ВИАМ/1995-201786

Промышленная установка МАП-1 для

нанесения защитных покрытий различного
назначения

С.А. Мубояджян
кандидат технических наук

С.А. Будиновский
кандидат технических наук

Февраль 1995
 Всероссийский институт авиационных материалов (ФГУП
«ВИАМ» ГНЦ РФ) – крупнейшее российское государственное
материаловедческое предприятие, на протяжении 80 лет
разрабатывающее и производящее материалы, определяющие
облик современной авиационно-космической техники. 1700
сотрудников ВИАМ трудятся в более чем 30 научно-
исследовательских лабораториях, отделах, производственных
цехах и испытательном центре, а также в 4 филиалах
института. ВИАМ выполняет заказы на разработку и поставку
металлических и неметаллических материалов, покрытий,
технологических процессов и оборудования, методов защиты
от коррозии, а также средств контроля исходных продуктов,
полуфабрикатов и изделий на их основе. Работы ведутся как по
государственным программам РФ, так и по заказам ведущих
предприятий авиационно-космического комплекса России и
мира.
В 1994 г. ВИАМ присвоен статус Государственного
научного центра РФ, многократно затем им подтвержденный.
За разработку и создание материалов для авиационно-
космической и других видов специальной техники 233
сотрудникам ВИАМ присуждены звания лауреатов различных
государственных премий. Изобретения ВИАМ отмечены
наградами на выставках и международных салонах в Женеве и
Брюсселе. ВИАМ награжден 4 золотыми, 9 серебряными и 3
бронзовыми медалями, получено 15 дипломов.
Возглавляет институт лауреат государственных премий
СССР и РФ, академик РАН, профессор Е.Н. Каблов.
 Статья подготовлена для опубликования в
журнале «Авиационная промышленность», № 7-8, 1995 г.

Электронная версия доступна по адресу: www.viam.ru/public

 Промышленная установка МАП-1 для нанесения
защитных покрытий различного назначения

С.А. Мубояджян, С.А. Будиновский

Всероссийский институт авиационных материалов

The article considers the structure and features of MAP-1 installation

operation to perform the different-purpose protective coats by the ion-plasma
method under conditions of the full-scale production.

Установка (рис. 1), предназначенная для нанесения многокомпонентных

конденсированных, диффузионных и конденсационно-диффузионных
покрытий, состоит из цилиндрической вакуумной камеры объемом ~0,7 м3 с
системой откачки. В камере размещается цилиндрический катод 1,
выполненный в виде трубы внешним диаметром 180, длиной 340, толщиной
20 мм из материала покрытия. Коаксиально по отношению к катоду
расположены анод 2 диаметром 800 мм из нержавеющей стали, в полости
охлаждения которого находится электромагнитная анодная катушка 11 (ток
намагничивания I а ); планетарный механизм вращения покрываемых
деталей 12, имеющий 24 позиции на диаметре 550 мм, для установки
покрываемых деталей 7, верхний и нижний экраны 8 и 9 из нержавеющей
стали, охватывающие катод с зазором 10–15 мм.
На нижнем основании вакуумной камеры в промежутке между катодом и
планетарным приводом расположен механизм зажигания дугового
разряда 14, состоящий из поджигающего электрода и тягового магнита.
Катод 1 расположен на водоохлаждаемой оправке 3, которая через штангу
соединена вне камеры с приводом, обеспечивающим возвратно-
поступательное движение катода относительно неподвижного
электромагнитного фиксатора катодных пятен вакуумной дуги 4. Фиксатор
выполнен в виде трехсекционной катушки (ток намагничивания центральной
секции катушки I ц ). Фиксатор обеспечивает удержание катодных пятен
вакуумной дуги на неподвижной в пространстве кольцевой линии,
образующей зону испарения на катоде. Питание вакуумной дуги при работе
установки осуществляется от трехфазного регулируемого выпрямителя типа
BBH-1250 (параметры разряда I д , U д ). Установка также снабжена
регулируемым источником постоянного тока 10, позволяющим подавать
отрицательный электрический потенциал на детали 7 относительно экрана 9
(параметры цепи экран–детали: Iп, Uп) и источниками питания
электромагнитных катушек.

