их дальше будет просто невозможно. Следовательно, уже сейчас
следует искать новые подходы.
1018 10-3
Число полупроводниковых элементов
106 1
104
102 10
24
тов составит порядка 1000 млрд. долл. США.
Транспорт
(70 млрд. долл.)
Катализаторы
(100 млрд. долл.)
Наноматериалы
(350 млрд. долл.)
Фармацевтика
(180 млрд. долл.)
Наноэлектроника
(350 млрд. долл.)
25
гие ведомства) на основе первых интегральных схем (ИС) по технологии тран-
зисторно-транзисторной логики (ТТЛ) в соответствии с требованиями между-
народных стандартов. В последствии необходимость повышения быстродей-
ствия систем на порядок привели к разработке модульных систем типа
FASTBUS по технологии эмиттерно-связанной лотки (ЭСЛ) и EUROBUS по
технологии транзисторно-транзисторной логики с диодами Шоттки (ТТЛШ) на
основе интегральных схем средней степени интеграции (СИС), которые по-
требляли больше энергии и выделяли больше тепла. Третье поколение модуль-
ных систем создали ученые ведущих фирм США, в частности PCI (Intel) и
VME/VXI (Motorola) на основе собственных больших интегральных схем (БИС)
– микропроцессоров по технологии КМОП с меньшим энергопотреблением и
более высокой частотой работы. Они обеспечили пропускную способность сот-
ни мегабит в секунду и применяются до настоящего времени. Развитие элек-
троники, интерфейсов связи модульных компьютерных систем подробно рас-
смотрено в работе [22], материалы которой приводятся в этой книге. На рис. 3.3
и рис. 3.4. показаны этапы рзвития электронных технологий.
Полоса, Мб/с
Switch Fabric
105
Infiniband
4 SCI MicroTCA
10 AMC ATCA
PCIe,cPCIe
3 cPCIe/PXI
10
FUTUREBUS VME/VXI
2 FASTBUS
10
CAMAC
DW, BHW,SHW
101
26
Операций/с Оптические
компьютеры?
1012
HP
SAN
1010 Star
WS SoC
CDC7600 VAX11
108
Micro
COM
STRECH
6 Встраиваемые
10 микросистемы
IBM PDP11 8080 SBC
701
PDP8 Intel404
4
10
1960 1970 1980 1990 2000 2010
ИС СИС БИС СБИС УБИС
27
тически невозможно. Проблемы дальнейшего роста производительности обра-
ботки данных обусловили создание новых многоядерных и многопроцессорных
архитектур с более быстрыми каналами связи (гигабитными скоростями). Все
больше системных функций реализуется в модулях и кристаллах СБИС.
Дальнейшее увеличение быстродействия систем связано с проблемой уменьше-
ния уровня сигналов, переходом на быстрые последовательные средства со-
пряжения и связи, а так же уменьшением длины соединении (проводников) в
модулях и кристаллах, что отражается в соответствующих технологических
нормах производства СБИС и архитектуре подсистем ввода-вывода, памяти и
процессов обработки данных. Требуются инновационные методы развития си-
стемной архитектуры, сверхбыстрых средств сопряжения и связи для преодо-
ления гигабитной границы полосы частот, а также новые сетевые архитектуры
для создания систем распределенной обработки и управления.
Основные трудности дальнейшего развития производительности компь-
ютерных систем связаны с решением проблем преодоления физических ог-
раничений на повышение частоты работы (увеличением производительности
процессоров), ростом пропускной способности каналов сопряжения и связи.
Дальнейшее ужесточение требований к системам компьютерной автоматизации
и сближение компьютерных и коммуникационных технологий привели к их
полной интеграции. При этом развитие микро- и нанотехнологий обусловлено и
новыми требованиями к конвергентной архитектуре систем и сетей связи,
включая вычислительные комплексы высокой производительности НРС.
Оптимальное согласование параметров и комплексное решение этих проблем
становятся основополагающими для дальнейшего развития эффективных си-
стем компьютерной автоматизации, управляющих систем и вычислительных
комплексов высокой производительности на новой технологической основе.
Имеется две тенденции создания и развития новых конвергентных сетевых тех-
нологий и архитектуры компьютерных модульных систем нового поколения
для автоматизации и промышленности. Первая предусматривает развитие клас-
сических сетевых структур на основе Ethernet с применением традиционных
систем локального управления и созданием нового оборудования с интегриру-
емыми сетевыми интерфейсами быстрого и гигабитного Ethernet (FE и GE).
Вторая связана с развитием новых и перспективных встраиваемых модульных
систем с быстрой коммутируемой средой и созданием модульных компьютер-
ных систем высокой производительности. Таким образом, требуются новые ре-
волюционные методы решения ряда гигапроблем создания модульных систем
нового поколения, в том числе многоядерных процессоров и систем в кристал-
ле с частотой несколько гигагерц, компьютерных модулей с объемом памяти
несколько гигабайт с гигабитными интерфейсами связи и последовательными
методами связи с широкой полосой частот (десятки гигабит в секунду). Это
возможно на основе создания современных отечественных СБИС-структур и
модульных систем высокой производительности для автоматизации сбора и об-
работки сигналов в реальном времени.
Для ликвидации большого технологического разрыва с промышленно раз-
витыми странами в России принята федеральная целевая программа «Нацио-
28
нальная технологическая база», в состав которой входит подпрограмма «Разви-
тие электронной компонентной базы» на период 2007–2011 гг. Минпромэнерго
разработало документ «Стратегия развития электронной промышленности на
2007–2011 годы», одобренный правительством страны.
Большое внимание уделено созданию устойчивых к радиации монолитных
интегральных схем, причем предусматривается снижение (к 2015 г.) доли им-
портных электронных компонентов в специальной аппаратуре до половины.
