Вы находитесь на странице: 1из 28

УДК 669.01.539: 669.

691
СИЛИЦИДНЫЕ ПОКРЫТИЯ НА МОЛИБДЕНЕ:
ПОЛУЧЕНИЕ, СТРУКТУРА, СВОЙСТВА
С.В. Литовченко1, В.М. Береснев1, А.А. Дробышевская2, П.В. Турбин3
Харьковский национальный университет имени В.Н. Каразина
1

Национальный научный центр “Харьковский физико-технический институт”


2

3
Научный физико-технологический центр МОН МС и НАН Украины (Харьков)
Украина
Поступила в редакцию 05.06.2012
В обзоре изложено современное состояние исследований структуры и свойств силицидных
покрытий на молибдене. Приводятся характеристики способов формирования силицидных
покрытий и физических свойств системы кремний-молибден. Изложены особенности диффу-
зионного силицирования молибдена из порошковых сред. Приведены структурно-фазовые ха-
рактеристики диффузионных силицидных покрытий на молибдене и освещены факторы, опре-
деляющие деградацию свойств силицидов и эволюцию фазового состояния при высоких тем-
пературах.
Ключевые слова: кремний, молибден, покрытия, силициды, термическая стабильность, туго-
плавкие металлы.
В огляді викладений сучасний стан досліджень структури і властивостей силіцидних покриттів
на молібдені. Приводяться характеристики способів формування силіцидних покриттів і фізичних
властивостей системи кремній-молібден. Викладено особливості дифузійного силіціювання
молібдену із порошкових середовищ. Наведено структурно-фазові характеристики дифузійних
силіцидних покриттів на молібдені та висвітлені фактори, що визначають деградацію власти-
востей силіцидів і еволюцію фазового стану при високих температурах.
Ключові слова: кремній, молібден, покриття, силіциди, термічна стабільність, тугоплавкі
метали.
In this review the current state of research into the structure and properties of silicide coatings on
molybdenum is described. Characteristics of methods for forming silicide coatings and physical prop-
erties of silicon-molybdenum system are given. Features of the diffusion siliconizing of molybdenum
from powder medium are presented. The structural and phase characteristics of diffusion silicide
coatings on molybdenum are given and factors determining the degradation of the silicide properties
and evolution of phase state at high temperatures are elucidated.
Keywords: silicon, molybdenum, coatings, silicides, thermal stability, refractory metals.
ВВЕДЕНИЕ тью операции получения силицидов с общей
В настоящее время силициды достаточно ши- технологией изготовления конечных изделий.
роко используются в различных сферах науки Сравнительно новым является использо-
и техники для реализации специальных тех- вание силицидов в технологии изготовления
нологических процессов или создания изде- полупроводниковых приборов и интеграль-
лий с особыми свойствами [1]. ных схем. Наряду с широким применением
Наибольшее распространение сегодня по- силицидов благородных металлов (Pt, Pd) си-
лучили дисилициды тугоплавких металлов, лициды тугоплавких металлов (MoSi2, TiSi2,
в частности молибдена [2]. Материалы на их WSi2) также используются в качестве электро-
основе составляют достойную конкуренцию дов затворов и межсоединений в технологии
специальным сплавам, интерметаллидам, ке- интегральных микросхем, содержащих тран-
рамикам. Это обусловлено рядом преиму- зисторные элементы, построенные на пере-
ществ силицидных материалов: высокой жа- ходах в системе металл-окисел-полупровод-
ростойкостью и термической стойкостью, сох- ник (МОП-транзисторы).
ранением достаточных механических харак- Пленки тугоплавких металлов недостаточ-
теристик в широком интервале температур, но устойчивы к высокотемпературной обра-
более высокой проводимостью, совместимос- ботке в окисляющих средах, а также к воздей-

110  С.В. Литовченко, В.М. Береснев, А.А. Дробышевская, П.В. Турбин, 2012
С.В. ЛИТОВЧЕНКО, В.М. БЕРЕСНЕВ, А.А. ДРОБЫШЕВСКАЯ, П.В. ТУРБИН

