Учреждение образования

БЕЛОРУССКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ

ИНФОРМАТИКИ И РАДИОЭЛЕКТРОНИКИ
Кафедра микро- и наноэлектроники
Диссертация на соискание степени магистра технических наук

Формирование оптических покрытий

на основе оксида кремния
с повышенной лучевой стойкостью
методом ионно-лучевого распыления

Магистрант группы 847101: Научный руководитель:

Дуцник Артем Иванович кандидат технических наук, доцент
Котов Дмитрий Анатольевич
Минск 2020
Актуальность работы 2
Цель и задачи диссертационной работы 3

Цель диссертационной работы:

Установить особенности построения оборудования и режимы формирования
оптических покрытий на основе оксида кремния с повышенной лучевой стойкостью
методом ионно-лучевого распыления.

Задачи:
•определить современные методы получения оптических покрытий с высокой
лучевой стойкостью;
•установить особенности конструкции и режимов работы мультиаппертурного
ионного источника;
•проведение экспериментальных исследований и установка режимов
формирования оптических покрытий с повышенной лучевой прочностью.
 Результаты аналитических исследований 4

Ключевые требования к оптически

прочным пленкам: Ионно-лучевое распыление
• Отсутствие больших внутренних
напряжений;
• Высокая плотность пленки;
• Воспроизводимость стехиометрии.

Данным требованиям
удовлетворяет метод ионно-
лучевого распыления
 Экспериментальный комплекс 5
Схематичное изображение экспериментального Внешний вид экспериментального
комплекса комплекса
 Методика исследования параметров ионного пучка 6
Определение параметров ионного пучка
Схема измерения плотности ионного тока
с помощью зонда и установка оптимального
режима работы

Зависимость плотности ионного тока

от напряжения на ускоряющей сетке
 Результаты экспериментальных исследований параметров ионного пучка 7
Профиль ионного пучка при разных Тормозная характеристика ионного пучка
напряжениях на ускоряющей сетке

Энергетический спектр ионного пучка

Профиль ионного пучка при ускоряющем напряжении 600
В и разных напряжениях экстракции
 Экспериментальные исследования и методика определения лучевой прочности 8
образец № 1, состава Nb2O5 + SiO2, методом «один выстрелов в точку»
• Облучение образца серией лазерных лучей с
последовательно увеличивающейся плотностью
энергии лазерного излучения.
• Фиксирование наличия или отсутствия
разрушений на исследуемом покрытии.

Процесс нанесения покрытий

образец № 1, состава Nb2O5 + SiO2, методом «сто выстрелов в точку»

 Результаты экспериментальных исследований лазерной прочности покрытий 9
образец № 1, состава Nb2O5 + SiO2, методом «один выстрелов в точку» образец № 2, состава Si3N4 + SiO2, методом «сто выстрелов в точку»

образец № 1, состава Nb2O5 + SiO2, методом «сто выстрелов в точку» образец № 3, состава HfO2 + SiO2, методом «сто выстрелов в точку»
 10
Выводы:

• На основании аналитических исследований методов получения покрытий с

повышенной лучевой стойкостью, был выбран метод реактивного ионно-
лучевого распыления с дифференцированным газораспределением. Проведено
ознакомление с методами определения лазерной прочности покрытий;
• Установлены режимы работы предельные токи, распределения плотности тока
мультиаппертурного ионного источника
• Установлено, что оптимальными параметрами процесса являются:
величина мощности ВЧ разряда мультиаппертурного источника равная 500 – 600
Вт при расходе газа 17 см3/мин и разницей напряжений между ускоряющей и
экстрагирующей сетками, величиной 1100 В;
• В результате проведения экспериментальных исследований было установлено что
покрытия состава Nb2O5 + SiO2 и HfO2 + SiO2 имеют лучевую прочность до 1100
МВт/см2 а покрытия состава Si3N4 + SiO2 до 700 МВт/см2, что для образцов с
парами слоев Nb2O5 + SiO2 и HfO2 + SiO2 в 1,5 раза выше, а для образцов с
парами слоев SiN + SiO2 в 1,2 раза выше чем получение другими методами.
 11

Положения выносимые на защиту:

• Формирование оптически стойких покрытий методом реактивного ионно-

лучевого распыления при рабочем давлении 2*10-2 Па, мощности индукционного
разряда в зоне плазмообразования источника ионов 600 Вт, и напряжений
экстрагирующего сетки-электрода 1500 В и ускоряющего сетки-электрода 400 В,
с расходом Ar – 15 см3/мин и O2 – 24 см3/мин, обеспечивающими формирование
четырехслойных интерференционных покрытий - зеркал, с оптической
прочностью для образцов с пáрами слоев Nb2O5 + SiO2 и HfO2 + SiO2 в 1,5 раза
выше, а для образцов с парами слоев SiN + SiO2 в 1,2 раза выше чем другими
методами.
 12
Публикации по теме диссертации
Дуцник, А. И. Формирование оптически стойких покрытий на основе оксида кремния / А. И. Дуцник,
Д. А. Котов // 56-я научная конференция студентов, магистрантов, аспирантов БГУИР, 2020. –
Минск : БГУИР, 2020.

Терещук, О. И. Снижение неравномерность магнитного поля протяженное магнетронной

распылительной системы с вращающимся цилиндрическим катодом/ О. И. Терещук, А. И. Дуцник, В.
М. Комаровская // High Temperature Material Process: An International Quarterly of High-Technology
Plasma Processes, 2020. – Begell House Inc. T 24.