В открытой печати профессионалы акцентировали внимание на недостат-
ках программы, в частности на отсутствии идеологии развития электронных
систем и приоритетов конкретных направлений, а также исследований в обла-
сти новых и перспективных материалов и перспектив применения модульных
систем для конкретных задач. Успехи могут быть достигнуты при согласован-
ном развитии технологий создания систем в кристалле, перспективных модуль-
ных систем и сетей управления, сбора и обработки данных в реальном времени
(три кита стратегического развития).
Успешное развитие микро- и наноэлектронных технологий позволяют со-
здавать новые микро- и наноархитектуры и модули с более высокой плотно-
стью упаковки вычислительных средств, малым потреблением энергии и более
высокой частотой работы. Так, благодаря технологиям сверхбольших инте-
гральных схем (СБИС) с нормами 0,1 мкм появились однокристальные процес-
соры и одноплатные компьютеры SBC (Single Board Computers). Дальнейшее
освоение нанотехнологий СБИС (90 нм) обеспечило разработку и создание
компактных компьютерных модулей, подсистем ввода-вывода и сетей связи в
виде отдельных модулей; при этом сокращается длина соединений, но возраста-
ет концентрация мощности на единицу объема кристалла.
Концепция нового поколения систем ставит целью создание более гибких
и масштабируемых систем с большой полосой пропускания и масштабируемой
производительностью. Ограничение роста производительности процессора по
частоте и быстродействию сопряжения и связи уже не соответствует требовани-
ям нового поколения систем. На смену параллельным шинам типа PCI/ PXI и
VME/VXI приходят новые последовательные структуры связей. Радиальное со-
пряжение при централизованном управлении типа USB и коммутаторов типа
PCI Express может быть заменено коммутируемыми средами с расширяемой
полосой частот.
Дальнейшее повышение частоты процессора оказалось неэффективным из-
за большого выделения тепла. В связи с переходом от традиционных маги-
стральных систем к новым архитектурам многоядерных процессоров частота
процессора уже не служит показателем его производительности. Дальнейшее
повышение производительности процессоров решается не повышением их ра-
бочей частоты, которая уже подошла к физическим пределам, а переходом на
сетевые архитектуры с коммутируемой средой.
30
3.4.3. Автоматизация проектирования и производства
СБИС и модульных систем
Процесс создания новых микросхем и модулей систем включает проектирова-
ние быстродействующих кристаллов системных компонент и плат модулей, а
также их производство с учетом перспективных материалов и нанотехнологий.
Комплексный подход к проектированию модулей и систем с помощью описа-
ния схем на языках Verilog и VHDL включает этапы программирования, моде-
лирования и создания печатных плат.
Стоимость создания фотошаблонов для субмикронных технологий сравнима с
затратами на проектирование СБИС, поэтому важно получить схему в кристал-
ле с первой попытки с контролем (верификацией) результата. При переходе к
субмикронным (нано) технологиям геометрические размеры элементов стано-
вятся соизмеримы с длиной волны света, и оборудование фотолитографии не
обеспечивает требуемую точность элементов.
Методы коррекции позволили повысить разрешающую способность обо-
рудования только частично, а дальнейшее увеличения интеграции требует но-
вых материалов, методов и технологий создания СБИС-структур. Для обработ-
ки сигналов используют СБИС сигнальных процессоров (DSP) и создают аппа-
ратную реализацию быстрых алгоритмов обработки сигналов на программиру-
емых логических интегральных схемах (ПЛИС) или на программируемых мат-
рицах ключей (FPGA) в качестве препроцессоров или сопроцессоров для уве-
личения обшей производительности систем. Схемы FPGA используют в тракте
обработки сигналов или для ускорения исполнения алгоритмов на встраивае-
мом процессоре. Гибкая структура FPGA позволяет распараллеливать операции
обработки сигналов, при этом операции, требующие высокого быстродействия
с параллельной обработкой, реализуют на FPGA, а операции программного
управления и последовательной обработки – на DSP. Встроенное микропроцес-
сорное ядро (MicriBlaze, Xilinx) обеспечивает такую реализацию на ПЛИС.
Проектирование систем требует опыта использования языков про-
граммирования VHDL и, Verilog, поэтому были созданы средства авто-
матизации проектирования электроники на системном уровне ESL (Electronic
System Level), облегчающие применение FPGA в цифровых системах обработ-
ки сигналов. Так, фирма Xilinx с партнерами создала средства автоматизации
проектирования приложений, включая преобразование алгоритмов, написанных
на языках C/C++, в аппаратные реализации на FPGA. Пакет AsselDSP Synthesis
аппаратно реализует алгоритмы MATLAB в формате с плавающей запятой, а
пакет System Generator совмещает ESL-модули с ядрами IP.
Система автоматизации проектирования плат определяет характеристики
соединений, симулирует их параметры и распространение сигналов в схеме
(модуль LlineSim). Модели передающих и принимающих узлов выбирают из
библиотеки, при этом можно задать стандартные линии (кабели, полосковую
связь) или указать их параметры (импеданс, частоту передачи), а также опреде-
лить послойную структуру схемы (ширину проводного или изолирующего
слоя). Для гигагерцовых схем (HyperLynxGHz) учитывают потери в проводни-
31
ках и диэлектриках, что важно при переходе от параллельных шин к пос-
ледовательным методам связи. Автоматизация симулирования и проверки схем
требует многих часов логического моделирования, поэтому создают высоко-
производительные системы автоматизации логического моделирования, среди
которых известны система Rivera фирмы Aldec и Calibre фирмы Mentor
Graphics.
Система Riviera поддерживает серверы разных типов и может интег-
рировать в проекте модули, написанные на языках VHDL, Verilg, C/C+, Sys-
temC, SystemVerylog и др. Отлаженные модули можно занести в библиотеку
для использования в других проектах. Существует много С-моделей для стан-
дартных устройств (памяти, процессоров, ввода-вывода). Моделирование вы-
полняют в пакетном режиме, а результаты заносятся в файлы.