ствию химических реактивов, обычно при- чество этой пленки – ее сплошность, плот-
меняемых при изготовлении интегральных ность, малый коэффициент диффузии кис-
схем. лорода и способность к самозалечиванию –
Силициды тугоплавких металлов лишены определяют защитные свойства силицидных
перечисленных недостатков и поэтому более покрытий [2, 3]. Существенное значение име-
перспективны в технологии производства ет также способ нанесения покрытия.
интегральных схем. В последнее время си- Подавляющее большинство работ, посвя-
лициды заменяют поликристаллический щенных изучению функциональных покры-
кремний при производстве МОП-схем, по- тий на основе силицидов молибдена, посвя-
скольку удельное сопротивление WSi2, MoSi2, щены либо технологическим аспектам фор-
TiSi2 на порядок ниже величины удельного мирования и эксплуатации покрытий, либо
сопротивления поликристаллического Si, и фундаментальным вопросам (термодинамике
силициды могут окисляться до образования и кинетике силицирования).
непрерывного изолирующего слоя SiO2. Сравнительно небольшое число публика-
Молибден традиционно считается доста- ций освещает связь эксплуатационных воз-
точно неудобным материалом при изготов- можностей изделий с покрытиями и струк-
лении приборов. Это объясняется большим турно-фазовых характеристик покрытий,
различием коэффициентов термического рас- причем значительная часть таких работ – это
ширения этого металла и кремния, что при- более или менее успешные попытки прогно-
водит к образованию микротрещин или от- зирования поведения изделий расчетным
слаиванию. Тем не менее, дисилицид молиб- путем.
дена широко используется в разработках за-
ХАРАКТЕРИСТИКА ФИЗИЧЕСКИХ
поминающих устройств и других элементов.
СВОЙСТВ СИСТЕМЫ
Высота барьера Шоттки между молибденом
КРЕМНИЙ-МОЛИБДЕН
и кремнием относительно низкая (~0,63 эВ),
Системе молибден-кремний исследователя-
а наиболее легкоплавкая эвтектика согласно
ми уделяется достаточное внимание. Естест-
равновесной диаграмме состояния все же венно, что заметная часть работ посвящена
достаточно высокотемпературная (1400 °C построению и изучению равновесной диа-
между молибденом и дисилицидом, рис. 1), граммы состояния этой системы [4 – 9].
именно поэтому дисилицид молибдена пред- Согласно диаграмме состояния молибден-
ставляет собой интерес в силовых приборах, кремний (рис. 1) в этой системе присутствуют
где имеют место высокие температуры. три соединения: дисилицид молибдена
MoSi2, низшие силициды молибдена Mo5Si3
и Mo3Si.
Растворимость кремния в твердом молиб-
дене составляет 3,35 ат.% при 2093 K и 9 ат.%
при 2298 K. Область твердых растворов на
основе соединения Mo3Si практически от-
сутствует.
В системе реализуется три эвтектики:
– Mo3Si-Mo5Si3 при 26,4 ат.% кремния и тем-
пературе 2293 K;
– Mo5Si3-MoSi2 при 54 ат.% кремния и тем-
пературе 2173 K;
– MoSi2-Si при 98,5 ат.% кремния и тем-
Рис. 1. Фазовая диаграмма кремний-молибден [5].
пературе 1673 K.
Жаростойкость силицидных покрытий в Кроме того, при температуре 2123 K име-
окислительных средах объясняется их спо- ются эвтектоида:
собностью к пассивированию за счет форми- β-MoSi2 ↔ Mo5Si3 + α-MoSi2 (1)
рования поверхностной окисной пленки. Ка- и при 2173 K перитектика:

ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2 111


СИЛИЦИДНЫЕ ПОКРЫТИЯ НА МОЛИБДЕНЕ: ПОЛУЧЕНИЕ, СТРУКТУРА, СВОЙСТВА

β-MoSi2 + P ↔ α-MoSi2. (2) турном интервале 1850 – 1900 °С [8] (по не-
Силицид Mo 3Si образуется при 2298 ± которым данным 1700 – 1850 °С [13]).
20 K по перитектической реакции. Темпера- Низкотемпературная разновидность
тура плавления силицида Mo5Si3 равна 2453 α-МоSi2 имеет объемно-центрированную
± 20 K, ширина области гомогенности при тетрагональную структуру, структурный тип
1970 К – от 37 до 40,35 ат.% кремния. C11b, пространственная группа D174h-I4/
Дисилицид молибдена плавится при 2293 mmm, параметры решетки a = b = 0,3202 нм,
± 20 K, область гомогенности – от 65,8 до c = 0,7852 нм, c/a = 2,452. По данным [14]
66,7 ат.% кремния. a = b = 0,3198 нм, c = 0,7859 нм, c/a = 2,457, а
По данным [10] область гомогенности расстояние между внутренними слоями ато-
MoSi2, полученного методом диффузионного мов кремния составляет 0,2618 нм.
насыщения в вакууме, может составлять не- Низкотемпературная форма α-MoSi2 в эле-
сколько процентов и имеет тенденцию к уве- ментарной ячейке содержит 2 атома молиб-
личению с повышением температуры сили- дена и 4 атома кремния. Атомы Si образуют
цирования. Перепады концентрации элемен- каркас, в пустотах которого располагаются
тов составляют: для Si = 2,52 ± 0,5%; для
атомы Мо. Структуру можно также рассмат-
Мо = 2 ± 0,5%.
ривать состоящей из слоев, параллельных
Силицид Mo3Si имеет кубическую структу-
плоскости (010) с плотнейшей гексагональной
ру типа А15 с периодом а = 0,4890±0,0002 нм.
упаковкой. Слои чередуются в порядке
Упаковка структуры – плотнейшая или близ-
ABAB..., слой B смещен в направлении оси
кая к ней.
Большая компактность решетки подчер- X на а/2. Кратчайшее расстояние Mo-Si равно
кивает металлический характер связи Mo-Si, с/3. Цепочки атомов кремния образуют
однако в фазах существуют также и ковалент- зигзаги, проходящие через призмы Mo па-
ные связи между металлическими атомами раллельно осям X и Y. Выступы цепей на-
[11]. правлены навстречу, расстояния между ато-
Силицид Mo5Si3 принадлежит к простран- мами Si в выступах и в цепочках равны, т. е.
ственной группе D184h-I4/mcm и имеет создается трехмерный каркас из кремния.
объемно-центрированную тетрагональную Высокотемпературный β-МоSi 2 имеет
решетку (а = 0,9643 нм, с = 0,495 нм, гексагональную структуру с параметрами:
с/а = 0,5087), которая легко сдвигается к гек- а = 0,4642 0,0005 нм, с = 0,6529 ± 0,0005 нм,
сагональной структуре, особенно в присут- с/а = 1,406, пространственная группа D46h-
ствии примесей. В элементарной ячейке P6222. Граница МоSi2 со стороны Мо распо-
Mo5Si3 содержится 20 атомов молибдена и 12 ложена при 67 ± 1,0 % (ат.) [15].
атомов кремния. Атомы кремния в решетке В дисилициде связь между Мо и Si гораздо
образуют прямолинейные цепи. К структур- сильнее, чем между Si и Si [14]. Структурные
ным особенностям этого силицида молибде- особенности силицидов молибдена обобще-
на можно отнести следующие [12]: ны в табл. 1, а структура представлена на
– параметр решетки а существенно прево- рис. 2.
сходит с (c/a ~ 0,5), что нетипично для других Таблица 1
высокотемпературных интерметаллидов, Кристаллохимические характеристики
включая дисилицид молибдена; силицидов молибдена
– решетка не имеет плотноупакованных плос-
костей, которые, например, есть в дисили- Параметры Плотность
Соедине- Синго- решетки, нм
циде; ние ния c/a рентгенов-3
a b с ская, г/см
– цепочки Si-Mo-Si расположены по направ- Mo3Si Куб. 0,489 – – – 8,968
лениям (100) и (010), а в дисилициде – (001);
Mo5Si3 Тетр. 0,9642 – 0,495 0,5087 8,213
– межатомные силы связи в цепочках Si-Mo-
Si больше, чем в цепочках Mo-Mo и Si-Si. α-MoSi2 Тетр. 0,3202 – 0,7852 2,452 6,267
Дисилицид молибдена МоSi2 претерпева- β-MoSi2 Гекс. 0,46422 – 0,6529 1,406 6,26
ет аллотропическое превращение в темпера-