Рисунок 1. Промышленная установка ионно-плазменного осаждения МАП-1:

1 – катод; 2 – анод; 3 – водоохлаждаемая оправка; 4 – электромагнитный фиксатор
катодных пятен вакуумной дуги; 5 – электропривод; 6 – привод, обеспечивающий
возвратно-поступательное движение оправки с катодом; 7 – покрываемая деталь;
8 – нижний экран; 9 – верхний экран; 10 – регулируемый источник постоянного тока;
11 – электромагнитная анодная катушка; 12 – планетарный механизм вращения
покрываемых деталей; 13 – электропривод механизма вращения деталей; 14 – механизм
зажигания дугового разряда; 15 – выпрямитель ВВН-1250; 16 – коммутатор

Установка работает следующим образом. Предварительно

подготовленные к нанесению покрытия детали устанавливаются в
технологической оснастке на позиции вращения планетарного механизма 12.
Камера вакуумируется до остаточного давления 10-1 Па. После включения
электроприводов 5 и 13 деталям сообщается планетарное вращение вокруг
собственной оси и одновременно – вокруг катода 1, который вместе с
оправкой 3 совершает возвратно-поступательное движение вдоль оси
цилиндрической вакуумной камеры. Затем включаются катушки анода и
электромагнитного фиксатора 4 и подается отрицательный электрический
потенциал на покрываемые детали от источника 10. Возбуждение
вакуумного дугового разряда между катодом 1 и анодом 2 достигается с
помощью механизма зажигания 14, обеспечивающего кратковременный
токовый контакт между поджигающим электродом и катодом. Выпрямитель
ВВН-1250 обеспечивает горение разряда при токах вакуумной дуги до
1200 А. Система автоматического регулирования выпрямителя поддерживает
заданную оператором величину тока разряда I д с точностью ±3% от
номинального значения.
Генерация плазмы осаждаемого вещества в установке осуществляется в
вакуумном дуговом разряде с внешней поверхности катода, изготовленного
из материала покрытия, которым может быть любой немагнитный чистый
металл или сплав. Катод эродирует под действием катодных пятен
вакуумной дуги, плотность теплового потока в которых достигает
109–1010 Вт/м2. Пятна являются источниками потоков сильно ионизованной
металлической плазмы, в которых присутствуют микрокапли материала
покрытия 1. Степень ионизации плазмы и доля в потоке микрочастиц
определяются как теплофизическими свойствами материала катода, так и
условиями горения вакуумной дуги на его поверхности – температурой
поверхности, наличием загрязнений в материале катода, составом и
давлением остаточных газов в вакуумной камере и т.д. 2 Формирование
покрытия происходит в процессе конденсации продуктов катода на
поверхности подложки (деталей).
Скорость эрозии катода М (кг/с) и ток вакуумной дуги I д связаны
1
Раховский В.И. Физические основы коммутации электрического тока в вакууме. М.: Наука, 1970. 536 с.
2
Аксенов И.И., Хороших В.М. Потоки частиц и массоперенос в вакуумной дуге. М.: ЦНИИатоминформ,
1984. 57 с.
зависимостью М=μI д , где μ – коэффициент эрозии, кг/Кл.
Из этого соотношения видно, что скорость эрозии катода, т.е. скорость
генерации плазмы испаряемого материала, а соответственно
производительность процесса нанесения покрытия, изменяются линейно от
тока вакуумной дуги. Величина тока вакуумной дуги установки ограничена
теплоотводом от катода и изменяется в пределах 500–1200 А в зависимости
от режима его охлаждения. Отметим, что мощность тепловыделения на
катоде Р к может превышать 8–10 кВт и определяется по зависимости
Р к =U к I д , где U к – вольт-эквивалент потерь на катоде (10–12 В).
В установке МАП-1 использована комбинированная система
стабилизации траекторий движения катодных пятен, сочетающая
воздействие магнитным полем арочной конфигурации и
электростатическими экранами 3. Магнитное поле необходимой величины и
конфигурации создается на поверхности катода электромагнитным
фиксатором катодных пятен вакуумной дуги. Катодные пятна перемещаются
перпендикулярно тангенциальной относительно поверхности катода
составляющей магнитного поля в направлении, обратном действию силы
Ампера, и одновременно смещаются в сторону тех участков поверхности, где
нормальная составляющая магнитного поля минимальна. В результате все
существующие на поверхности катодные пятна перемещаются по кольцевым
траекториям в пределах достаточно узкой зоны испарения, которая
представляет собой кольцевой участок шириной 10–20 мм, центр которого
совпадает с проекцией вершины магнитных силовых линий от центральной
секции электромагнитного фиксатора катодных пятен (см. рис. 1, 4). При
уходе из этой зоны катодные пятна гасятся электростатическими экранами 8
и 9. Перемещение катода 1 относительно неподвижного фиксатора 4 и
экранов 8 и 9 позволяет сканировать зоной испарения по всей поверхности
катода и обеспечивает его испарение на рабочем участке длиной до 300 мм