Модульная платформа Calibre компании Mentor Graphics предназначена
для комплексной проверки проекта перед производством схем, т.е. от контроля
правил проектирования переходят к физической верификации СБИС на соот-
ветствие топологических данных исходным схемам. Ядро платформы поддер-
живает физическую верификацию до генерации данных фотошаблонов. Базо-
вый модуль (DRC) платформы выполняет контроль правил геометрического
проектирования с учетом субмикронных технологий, модуль (LVS) сравнивает
результаты с исходным описанием схемы, а другой модуль (xRC) определяет
параметры, соединений на уровне транзисторов, вентилей и иерархии блоков.
Модуль визуализации (RVE) обеспечивает анализ результатов в интерактивном
режиме.
Платформа Calibre также включает модули: контроля проектирования гео-
метрии элементов и ограничений фотолитографии ORC (Optical and Process
Rule Checking); оптической коррекции геометрии на основе вычисленных таб-
лиц TDopc (Table-Driven ОРС); моделирования с предсказанием геометрии объ-
ектов топологии в процессе вывода па кремниевую пластину PRINTimage (Sim-
ulated Silicon Print Image); коррекции схем и топологии кристаллов в пакетном
режиме OPCpro (Optical Process Correction for Batch Production); генерирования
данных повышения разрешающей способности за счет сдвига фазы облучения с
помощью специальной маски PSMgate (Phase Shift Mask Assignment for Gates);
игнорирования данных специальных линий для четких изображений OPCsbar
(Scattering Bars) и WORKbench. Анализ топологических данных выполняют в
формате стандартных правил проверки схем (SVRF—Standard Verification Rules
Format).
Семейство программ Calibre DFM позволяет корректировать обнаружен-
ные дефекты с помощью набора программных модулей. Для увеличения произ-
водительности весь процесс проверки схем разбивают на параллельные нити
(Calibre MT) для обработки в многопроцессорных системах. Большинство то-
пологических редакторов (IС Staton от Mentor Graphics, Virtuoso от Cadence,
Appolo/Astro от Synopsys) обеспечивают меню интерактивного управления
(Calibre Interactive).
Качество производства систем в кристалле СБИС зависит от выбора мате-
риала. Выращивание кристаллов кремния сначала выполняли на кремниевых
32
подложках, затем в качестве подложки-изолятора применяли сапфир. Техноло-
гия «кремний на сапфире» позволила создать КНС-структуры с толщиной
кремния 0,6 и 0,3 мкм (1970-е годы) и разработать коммутаторы и микропро-
цессорные наборы (1980-е годы) с акцентом на быстродействие и радиацион-
ную стойкость материала. Плохое совпадение структуры решеток сапфира и
кремния обусловили создание новой технологии «кремний на изолирующей
подложке» (КНИ-структуры), которая обеспечила более высокую интеграцию
схем. После этого было освоено производство биполярных и полевых схем на
арсениде галлия. Так, фирма Freescale Semiconductor продолжает разработки
арсенид-галлиевых транзисторов до настоящего времени, обеспечивая частоту
до 6 ГГц при питании 20 В и выходной мощности 100 Вт, что отвечает требо-
ваниям новых беспроводных сетей WiMAX.
Позже выяснилось, что классические материалы (кремний и арсенид гал-
лия) по своим качествам превосходит другой материал – карбид кремния (SiC),
имеющий более широкую запрещенную зону (больший диапазон температур) и
излучающий во всем диапазоне видимого света, но по ряду параметров уступа-
ющий нитриду галлия и нитриду алюминия. Рассогласование решеток SiC и
GaN меньше, а теплопроводность выше, чем у сапфира. Подложки из карбида
кремния SiC диаметром 100 мм используют для роста карбида кремния или
формирования новых структур (GaN/AIGaN). ФТИ РАН совместно с АОЗТ
«Светлана» впервые (в 2001 г.) создали мощный лавинно-пролетный диод на
основе SiC.
Одним из перспективных материалов является алмаз. Он имеет лучшие
свойства по сочетанию электрофизических параметров (высокая теплопровод-
ность, низкая диэлектрическая проницаемость, высокая радиационная стой-
кость), что важно для экстремальных условий. Размеры природных кристаллов
алмаза малы, а выращивать синтетически чистые монокристаллические струк-
туры трудно и дорого, однако в последнее время начинают исследовать воз-
можности создания перспективных СБИС на таких алмазах. Проблема создания
схем с требуемыми характеристиками на алмазе — это несовершенство матери-
ала (дефекты, примеси). Проблему отвода тепла решают путем синтеза поли-
кристаллических алмазных пленок и пластин толщиной от единиц нанометров
до миллиметров на разных подложках (Si, SiC, A1N). При выращивании алмаз-
ных пленок на подложках кремния («алмаз на кремнии», метод CVD) исполь-
зуют менее дорогие исходные реагенты (метан, водород). Композитная под-
ложка «кремний на полиалмазе» имеет более высокую теплопроводность.
На разработку и создание СБИС нового поколения требуется много време-
ни. Например, программа создания цифровых микросхем военного применения
в США (1987–1995 гг.) включала сначала создание схем на пластинах диамет-
ром 50мм. Стоимость кристалла СБИС на арсениде галлия удалось снизить до
0,1 долл./кв. мм, что сделало целесообразным создание материала подложек и
масок. Первая фаза следующей программы DARPA по созданию схем на основе
новых широкозонных соединений (GaN, SiC) завершилась получением подло-
жек диаметром 75 мм (2004–2005 гг.) с эпитаксиальным выращиванием новых
СБИС структур (AlGaN/GaN). Во второй фазе (2005–2007 гг.) предус-
33
матривалось создание GaN-транзисторов СВЧ диапазона с высоким процентом
выхода годных изделий. В третьей фазе (2008–2009 гг.) готовится технология
производства недорогих структур GaN для применения в различных компонен-
тах.