112 ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2


С.В. ЛИТОВЧЕНКО, В.М. БЕРЕСНЕВ, А.А. ДРОБЫШЕВСКАЯ, П.В. ТУРБИН

а) б) в)
Рис. 2. Структура силицидов молибдена: а) – α-MoSi2, б) – Mo5Si3, в) – Mo3Si; светлые – атомы Si, темные –
атомы Mo.

КРАТКАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА тоды (где есть контакт защищаемого мате-


СПОСОБОВ ФОРМИРОВАНИЯ риала с элементами покрытия, находящимися
СИЛИЦИДНЫХ ПОКРЫТИЙ в любой фазе – газовой, твердой, жидкой) и
Существует достаточно много разнообразных неконтактные или химические методы (мате-
методов формирования функциональных риал покрытия поступает в связанном виде -
силицидных покрытий. Способы синтеза си- в виде химических соединений). Однако та-
лицидов во многом определяются назначе- кая классификация также допускает неодно-
нием, структурно-фазовым состоянием, гео- значность толкования. Например, при акти-
метрическими и прочими параметрами ко- вированном галогенами силицировании ту-
нечных изделий. гоплавких металлов в порошковых насыща-
В зависимости от направления исследо- ющих средах [21] реализуется как контактный
ваний и области научных интересов покры- метод (т.е. имеется непосредственный кон-
тия подразделяют на группы по различным такт поверхности обрабатываемого материа-
признакам, например: ла с кремнием), так и химический метод (ма-
– по методам и способам получения (хими- териал покрытия – кремний поступает к по-
ческие, гальванические диффузионные, плаз- верхности насыщения в виде химических со-
менные, детонационные); единений – хлоридов, фторидов, иодидов
– по составу покрытия (силицидные, бороси- кремния).
лицидные, карбосилицидные и т. д.); Основой классификации, предложенной
– по структуре (однофазные, многофазные, авторами работ [22, 23], является физико-хи-
однослойные, многослойные, комбиниро- мическая характеристика активной фазы или
ванные, комплексные); среды, содержащей диффундирующий эле-
– по решаемой технологической задаче (изно- мент. Классификация удобна для термодина-
состойкие, жаростойкие и термостойкие, вы- мической оценки процесса получения покры-
сокотемпературные, коррозионностойкие, тия, она позволяет оценивать влияние насы-
электротехнические и т. п.). щающей среды на параметры покрытия и
Как внутри групп, так и между ними нет проводить изучения механизма формирова-
зачастую четкой границы, что только услож- ния покрытия, с учетом уноса компонентов
няет правильный выбор. насыщающего конструкционного материала
В монографии [20] тугоплавкие силицид- в среду, т.е. наиболее приемлема при анализе
ные покрытия подразделяются на четыре теоретических вопросов получения материа-
группы: диффузионные, детонационные, пла- лов при диффузионном взаимодействии реа-
зменные, комбинированные. В основу клас- гентов.
сификации положен единый принцип – раз- Сравнительно полная классификация ме-
личие видов поступления материала покры- тодов и способов нанесения покрытий при-
тия на поверхность основного материала. Вы- ведена в работе [24], в которой основой систе-
делены две большие группы: контактные ме- матизации является характеристика физико-

ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2 113


СИЛИЦИДНЫЕ ПОКРЫТИЯ НА МОЛИБДЕНЕ: ПОЛУЧЕНИЕ, СТРУКТУРА, СВОЙСТВА

химических процессов и явлений, происходя- Весьма распространено получение сили-


щих при формировании покрытий с учетом цидов при реакционной диффузии кремния
вида среды, внешнего механического или в металлическую подложку. Большинство
электрического воздействия. Предложены способов и методов диффузионного насыще-
следующие основные методы: ния рассмотрены в классификации на основе
1. Химико-термический метод – заключается фазового состояния насыщающей среды [22,
в формировании покрытий из различных на- 23].
сыщающих сред путем диффузионного насы- При формировании толстослойных сили-
щения (диффузионные покрытия).
цидных покрытий на тугоплавких металлах
2. Механический метод – объединяет спосо-
чаще всего используются химико-термичес-
бы, при которых велико влияние адгезион-
кие методы, из которых можно выделить:
ного взаимодействия в случае установления
– шликерную технологию (твердофазный ме-
контакта между материалом покрытия и ос-
тод);
новы (плакирование, напыление).
3. Химический метод – осуществляется в спе- – жидкофазное силицирование;
циальных средах, которые содержат химичес- – циркуляционное силицирование из газо-
кие соединения элементов покрытия и раз- вой фазы;
личные добавки, чаще всего инертные. – активированное силицирование из газовой
4. Электрохимический метод – заключается (паровой) фазы;
в нанесении покрытия в результате процессов – вакуумное насыщение из паровой фазы.
электрохимического выделения компонентов Шликерный метод привлекает своей прос-
покрытия в виде ионов из электролитов (га- тотой. Недостаток этого метода – высокая
льванические растворы, расплавы солей) или пористость покрытия и плохое сцепление с
газовой фазы при пропускании электричес- основой. Для увеличения плотности покры-
кого тока от внешнего источника. тия и его адгезии производят дополнитель-
В настоящее время перечисленные методы ный диффузионный отжиг или оплавление
совершенствуются, новое аппаратурное покрытия. Существенно улучшает качество
оформление часто приводят к возникнове- покрытия, нанесенного данным способом,
нию и развитию оригинальных технических введение в шликер различных добавок.
вариантов того или иного способа. Ряд усо- Способ оплавления или наплавления тру-
вершенствований направлен на расширение дно применим для непосредственного нане-
круга диффузионных покрытий и интенсифи- сения силицидного слоя из-за высоких тем-
кации процессов их формирования, различ- ператур плавления силицидов. Однако опла-
ные методики подробно изложены в литера- вление силицидных покрытий с целью их уп-
туре и допускают дальнейшую модификацию. лотнения и герметизации возможно осущес-
Плазменные, ионно-плазменные методы, твить, например, электронным пучком [26].
различные виды напыляемых покрытий Особенность данного технологического при-
достаточно широко представлены в научной ема заключается в очень большой концентра-
литературе и здесь мы на них останавливаться ции энергии в сравнительно тонких слоях си-
не будем. Отметим лишь, что, в частности, лицидного покрытия, что приводит к резкому
технологические признаки при классифика- уплотнению защитного слоя и повышению
ции методов получения покрытий напылени- его антикоррозионной стойкости. Хотя такая
ем использованы в работе [25]. Предложено обработка и обеспечивает получение высо-
подразделить покрытия по назначению: за- кокачественных покрытий, однако ее техноло-
щитные для повышения долговечности и на- гичность явно недостаточна для широкого
дежности в агрессивных средах, контактные применения и тем более для промышленного
для повышения работоспособности пар тре- использования. Главной задачей здесь ви-
ния и герметизации, специальные для преда- дится существенное упрощение аппаратуры
ния поверхности особых физических свойств и повышение ее надежности.
(например, оптических или электрических), Гораздо шире распространены силицид-
декоративные. ные покрытия диффузионного типа. Они об-

114 ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2


С.В. ЛИТОВЧЕНКО, В.М. БЕРЕСНЕВ, А.А. ДРОБЫШЕВСКАЯ, П.В. ТУРБИН

разуются в результате диффузионного насы- SiCl4 + H2 → SiCl2 + 2HСl. (4)