3
Аксенов И.И., Падалка В.Г., Хороших В.М. Формирование потоков металлической плазмы: Обзор. – М.:
ЦНИИатоминформ,1984. – 83 с.
при ресурсе работы катода без его замены 70–100 ч.
Как уже отмечалось, не менее важным моментом в работе установки
является тепловой режим работы катода. В установке МАП-1 допускается
работа испаряемого катода в двух различных режимах. Это режимы
радиационного и принудительного охлаждения. В режиме радиационного
охлаждения специальных мер для отвода тепла, выделяющегося в процессе
испарения вакуумной дугой, не предпринимается. Поэтому при работе
установки катод разогревается до некоторой установившейся средней
интегральной температуры, которая зависит от тока разряда, геометрических
размеров катода, протяженности рабочего участка на его поверхности.
Например, для катодов из сплавов системы Ni–Со–Сr–Аl–Y при токе разряда
700 А и длине рабочего участка 280–300 мм средняя интегральная температура
на установившемся режиме составляет 750–800°С. Режим принудительного
охлаждения катода реализуется при отводе выделяющегося тепла в
водоохлаждаемую оправку теплопроводностью по внутренней поверхности
катода. Для этого катод по внутренней поверхности паяется к внешней
поверхности охлаждаемой оправки, либо используется специальная оправка,
обеспечивающая отвод тепла от катода путем подачи воды на его внутреннюю
поверхность. Экспериментальные исследования и математическое
моделирование такого режима работы катода показали, что тепловые
возмущения, вносимые катодными пятнами, успевают полностью
релаксировать через 10–15 с после прохождения зоны испарения. Поэтому
средняя интегральная температура нагрева катода обычно не превышает 100°С.
Вольт-амперные характеристики вакуумного дугового разряда в
установке МАП-1 при разных значениях токов намагничивания катушек
фиксатора катодных пятен и неизменном значении тока в анодной катушке
приведены на рис. 2. Конструкция и взаимное расположение катода, анода и
покрываемых деталей приводят к заметному влиянию на напряжение горения
вакуумной дуги магнитного поля, стабилизирующего зону испарения на
катоде, размеров и количества покрываемых деталей. Магнитные силовые
линии от фиксатора катодных пятен (см. рис. 1, 4) перпендикулярны линиям
тока разряда. Поэтому при прочих равных условиях с ростом величины
магнитного поля (увеличение тока намагничивания I ц ) напряжение U д
возрастает, что снижает энергетическую эффективность работы установки.
Для устранения этого недостатка фиксатор снабжен боковыми катушками
(ток намагничивания I б ), создающими в разрядном промежутке магнитное
поле, противоположное по направлению полю от центральной катушки
фиксатора. Это снижает величину U д , не нарушая стабильности испарения на
катоде. Из рис. 2, б видно, что при включении только центральной секции
фиксатора (I ц =0) тангенциальная составляющая магнитного поля,
перпендикулярная разрядному току, распространяется от поверхности катода
в плазму в 2–3 раза больше, чем при одновременном встречном включении
всех секций фиксатора.