На примерах этих проектов видно, что от начала освоения новых тех-
нологий до производства СБИС проходит не менее 10–15 лет. Сроки проекта
сокращают за счет подготовки плана внедрения изделий уже в третьей фазе. За-
траты на проектирование каждого нового поколения микросхем удваиваются, а
с переходом на технологические нормы выше 90 нм могут и утроиться. Для со-
кращения стоимости обработки площади кремния увеличили размер диаметра
пластин со 100 мм до 200 мм и 300 мм, что привело к росту объема и качества
производства, повышению уровня автоматизации проектирования, проверки,
изготовления и коэффициента использования оборудования.
Современное производство предусматривает переход с пластин диаметром
200 мм на 300 мм. При этом можно выделить три этапа. На первом этапе
(2001 г.) создавались крупные заводы по производству пластин размером 200
мм для выпуска ДОЗУ и процессоров с технологией 130–140 нм и 110 нм (заво-
ды Intel, Infineon Technology, Texas Instruments, TSMC). Стоимость завода со-
ставляет порядка $2,0 млрд. Второй этап (2003 г.) включал производство ДОЗУ
(90 нм, 14 кремниевых заводов). Третий этап (2005 г.) призван обеспечить осво-
ение новых технологий и производство пластин размером 300 мм (65 нм и вы-
ше).
Компании Infineon Technology, IBM, Samsung и Chartered Semiconductor
первыми перешли на пластины 300 мм, так как на них размешается в 2,5 раза
больше схем. Однако стоимость таких заводов очень высока ($4 млрд.) и не все
компании могут освоить эту технологию. В Китае производят пластины 150 и
200 мм (завод в г. Вукси по производства ДОЗУ и флэш-памяти). Заводы по об-
работке пластин 300 мм построили в Пекине компания SMIC (2004 г.) для изго-
товления ДОЗУ (для Infineon Technology и Elpida Memory) и в Шанхае компа-
ния Grace Semiconductor Manufacturing.
При создании сложных СБИС применяют вакуумное технологическое
оборудование и используют ионно-плазменные процессы для формирования
субмикронных структур. Плазма высокой плотности (на основе ВЧ-разрядов) в
вакуумных установках обеспечивает травление различных материалов с разре-
шением выше 200 нм. Процесс травления материала осуществляют бомбарди-
ровкой поверхности изделий ионами.
Сверхмалые размеры в диэлектрических пленках получают с помощью
электронно-лучевой литографии с последующим травлением на установке во
фторсодержащей плазме, при этом получают канавки шириной 100 нм в плен-
ках толщиной 0,25 мкм, используя невысокую энергию пучка ионов (до 120
эВ).
Технологические нормы с субмикронным разрешением выше 250 нм по-
требовали детального проектирования и производства схем с учетом физиче-
ских параметров (длины и положения соединений, наводки и согласования, пе-
рекосов и запаздывания сигналов). Требуется решение проблем автоматизации
34
логического синтеза и проектирования топологии новых микромодулей высо-
кого быстродействия в области нескольких гигагерц.
Создание электронных печатных плат для модулей, работающих на высо-
ких частотах, осложняется проблемой целостности передаваемых сигналов в
соединениях. Сложность и стоимость реализации соединений в микромодулях
и на платах модулей растут быстрее, чем компактность и мощность устройств
обработки, и входят в число основных проблем создания нового поколения си-
стем. Для удешевления массового производства СБИС создают объединения,
например фирма Crolles 2 Alliance (Франция) объединила Freescale Se-
miconductor, Royal Philips Electronics и STMicroetectronics. Для России це-
лесообразен другой путь – эффективное использование создаваемых технопар-
ков и наукоградов.
Современные технологии компьютерной автоматизации основаны на не-
скольких фундаментальных направлениях широкого развития магистрально-
модульных систем. К ним, в частности, относится развитие:
• встраиваемых отдельных компьютерных модулей различных компактных
форматов, число и разнообразие которых в последнее время быстро возрастало;
• встраиваемых миниатюрных модульных систем семейства РС1/104 с раз-
ными интерфейсами от 8-разрядной архитектуры ISA до 16- и 32- разрядных
шин, при этом модули процессоров и ввода – вывода объединяются в блоки в
виде компактной этажерки;
• модульных систем с шиной PCI, интерфейсные схемы которых огра-
ничены нагрузкой до четырех единиц и поэтому позволяют подключать к про-
цессору не более двух-трех модулей ввода-вывода;
• модульных систем compact (PCI) с увеличенным вдвое числом подключа-
емых модулей расширения;
• модульных систем с шиной VME/VXI с многопроцессорными возмож-
ностями.
Среди модульных систем наиболее компактными являются системы се-
мейства PC/104, эффективные для встраиваемых применений. Большое разно-
образие форматов плат усложняет их выбор и стыковку с другими модульными
системами, что снижает эффективность новых проектов систем автоматизации.
Все модули обеспечены, как правило, несколькими встроенными последова-
тельными интерфейсами USB и Ethernet (быстрым, или гигабитным). Новые
версии модулей поддерживают новые интерфейсы. Например, все модули,
включающие вместо традиционного параллельного интерфейса PCI новый по-
следовательный интерфейс типа PCI Express, дополнительно имеют в своем
наименовании это слово.
Для локального сопряжения периферии используют быстрый последо-
вательный интерфейс USB 2.0, который вытесняет: интерфейсы типа
RS232/485 и находит применение не только для связи компьютера с пе-
риферией, но и для организации небольших иерархических звездообразных
структур сетей на основе хабов для измерительных и управляющих устройств и
подсистем.
В последнее время для распределенных систем автоматизации применяют
35
варианты классических сетей Ethernet с коммутаций сообщений для создания
не только корпоративных сетей, но и для связи приборов и промышленных си-
стем управления [24]. При этом в качестве контроллеров и систем локального
управления используют встраиваемые модульные системы разных типов.