щения кремнием поверхности металла. Фор- Целесообразно и экономически выгодно
мирование покрытия происходит путем пре- осуществлять указанные процессы циркуля-
имущественной реакционной диффузии крем- ционным способом, когда изделие и кремний
ния сквозь образующиеся силицидные слои. находятся в разных частях замкнутого газо-
Основные методы создания диффузион- провода, по которому циркулирует образовав-
ных покрытий – жидкофазное силицирова- шийся галогенид. Значительная интенсифи-
ние и газофазное силицирование. кация процесса достигается при использо-
Жидкофазное диффузионное силициро- вании тлеющего разряда [30]. К сожалению,
вание как электролизное, так и неэлектролиз- метод мало эффективен для получения по-
ное характеризуется высокой скоростью. Про- крытия на крупногабаритных изделиях и до-
цесс проводят в нейтральных расплавах, ко- статочно сложен.
торые предотвращают взаимодействие обра- Оригинальный способ силицирования с
батываемого изделия с окружающей средой. регулируемой скоростью доставки кремния
Достаточно известен способ силицирова- предложен в работе [31]. Регулирование ско-
ния в расплавах меди с добавлением кремния рости доставки кремния к поверхности об-
[27]. В этом случае медь защищает молибден разца при силицировании из паровой фазы
в вакууме позволяет повысить температуру
или другой металл от окисления и одновре-
силицирования выше эвтектической и уве-
менно обеспечивает перенос кремния через
личить скорость роста слоя.
жидкую фазу к реакционной поверхности. Ко-
Газофазное силицирование порошковым
эффициенты диффузии кремния в таких си-
методом отмечается наибольшей простотой
лицидах намного превосходят таковые для га-
и удобством. Более подробно эти методики
зофазного метода [28]. будут рассмотрены в следующем разделе.
Газофазные методы диффузионного сили- Метод получения покрытия в кипящем
цирования получили большое распростране- слое [32, 33] является одним из наиболее ин-
ние как более технологичные, простые в реа- тересных способов силицирования в поро-
лизации, а также позволяющие получать бо- шковых смесях. Он обеспечивает одновре-
лее качественные покрытия. менный нагрев покрываемых деталей, что
Известен метод с пространственным раз- приводит к быстрому и равномерному росту
делением источника кремния и покрываемого толщины диффузионного слоя по всей по-
изделия, в котором в качестве газа-перенос- верхности обрабатываемых изделий. Тех-
чика используется галогенид кремния [29]. нология кипящего слоя удобна для осуществ-
Установка имеет сообщающиеся между собой ления процесса одновременного насыщения
высокотемпературную и низкотемператур- несколькими элементами, то есть для полу-
ную камеры. В высокотемпературной камере чения комплексных защитных покрытий.
находится порошок кремния, а в другой ка- При оценке эффективности различных ме-
мере – покрываемое изделие. Когда в уста- тодов нанесения покрытий необходимо учи-
новку подают галоген кремния SiCl4, то в об- тывать ряд принципиальных, но различных
ласти более высоких температур протекает по своей сущности критериев, характеризую-
реакция образования субхлоридов кремния: щихся индивидуальным набором параметров.
SiCl4 + Si = 2SiCl2. (3) Следует выделить:
Образующиеся субхлориды поступают к – возможность создания оптимальных пара-
изделию в низкотемпературную камеру, где метров покрытия (состав, структура, толщина,
диспропорционируют по реакции, обратной характер распределения компонентов);
(3), на SiCl4 и кремний. Взаимодействие по- – возможность управлять перечисленными
следнего с металлом приводит к образованию параметрами изменением технологических
диффузионного покрытия. Подача в установку факторов (температура, среда, время, характе-
водорода может ускорить в сравнении с реа- ристика нагрева, отжига и охлаждения);
кцией (3) процесс диффузионного насыщения – обеспечение качественных показателей по-
за счет большего выхода SiCl2 по реакции: крытий (пористость, равномерность по тол-

ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2 115


СИЛИЦИДНЫЕ ПОКРЫТИЯ НА МОЛИБДЕНЕ: ПОЛУЧЕНИЕ, СТРУКТУРА, СВОЙСТВА

щине, сцепление с подложкой, трещино- Важнейшими вопросами при рассмотре-


стойкость); нии диффузионных покрытий являются ме-
– технологические показатели (повторяе- ханизм диффузии и объемные изменения в
мость и воспроизводимость; процессе протекания реакционной диффузии
– температура и длительность процесса, га- и образования новых химических соедине-
бариты и форма изделий; ний. Механизм формирования диффузион-
– дополнительные операции, серийность ного слоя теснейшим образом связан с его ка-
производства, техника безопасности, соблю- чеством, которое, в свою очередь, определяет-
дение экологических требований); ся степенью возникновения точечной корро-
– экономические и стоимостные показатели зии в процессе эксплуатации деталей с за-
(капитальное вложение, амортизация, стои- щитным слоем.
мость сырья и материалов, потери, заработная Если покрытие формируется в результате
плата, энергетические затраты и водозатра- диффузии внешней компоненты, то поверх-
ты). ностный рельеф покрытия повторяет рельеф
подложки с присущими ему всякого рода не-
ОСОБЕННОСТИ ДИФФУЗИОННОГО
однородностями и дефектами, что является
СИЛИЦИРОВАНИЯ МОЛИБДЕНА ИЗ
одной из причин появления коррозии. В слу-
ПОРОШКОВЫХ СРЕД
чае образования покрытия при преимущест-
Прежде, чем рассматривать конкретные при-
венной диффузии внутренней компоненты
меры силицирования молибдена, выскажем
(т.е. материала подложки) происходит про-
несколько общих соображений, относящихся
к общим проблемам формирования и эксплу- цесс его гомогенизации, микро- и макроде-
атации диффузионных покрытий. фекты или исчезают, или равномерно рас-
В результате диффузионного насыщения пределяются, и вероятность возникновения
металлами и неметаллами поверхностных точечной коррозии в процессе последующей
слоев различных конструкционных, в том эксплуатации существенно уменьшается.
числе тугоплавких, металлов и сплавов фор- Чаще всего реализуется смешанный ме-
мируются покрытия, состоящие либо из хи- ханизм нанесения диффузионного покрытия
мических соединений насыщающих эле- (встречная диффузия элементов покрытия и
ментов обрабатываемого материала, либо из элементов подложки). В таком случае темпе-
твердых растворов. Благодаря этому химико- ратурный интервал формирования желатель-
термический метод позволяет получать раз- но выбирать таким, чтобы превалировала
личные по составу, а, следовательно, и по фи- диффузия внутренней компоненты. К
зико-химическим свойствам, покрытия, обе- сожалению, это далеко не всегда достижимо.
спечивающие достижение высоких эксплуа- Свойства покрытия зависят от его фазо-
тационных характеристик в агрессивных вого состава и структуры. На практике при
средах в широком диапазоне температур при создании диффузионных покрытий скорость
различных внешних механических нагрузках. их формирования определяет фазовый сос-
Метод позволяет формировать не только раз- тав. В большинстве случаев традиционно
личные по составу покрытия, но и управлять стремятся к максимальной скорости насы-
распределением компонентов в них по тол- щения и к структуре, определяемой максима-
щине, управлять структурой диффузионных льной концентрацией легирующего компо-
слоев. Осложнения для более широкого вне- нента. При силицировании металлов боль-
дрения способов диффузионного насыщения шие скорости насыщения обусловлены тем,
в основном возникают из-за слабой материа- что покрытие состоит в основном из высших
льной базы и технологической дисциплины силицидных фаз, т.е. фаз, наиболее богатых
на промышленных предприятиях, поскольку кремнием.
высокотемпературные печи, как воздушные Поскольку удельные объемные отношения
или с инертной атмосферой, так и вакуумные, этих фаз и исходного металла существенно
уже давно не являются особо дефицитным и различаются, то в процессе насыщения в слое
покрытия возникают значительные напряже-
технологически уникальным оборудованием.

116 ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2


С.В. ЛИТОВЧЕНКО, В.М. БЕРЕСНЕВ, А.А. ДРОБЫШЕВСКАЯ, П.В. ТУРБИН

ния, при релаксации которых в покрытии воз- структуре слоя с непрерывным рядом твердых
никают микро- и макротрещины, поры и растворов. Такое покрытие принципиально
другие дефекты. В процессе эксплуатации отличается от получаемых на практике и
покрытия количество дефектов возрастает, представляющих собой фактически однофаз-
они объединяются в большие образования, ные слои высших соединений, для молибдена
что приводит к быстрому разрушению покры- – это слой MoSi2. Естественно, что все свойс-
тых изделий. Поэтому чрезвычайно важно тва и поведение такого покрытия в процессе
организовать технологический процесс нане- эксплуатации будут отличаться в лучшую сто-
сения покрытия так, чтобы обеспечить посте- рону в отличие от традиционных покрытий.
пенное снижение напряжений по толщине Во многих случаях процесс нанесения покры-
покрытия. Следовательно, вопреки устано- тия можно начинать не обязательно с низшей
вившимся традициям, процессы нанесения фазы, он может быть начат с некой промежу-
покрытия целесообразно осуществлять через точной фазы в зависимости от эксплуатаци-
низшие фазы [34]. онных требований, предъявляемых к по-
На примере системы молибден-кремний крытию.
это означает, что вместо получения однофаз- По стандартной технологии порошкового
ного дисилицидного покрытия необходимо диффузионного силицирования молибдена
предварительно сформировать слой силици- обрабатываемое изделие помещают в кон-
да состава Mo5Si3, который затем последую- тейнер, заполненный порошковой смесью,
щим диффузионным отжигом в порошкооб- содержащей в своем составе кремний.
разном кремнии можно донасытить до фазы Порошковый метод чаще всего реализуют
MoSi2. в двух основных вариантах: безактивацион-
Как известно, идеальным покрытием с точ- ном и с использованием активаторов (ве-
ки зрения равномерного распределения на- ществ, образующих летучие соединения
пряжений, прочности сцепления и, следо- кремния). Силицирование может осуществ-
вательно, высокой термостойкости является ляться в порошках кремния, ферросилиция,
диффузионный слой, представляющий собой карбида кремния и других кремнийсодер-
непрерывный ряд твердых растворов. Такой жащих соединений. В качестве инертных до-
слой, например, образуется в месте контакта бавок, предотвращающих спекание насыща-
молибдена и вольфрама при высокотемпера- ющей среды, используют окись алюминия,
турном (около 2000 °С) отжиге в вакууме. Это шамот, двуокись кремния и др.
же наблюдается при хромировании молиб- Безактивационное силицирование в поро-
дена, вольфрама и других металлов. Однако шке кремния целесообразнее всего осущест-
случаев реализации однофазных слоев с не- влять в вакууме 10–4 – 10–6 мм рт. ст. при тем-
прерывно изменяющейся концентрацией пературах 1250 – 1320 °С. Снижение темпе-
легирующей компоненты от предельного зна- ратуры отжига резко замедляет процесс, а при
чения (на верхней границе) до нуля (на ниж- более высоких температурах происходит спе-
ней границе) существует сравнительно нем- кание шихты. В области высоких температур
ного. В основном жаростойкие покрытия процесс ограничен температурой эвтектики
представляют собой многофазные системы, между кремнием и дисилицидом молибдена
состоящие из последовательного располо- (1400 °С, рис. 1). Насыщающий состав необ-
женных слоев химических соединений и ходимо до начала силицирования отжечь в
ограниченных твердых растворов. В этих вакууме для удаления адсорбированных газов,
случаях процесс нанесения защитного по- наличие которых может сказаться на кинетике
крытия следует вести таким образом, чтобы процесса. Недостатком метода вакуумного си-
общую структуру покрытия хотя бы примерно лицирования является относительно низкая
свести к структуре покрытия, состоящего из скорость формирования покрытия (рис. 3).
непрерывного ряда твердых растворов [35]. При силицировании с активаторами в на-
Соотношение толщин всех фаз покрытия сыщающую среду кроме кремнийсодержащих
должно быть выбрано таким, чтобы струк- веществ добавляются специально подобран-
тура покрытия максимально приближалась к ные ингредиенты, образующие при темпе-

ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2 117


СИЛИЦИДНЫЕ ПОКРЫТИЯ НА МОЛИБДЕНЕ: ПОЛУЧЕНИЕ, СТРУКТУРА, СВОЙСТВА

зволяющий получать наиболее равномерные


по толщине покрытия. При нагревании эта
соль разлагается:
K2SiF6 → 2KF + SiF4. (5)
Выделяющийся в ходе реакции летучий
четырехфтористый кремний легко проникает
к поверхности молибдена, где, в свою оче-
редь, за счет реакций диспропорционирова-
ния атомы кремния высвобождаются для
последующей реакционной диффузии в мо-
либден и образования силицидов.
Активированный способ может быть реа-
Рис. 3. Кинетика вакуумного силицирования молиб- лизован как отжигом в вакуумных условиях
дена при разных температурах, °C: 1 – 900, 2 – 1000, [36], так и отжигом в воздушной атмосфере
3 – 1150, 4 – 1250, 5 – 1350. [37]. Для реализации последнего варианта не-
обходим герметизируемый контейнер для из-
ратурах насыщения легколетучие соединения
делий и насыщающей смеси. Обычно кон-
с кремнием. Такой прием приводит к уско-
тейнер герметизируют плавким затвором или
ренной доставке кремния в реакционную зо- уплотнением пробки жаростойкой оксидно-
ну, что, в конечном итоге, ускоряет процесс
силикатной замазкой.
роста покрытия.
Термодинамике и реакционной диффузии
Кроме того, активационный метод позво-
при активированном силицировании уделено
ляет легко вводить различные легирующие
достаточно много внимания [24, 38].
элементы в состав покрытия и за счет интен-
Существенным недостатком активирован-
сификации процесса насыщения позволяет
ного силицирования, зачастую нивелирую-
несколько снизить по сравнению с вакуум-
щим его достоинства, является отсутствие га-
ным силицированием температуру процесса
рантированной воспроизводимости качества
(рис. 4). Количество активатора в смеси обыч-
защитного покрытия. Как правило, это свя-
но не превышает 5 – 7%. Хорошими актива-
занно с возникающими в процессе силици-
торами являются галогены, которые по эффек-
рования неравновесными эффектами. Сюда
тивности активирующего действия распола-
прежде всего относится возникновение гра-
гаются в ряд F → Cl → Br → I.
диентов температуры в реакционной зоне из-
за тепловых эффектов протекающих хими-
ческих реакций и плохого теплоотвода, что
приводит к появлению так называемого ано-
мального силицирования, т.е. резкой неравно-
мерности (более чем в 10 – 20 раз) толщины
защитного слоя.
Получение неравномерных по толщине си-
лицидных слоев на больших по количеству
партиях изделий ставит под сомнение при-
менение данного способа в промышленных
масштабах. В тоже время нельзя не отметить
больших потенциальных возможностей такой
Рис. 4. Кинетика активированного силицирования мо- технологии получения покрытий ввиду боль-
либдена при разных температурах, °C: 1 – 900, 2 – 1000, ших скоростей их формирования. Весьма ве-
3 – 1150.
роятно, что в случае положительного реше-
По заключению авторов [30] прекрасными ния задачи использования тепловых эффек-
активационными свойствами обладает крем- тов для интенсификации процесса силици-
нефтористый калий K2SiF6, достаточно эффе- рования, данная технология найдет широкое
ктивный даже в малых концентрациях и по- применение.