Рисунок 2. Влияние магнитного поля фиксатора катодных пятен

вакуумной дуги установки на параметры дугового разряда:
а – вольт-амперные характеристики разряда: 1 – I ц =8 А, I б =0;
2 – I ц =8 А, I б =6 А; 3 – I ц =4 А, I б =0; 4 – I ц =2 А, I б =0; 5 – I ц =2 А, I б =2 А;
б – качественная картина распределения тангенциальной составляющей
 магнитного поля на поверхности катода: 1 – I б =0; 2 – I б >0

Аналогичным образом влияет на величину U д встречное включение по

отношению к центральной секции фиксатора анодной электромагнитной
катушки. Однако с ростом тока намагничивания I а более 3–4 А величина U д
вновь начинает расти, так как наличие магнитного поля от анодной катушки
приводит к замагничиванию электронной компоненты плазмы по всему ее
объему.
Заметное влияние на характеристики разряда оказывает и экранирование
части поверхности анода покрываемыми деталями. Эксперименты показали,
что для нормальной работы установки деталями может экранироваться не
более 60% поверхности анода. В противном случае величина U д превышает
50 В, что приводит к нарушению стабильности работы выпрямителя.
Действие электромагнитных сил на плазму вакуумной дуги установки
МАП-1, связанное с наличием в разрядном промежутке скрещенных
электромагнитных полей, также имеет ряд особенностей. Сила Ампера,
возникающая при взаимодействии тока разряда с поперечным магнитным
полем фиксатора катодных пятен, приводит к вращению плазмы в
азимутальном направлении (см. рис. 1). Помимо этого, плазма смещается вверх
под действием электромагнитной силы, являющейся результатом
взаимодействия тока разряда с собственным азимутальным магнитным полем.
С ростом тока разряда возрастает величина этого поля и, соответственно, сила,
смещающая поток продуктов эрозии с поверхности катода вверх по отношению
к зоне испарения. Результаты измерения скорости роста покрытия на
вращающихся образцах, размещенных на оси вращения на различной высоте,
при токах разряда 300–900 А (рис. 3) подтверждает это.
Перечисленные выше особенности работы установки МАП-1 определяются
ее конструкцией и являются общими, независимо от типа получаемого
защитного покрытия. Эти особенности необходимо учитывать при выборе
параметров рабочего процесса установки, а также создании технологической
оснастки для нанесения покрытий на конкретные типы деталей.
 Рисунок 3. Распределение скорости осаждения покрытия
по высоте зоны напыления промышленной установки МАП-1:
1–4 – I д =900, 700, 500 и 300 А соответственно

В настоящее время установка МАП-1 используется для нанесения

защитных покрытий различного назначения в условиях мелкосерийного и
серийного производства, в том числе:
– жаростойких многокомпонентных конденсированных и
конденсационно-диффузионных алюминидных покрытий, предназначенных
для длительной защиты лопаток турбин от высокотемпературной газовой
коррозии при 1100–1200°С;
– жаростойких диффузионных алюминидных покрытий, легированных
одним или несколькими элементами из ряда Ni, Si, В, С, Y и др.,
предназначенных для защиты рабочих и сопловых лопаток турбин в области
температур до 1100°С;
– износостойких покрытий сложного элементного состава, в целях
защиты трущихся деталей, работающих при температурах до 850°С;
– технологических покрытий из припоев для производства паяных
конструкций из нержавеющих сплавов. Установка обеспечивает
воспроизводимость элементного состава и толщины покрытия за счет
автоматического поддержания заданного режима осаждения слоя. Точность
воспроизведения толщины слоя покрытия составляет ±3%.
При подаче в рабочую камеру реакционноспособных газов (азота,
ацетилена и др. при р=5·10-2 Па) установка обеспечивает получение
износостойких, эрозионностойких покрытий из соединений металлов типа
нитридов, карбидов и др.
Имеющийся практический опыт позволяет рекомендовать установку
МАП-1 для решения разнообразных задач в машино- и приборостроении при
производстве и ремонте деталей машин в целях защиты внешних покрытий
от воздействий агрессивной среды или для экономии и замены дефицитных и
дорогостоящих материалов.