Архитектуру VME широко применяют в промышленности и военных си-
стемах с начала ее создания (1981 г.). Успехи технологии VME позволили раз-
рабатывать надежные и гибкие модульные системы, работающие в реальном
времени, для детерминированного управления оборудованием при медицин-
ских исследованиях (сканеры CAT), в средствах управления на железнодорож-
ном транспорте (в Сингапуре и Польше), а также в системах автоматизации в
промышленности и военном деле. Научные центры Европы и США уже много
лет используют такие системы. Так, в Европейском центре ядерных исследова-
ний (ЦЕРН) число систем VME достигало несколько десятков тысяч (на 2004
г.). Однако по предельным характеристикам скорости передачи они уступают
компактным системам c PCI. С другой стороны, они обеспечивают возмож-
ность многопроцессорной работы с высокой производительностью.
Система в архитектуре c (PCI) ограничена одним ведущим процессором, и
для построения многопроцессорных систем требовались специальные методы и
структурные решения. В настоящее время осуществляется переход от традици-
онных параллельных магистральных систем связи к последовательным комму-
тируемым сетям, т.е. от традиционных PCI к экспресс PCI с централизованным
управлением и затем на перспективную среду сетевой связи типа ASI (Ad-
vanced System Interconnect).
Использование DSP, графических и видеосистем, систем быстрого сбора и
обработки данных от датчиков требует более интенсивных вычислений и обра-
ботки данных. Сетевое обеспечение становится основной частью распределен-
ных систем с большим количеством мощных процессоров (компьютеров). Про-
граммные радиосистемы, радарные установки и средства обработки изобра-
жений с быстрыми интерфейсами связи становятся важными частями новых
информационных вооружений. Все эти высокие требования нельзя удовлетво-
рить традиционными системами VME, и потребовались новые стандарты.
В настоящее время усилия направлены на создание масштабируемых и
компактных модульных систем с широкой полосой пропускания на основе се-
тевых масштабируемых архитектур. В новом поколении систем осуществляется
переход с параллельных на более быстрые последовательные системы сопря-
жения и связи в диапазоне скоростей выше гигабит.
Происходит слияние вычислительных и коммуникационных сетей на ос-
нове новых архитектур и методов. С одной стороны, наблюдается конвергенция
классических локальных сетей в направлении вычислительных и управляющих
систем. Она проявляется в создании и развитии коммутируемых классических
сетей типа гигабитного Ethernet (GE, 10GE, 100GE) для связи приборных си-
стем (вместо интерфейса GPIB), а также для новых промышленных сетей с из-
быточностью для повышения надежности [24].
С другой стороны, создаются новые быстродействующие коммутируемые
вычислительные среды с модульной структурой для встраиваемых и компакт-
36
ных систем на основе сетевых архитектур нового поколения. В результате об-
разуется единая среда связи систем с широкой полосой частот и высокой про-
изводительностью. Для масштабируемых систем рекомендуется использовать
единые компактные модули процессоров и ввода-вывода, устанавливаемые на
несущем модуле, который создает коммутируемую среду первого уровня. Ком-
мутируемая среда второго уровня формируется в каждой секции. На третьем
уровне сетевая коммутация формируется между всеми секциями в стойке и
между несколькими стойками. В качестве компактных модулей могут служить
процессорные модули или устройства ввода-вывода, например, для сбора и об-
работки сигналов и управления на основе DSP. Для создания компактных мо-
дульных систем можно использовать разработки таких же унифицированных
компактных модулей.
Таким образом, появление новых сетевых технологий автоматизации типа
PCIe, Serial RapidlO, Gigabit Ethernet, InfinitiBand, StarFabric и других последо-
вательных коммутируемых фабрик привело к революционным методам постро-
ения новых модульных систем. Новые компактные микросистемы с коммути-
руемой средой на основе единого семейства модулей могут вытеснить совре-
менные модульные системы, так как их унификация и стандартизация позволят
создавать более экономичные и эффективные средства на основе единого се-
мейства компактных модулей для микро- и больших систем. Это позволит ми-
нимизировать затраты на разработки для малых и больших систем на единой
основе. Такие возможности обеспечивают коммутируемая среда типа InfiniBand
и коммутируемые фабрики высокой производительности.
Среди первых разработок новых масштабируемых модульных систем с се-
тевой архитектурой известны такие стандарты как VPX (вместо VMЕ) и стан-
дарт на архитектуры; перспективных модульных систем для серверных класте-
ров (блейд-серверов) и центров данных высокой производительности. В част-
ности, разработана модульная система автоматизации для телекоммуникаций
АТСЛ (Advanced Telecommunication Architecture) с компактными модулями,
разъемами высокой частоты и средствами мониторинга питания и охлаждения.
46
населения. В настоящее время парк телевизоров в России составляет около 75
млн. штук. Обеспеченность населения телевизорами, по данным Росстата, со-
ставляет 144 телевизора на 100 домохозяйств, из них 136 цветных. При внед-
рении цифрового вещания жители России не должны потерять возможность
принимать телепрограммы, которые они получают сегодня в аналоговом фор-
мате.
Возможны три способа приема телевизионных программ, передаваемых в
цифровом формате: помощью цифровых приставок на имеющиеся у населения
аналоговые телевизоры; коллективный прием программ цифрового телевидения
с преобразованием цифровых сигналов на аналоговые, при котором обеспечи-
вается прием программ цифрового вещания на имеющиеся у населения анало-
говые цветные черно-белые телевизоры; а аналого-цифровые и цифровые теле-
визоры. Коллективный прием программ позволит более рационально решить
проблему перехода на цифровое телевидение для промышленно развитых реги-
онов, где процент городского населения составляет свыше 60%. В настоящее
время по техническому заданию Департамента радиоэлектронной промышлен-
ности Министерства промышленности и торговли РФ институтом в коопера-
ции с предприятиями телевизионной отрасли проводятся разработки широкого
модельного ряда инифицированных цифровых приемных устройств, в том
числе с поддержкой формата телевидения высокой четкости. Важно, что боль-
шинство участников разработки одновременно являются заводами-
изготовителями радиоэлектронной аппаратуры. Некоторые образцы приемных
устройств, в основном различные виды цифровых приставок, уже серийно вы-
пускаются некоторыми предприятиями. Полный ряд приемных устройств мо-
жет быть освоен в серийном производстве на отечественных заводах уже в те-
кущем и будущем годах. Производству цифровых приставок полностью готовы
17 ведущих предприятий. Еще ряд предприятий в различных регионах России,
например, в Удмуртской республике, Республике Татарстан, Курской и Ниже-
городских областях выразили готовность провести подготовку производства
для обеспечения выпуска приставок. Это показывает, что предприятия радио-
электронного комплекса в состоянии обеспечит потребности населения России
в цифровых приставках. Четыре предприятия радиоэлектронного комплекса
начали выпуск аналого-цифровых телевизоров последующим переходом на
полностью цифровые модели. Подготовлено серийное производство устройств
коллективного приема цифровых программ. Усилиями Роспрома и Министер-
ства промышленности и торговли РФ созданы объективные предпосылки для
организации массового производства всех видов цифровой приемной аппара-
туры. Отечественная телевизионная промышленность обладает достаточным
потенциалом, чтобы обеспечить в необходимых количествах выпуск приемных
устройств для цифрового ТВ вещания. Согласно проведенным маркетинговым
исследованиям в 2007 г. выпуск телевизоров составил 7,9 млн. штук, из них с
кинескопами – 70%, а с жидкокристаллическими и плазменными плоскими па-
нелями – 30%. В том же году 77% телевизоров, продаваемых на российском
рынке, в том числе под иностранными марками, производились или собирались
в России. Этот показатель непрерывно растет в связи с увеличением объемов
47
выпуска телевизоров в нашей стране, в том числе зарубежными компаниями,
размещающими производство телевизоров в России.
48
цифрового вещания в Тверской области. Аналого-цифровые телевизоры и при-
ставки обеспечили высококачественный прием цифровых телевизионных пере-
дач в формате MPEG-4, а также передач телевидения высокой четкости. Уста-
новленная в жилом доме г. Тверь аппаратура коллективного приема цифрового
телевидения до сих пор работает без единого сбоя. Весной 2008 г. приемная ап-
паратура цифрового телевидения была показана на совещании в Министерстве
связи Татарстана. В настоящее время проводятся испытания приемной аппара-
туры в составе опытной зоны цифрового ТВ вещания в г. Зеленодольске, Рес-
публика Татарстан). Проводится также работа с администрацией Курской об-
ласти по подготовке к переходу региона на цифровое вещание. Таким образом,
институт начал работу по внедрению разработанной отечественной приемной
аппаратуры на опытных зонах цифрового ТВ вещания, создающихся в регио-
нах России. Однако отсутствие четкой государственной политики по переходу
на цифровой формат вещания привело сегодня к неуправляемому процессу
внедрения цифрового телевидения в регионах страны. Открыты зоны цифрово-
го ТВ вещания в ряде областей: Курганской, Калужской, Белогородской, где
начало цифрового вещания даже не было согласовано с руководством регио-
нального подразделения ФГУП «РТРС». Вещание в этих зонах ведется в фор-
мате как PEG-2, так и MPEG-4. В основном закупается импортное приемное
оборудование. Так, для Мордовии и Курганской области приставки купили в
Китае. В отсутствии официального решения о том, какой формат цифрового
ТВ будет использован в России - MPEG-4 или PEG-2, эти действия могут при-
вести к разрушению единого информационного пространства страны. При
наших территориальных масштабах ни технически, ни организационно невоз-
можно осуществить единовременный переход на цифровое телевидение в пре-
делах всей страны, как это было сделано, например, в Финляндии Великобри-
тании. В Российской Федерации единственно возможным способом перехода от
аналогового ТВ вещания к цифровому является региональный принцип. Ана-
логично осуществлялся переход на цифровой формат вещания в Германии, ко-
гда области сразу целиком переходили а цифровое вещание, но в разное время,
по мере своей готовности. Следовательно, необходима скорейшая разработка
регионально-временного графика перехода с аналогового на цифровое ТВ ве-
щание. Этот график должен основываться на оценках времени готовности раз-
ных регионов страны такому переходу. Опыт таких стран, как США, Англия,
Чехия и других, говорит о том, что там существует государственная поддержка
приобретения приставок для приема программ цифрового телевидения населе-
нием. В России также необходима государственная социально значимая под-
держка в обеспечении населения регионов приставками и устройствами кол-
лективного приема цифрового телевидения. Необходимо также ускорить при-
нятие стандартов цифрового телевидения ввести требование обязательной сер-
тификации основных технических параметров приемной телевизионной аппа-
ратуры. Должен быть решен вопрос о создании базовых центров сертификации
аппаратуры цифрового телевидения. Один из таких центров может быть создан
на базе Государственного испытательного центра «МНИТИ-Сертифика». Ми-
ровой опыт показывает, что сохранить радиоэлектронную промышленность
49
страны, способную производить на современном уровне как товары массового
спроса, так и специальную аппаратуру, возможно только при развитии произ-
водства технически сложных товаров массового потребления, каковыми и яв-
ляются телевизоры. Если мы упустим возможность организации массового вы-
пуска приемной аппаратуры цифрового телевидения на территории России, то
потеряем громадный рынок и перспективную, самую передовую и динамичную
отрасль промышленности, не говоря уже о потере сотен тысяч рабочих мест в
смежных отраслях производства. А так как технологии цифрового телевидения
являются технологиями двойного применения, то это отрицательно скажется на
информационной безопасности страны. Следует отметить, что на рынке телеви-
зоров происходит перемена потребительских предпочтений, связанных с ак-
тивной рекламой цифрового телевидения. По данным зарубежных исследовате-
лей, продажи жидкокристаллических телевизоров на мировом рынке впервые за
всю историю опередили кинескопные. Их доля в структуре продаж составила
47%, телевизоры с кинескопами занимают 46%, а остальные приходятся на
плазменные и проекционные. В последующие годы можно ожидать постепен-
ного исчезновения радиационных кинескопных телевизоров, которые пока еще
удерживают свою долю рынка за счет сравнительно невысокой цены. В Рос-
сии, как и во всем мире, в последние годы уменьшаются продажи телевизоров с
кинескопами и увеличивается продажи телевизоров с плоскими панелями, осо-
бенно жидкокристаллическими. Этому способствует повышенное качество
изображения на них, существенное снижение цены, а также то, что современ-
ные дисплеи на плоских панелях позволяют воспроизводить телевизионное
изображение высокой четкости. Телевидение высокой четкости (ТВЧ) — это не
отдаленная перспектива. В этом формате уже работают несколько отечествен-
ных спутниковых каналов, а соревнования с Пекинской олимпиады транслиро-
вались в Москве в формате высокой четкости. Институт активно работает в
направлении создания приемной аппаратуры телевидения высокой четкости.
Образцы телевизоров высокой четкости, созданные специалистами института,
демонстрировались на отраслевом совещании Роспрома в декабре 2007 г., на
выставке «ТВЧ Россия-2008», и XII Международном промышленном форуме
«Российский промышленник» в С.-Петербурге. ГТРК планирует осуществить
первые трансляции стереотелевизионного изображения с Зимних Олимпий-
ских игр 2014 г. в Сочи. Институт работает на эту перспективу. Демонстрация
макета устройства, позволяющего воспринимать зрителем стереоизображение
без применения очков, была проведена в институте в начале 2008 г. С учетом
развития в мире наноэлектроники и технологий по наноматериалам проблема
создания аппаратуры для стереотелевидения становится более актуальной.
Применение нанотехнологий в телевизионной аппаратуре особенно перспек-
тивно в силу ее массовости. Практическая цель – улучшение в разы показателей
аппаратуры, таких как: энергопотребление, быстродействие, емкость памяти,
надежность, масса и габариты. Проводятся работы по созданию приемной ап-
паратуры для формирования современной сети цифрового радиовещания в
стандарте DRM. Сеть цифрового радиовещания DRM обеспечивает высокое ка-
чество, повышенную помехозащищенность как для стационарных, так и для
50
мобильных слушателей с возможностью передавать до шести высококаче-
ственных стерео или до 18 монофонических звуковых программ в одном кана-
ле. При этом возможна передача дополнительной видео, графической и тексто-
вой информации, например, новостных лент, котировок акций, ситуаций на до-
рогах, прогноза погоды и другой. Таким образом, в настоящее время научно-
технический потенциал отечественных разработчиков и изготовителей радио-
электронной аппаратуры позволит обеспечить потребности населения россий-
ских регионов в приставках, аналого-цифровых телевизорах и аппаратуре кол-
лективного приема цифрового телевидения. Выполнение плана мероприятий,
позволит занять отечественным производителям приемной телевизионной ап-
паратуры лидирующие позиции на российском рынке.
100%
90%
80%
70%
60%
50%
40%
30%
20%
10%
0%
2003 2004 2005 2006 2007 2008 2009 2010 2011 2012 2013 2014 2015 2016
51
Сигналы
Мобильные
устройства Дисплеи
Другое Мобильные
44% 20% устройства
16% 44%
7% Освещение 12%
15% Другое
17% Сигналы
1% 12% 12%
Транспорт
Дисплеи Транспорт Освещение
2007 2012
52
0,6%
Накаливания Люминесцентные
25,7%
33,6%
Прочие
13,7%
20,8% Газоразрядные
Накаливания Светодиоды
3,7%
галогенные
53
др. – выпускающих осветительные приборы на неорганических светодиодах,
используют импортируемые структуры и чипы. Изготовлением чипов и свето-
диодов на их основе на уровне малого производства занимается ЗАО «Опто-
ган». Эффективность светодиодов, производимых данной компанией, нахо-
дится на уровне 60 лм/Вт при энергетической эффективности около 15 %. В те-
чение 4 лет компания планирует выйти на уровень энергетической эффективно-
сти до 25 % и общей эффективности до 100 лм/Вт (см. рис. 3.10.).
Эффективность (на неупакованном чипе), % Световая эффективность, лм/Вт
30.0% 120
25.0% 100
20.0% 80
15.0% 60
10.0% 40
5.0% 20
0.0% 0
2008 2009 2010 2011 2012 2008 2009 2010 2011 2012
14.4% 16.6% 18.8% 21.2% 24.3% 49 60 71 84 97
54
органических соединений (MOCVD) и молекулярно-лучевой эпитаксии (МВЕ),
изготовления однородных структур на подложках большой площади. Для них
уже видны пути решения, и этими вопросами необходимо заниматься в первую
очередь.
56
Выполняя лишь презентационные, учетно-справочные и контрольные функции,
но оторванные от процессов управления территорией, внедрение ИСиР является
неэффективным и не может обеспечивать целенаправленного повышения каче-
ства жизни населения, комфортности проживания и ведения бизнеса на терри-
тории. Существующие модели построения ИСиР используются, прежде всего, для
автоматизации отдельных ведомственных функций с помощью создания специа-
лизированных автоматизированных рабочих мест (АРМ). Даже когда отрасле-
вые АРМ устанавливаются в органе исполнительной власти, как правило, вы-
двигаются требования к его автономности, отсутствию какой-либо интеграции с
уже используемыми системами. Такое положение приводит к дублированию
ввода информации, препятствует анализу данных, выработке стратегии развития
территории и принятию оперативных решений. В итоге цифровые базы данных
формируются независимо друг от друга, данные могут быть устаревшими, не-
полными и неоднородными по содержанию и качеству, труднодоступные для
поиска и интегрирования, не документированы регламенты их актуализации. В
результате информационные системы и ресурсы являются лишь дорогостоящи-
ми комплексами, требующими трудоемких усилий на поддержание их актуаль-
ности и обслуживания. Такое положение приводит к отсутствию в российских
региональных органах исполнительной власти действующих информационных
систем, демонстрирующих свою экономическую или управленческую эффек-
тивность. Это проблема, характерная не только для России. Например, по оценке
экспертов, во множестве федеральных агентств США существует большое чис-
ло дублирующих процессов и одинаковых бизнес-функций, которые, как правило,
решают идентичные задачи и обрабатывают одни и те же наборы данных.
Существующая традиционная информационная инфраструктура органи-
заций в течение длительного периода формировалась как множество «ост-
ровков» приложений. Для каждого корпоративного приложения создавался свой
собственный серверный комплекс, состоявший из одного или нескольких серве-
ров и массива для хранения данных. В такой инфраструктуре отсутствует мас-
штабируемость. Нагрузка на приложения постоянно колеблется, в результате
чего, например, один сервер может быть загружен по максимуму, в то время как
другой сервер простаивает, будучи загружен лишь наполовину. Как следствие,
госзаказчики приобретают дополнительные серверы и устройства хранения дан-
ных, чтобы обеспечить достаточную вычислительную мощность на период пи-
ковой нагрузки. В остальные периоды мощности серверов используются далеко
не полностью. Согласно исследованию Giga Research, усредненный показатель
загрузки промышленно используемых серверов составляет 30% (то есть в сред-
нем в течение суток в каждый час серверы используются менее 20 минут). Та-
кое положение касается не только компьютерных платформ, но и конфигуриро-
вания программного обеспечения. Согласно исследованиям Gartner Group, за-
траты на компьютерные платформы (21%), программное обеспечение (24%) и
стоимость труда (затраты на эксплуатацию – 40%) в сумме составляют 85%
бюджета службы ИТ современной организации. Задачей является повышение
эффективности затрат на информационно-коммуникационные технологии.
По рейтингу готовности к информационному обществу на первом месте среди
57
регионов России находится Москва. Однако в результате мониторинга движе-
ния Москвы к информационному обществу (опубликованы в 2004–2005 гг. бы-
ли сделаны следующие выводы. Развитие услуг электронного правительства,
оказываемых органами власти разного уровня и городскими организациями
Москвы, все еще находится на начальном этапе, что определяется в первую оче-
редь недостаточной глубиной реализуемых услуг, а также затруднениями , с ко-
торыми сталкиваются пользователи при поиске и получении услуги даже при ее
наличии. Для большинства услуг обеспечено только так называемое «информа-
ционное присутствие», то есть сведения о наличии услуги, но не оказание услуги
как таковой. Для части услуг дополнительно есть возможность скачать элек-
тронный бланк документа. Население, бизнес и институты гражданского обще-
ства не видят ощутимых и понятных результатов вложений в электронное разви-
тие города.
Как свидетельствует международный опыт и «цикл ожиданий внедрения
технологий» (Gartner Group) одной из главных причин разочарований при
реализации принципов электронного правительства является отсутствие интегра-
ции бизнес-процессов, неспособность работать быстрее и более прозрачно. Гос-
ударственные организации должны работать над созданием фундамента совре-
менного успеха, основанного на построения архитектуры и реорганизации
бизнес-операций.
Важным шагом в ускорении, упрощении и удешевлении для граждан, соб-
ственников и инвесторов процессов подготовки административных актов явилась
повсеместная реорганизация деятельности органов власти и городских организа-
ций по принципу «одного окна». Режим «одного окна», подразумевает исключе-
ние необоснованного привлечения заявителей при подготовке документов, выдава-
емых органами власти и государственными организациями. Этот с одной стороны,
простой по формулировке принцип в своем воплощении, подразумевает серьез-
ные преобразования административных структур, внесение множественных из-
менений в нормативную базу и существенное техническое оснащение органов
власти. Например, Правительствен Москвы в течение 2004–2006 гг. составлен
«Единый реестр документов, выдаваемых органами исполнительной власти, гос-
ударственными учреждениями, государственными унитарными предприятиями
города Москвы и территориальными органами федеральных органов исполни-
тельной власти». В Едином реестре документов насчитывается более 300 видов
документов, для каждого разработана регламентная схема его подготовки (раз-
мещены на caйте www.okno.mos.ru). Однако, как свидетельствуют социологиче-
ские опросы, переход к полнофункциональному режиму «одного окна» не про-
изошел. Большинство пользователей услуг не видят изменений или отмечают
ухудшение процесса взаимодействия с органами власти. По данным мониторинга
2005 г. среди руководителей предприятий таких в полтора раза больше, чем
считающих, что получать документы стало легче, а среди населения, воспользо-
вавшегося режимом «одного окна», 30,5% считают, что ничего не изменилось, а
25%, что получать документы стало труднее и только 44,5% – что это стало лег-
че. По результатам опроса, проведенного через сайт Зеленограда, 20% респон-
дентов отметили необходимость сокращения времени на подготовку документов и
58
25% – сокращение количества обращений в службы «одного окна».
Наиболее сложными процедурами подготовки характеризуются документы в
области градостроительства и управления инвестиционно-строительной дея-
тельностью на территории города. Сложность этих процедур выражается в мно-
гостадийности, большом количестве заинтересованных ведомств и значитель-
ном объеме необходимой информации, которая требуется на бумажном носите-
ле. Длительный, сложный, зацикленный, дорогостоящий процесс согласований яв-
ляется проблемой не только для инвесторов, но и для органов исполнительной
власти. В условиях рыночной экономики, снижение инвестиционной привлека-
тельности территории города, приводит к оттоку частных капиталов в более бла-
гоприятные территории, что снижает доходы бюджета и грозит недостатком
средств на решение задач жизнеобеспечения и развития города. Существенное со-
кращение сроков согласований возможно, во-первых, за счет совершенствования
механизмов градорегулирования и повышения степени готовности города к при-
ходу инвесторов. Основным механизмом повышения степени готовности города
к приходу инвестора является качественная подготовка необходимых админи-
стративных актов, в которых заранее отражены все межведомственные требова-
ния к градостроительным объектам и к условиям реализации инвестиционно-
строительных проектов. Во-вторых, за счет информатизации административной
и производственной деятельности; интеграции информационных ресурсов и си-
стем. В-третьих, это информационно-справочное обесп