118 ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2


С.В. ЛИТОВЧЕНКО, В.М. БЕРЕСНЕВ, А.А. ДРОБЫШЕВСКАЯ, П.В. ТУРБИН

Одним из вариантов преодоления сформу- пример, наличие примеси алюминия приво-


лированных проблем является проведение дит к тому, что существенно большая, по срав-
отжига изделий во вращающейся реторте. Та- нению с кремнием, упругость его пара пре-
кой технологический прием позволяет улуч- пятствует доставке кремния к реагирующей
шить гомогенизацию насыщающей смеси при поверхности. С другой стороны, в результате
отжиге и ослабить негативное влияние некон- удаления примесей алюминия в условиях
тролируемого выделения тепла химических вакуумного силицирования концентрация его
реакций при реакционной диффузии. паров над реагирующей поверхностью все
В случае получения покрытия диффузи- время уменьшается. Таким образом, при сили-
онного типа процесс состоит из нескольких цировании в порошке кремния с небольшими
основных стадий: хемосорбции частиц насы- примесями алюминия на реагирующей по-
щающего элемента, образования химического верхности толщина слоя не оказывает в неко-
соединения (силицида), диффузии насыщаю- тором интервале толщин влияния на кине-
щего элемента через образовавшийся слой тику роста покрытия, поскольку по сравнению
покрытия. Основной особенностью периода с параболическим законом слой в этом случае
хемосорбции и начала роста слоев является
растет с некоторым ускорением. В случае до-
отсутствие равновесия на границах фаз, то
статочно толстых слоев это приводит к прям-
есть на этой стадии процесса концентрации
олинейному закону роста силицидного слоя.
реагирующих веществ переменны.
Прямолинейный закон роста силицида мо-
При формировании достаточно толстых
жет реализоваться не только в случае компак-
слоев в неравновесный период кинетика их
роста может подчиняться прямолинейному тных достаточно толстых однофазных слоев,
временному закону. Это возможно тогда, когда но и в случае многофазных слоев. Причиной
лимитирующим скорость насыщения процес- этого также является отсутствие равновесия
сом является химическая реакция образования на фазовых границах. Можно всегда так выб-
силицида на границах фаз. Чаще всего линей- рать температуру силицирования, что в опре-
ный рост толщины слоя наблюдается на на- деленном интервале толщин слоев скорость
чальной стадии силицирования, длитель- роста всего слоя будет подчиняться прямоли-
ность этого этапа определяется многими фак- нейному временному закону, представляю-
торами, в первую очередь температурой от- щему собой огибающую семейства несколь-
жига и активностью насыщающего элемента ких парабол
в реакционном пространстве. y2 = kt + A, (6)
С течением времени вследствие увеличе- где А – переменный параметр, характеризую-
ния толщины силицидного слоя определяю- щий время зарождения фазы.
щим процессом вместо скорости химических Разумеется, с увеличением толщины как
реакций на границах фаз становится диффузия отдельной фазы, так и всего слоя с течением
атомов кремния через образовавшийся слой, времени на фазовых границах устанавлива-
и прямолинейная зависимость толщины по- ется равновесие, и прямолинейный закон
крытия от длительности силицирования сме- роста слоев переходит в параболический, по-
няется параболической зависимостью. Стро- скольку скоростноопределяющим процессом
го говоря, параболический закон начинает становится диффузия.
выполняться с того момента, когда на фазовых Кинетика роста соединений и процесс фа-
границах установилось постоянство концент- зообразования в тонкопленочных или доста-
раций связанного в химическое соединение точно тонких силицидных слоях изучены еще
кремния. недостаточно.
Описанная схема роста силицидных слоев Важнейшим фактором, обеспечивающим
значительно усложняется при наличии тре- необходимую надежность работы изделий с
тьего элемента, участвующего в химической покрытиями, является стабильность силици-
реакции. Во многих случаях такими допол- дов. При формировании силицидов под ста-
нительными элементами могут быть техно- бильностью понимают равномерность слоя
логически неконтролируемые примеси. На- на всей обрабатываемой поверхности и вос-

ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2 119


СИЛИЦИДНЫЕ ПОКРЫТИЯ НА МОЛИБДЕНЕ: ПОЛУЧЕНИЕ, СТРУКТУРА, СВОЙСТВА

производимость результатов силицирования, тором временном масштабе (чаще всего – при


а при эксплуатации – максимально длитель- малых интервалах времени между некими
ное сохранение их фазового состава и струк- произвольно выбранными рассматриваемы-
туры. Для лучшей реализации защитных ми состояниями системы) условия будут за-
свойств силицидных покрытий необходимо метно неравновесными, систему необходимо
знать соответствие между эксплуатационны- описывать неравновесной фазовой диа-
ми показателями покрытий и их структурно- граммой, где возможно достаточно сильное
фазовыми характеристиками, уметь коррек- смещение положения фазовых границ от име-
тировать процесс формирования для полу- ющихся на равновесной диаграмме.
чения покрытий необходимого фазового сос- Последовательность зарождения и роста
тава, макро-, мезо- и микроструктуры. силицидов молибдена во многом определя-
Стабильность роста силицидов при диф- ются технологическими параметрами обра-
фузионном насыщении в порошковых средах ботки, в первую очередь составом насыщаю-
может самопроизвольно нарушаться вследст- щей среды и температурой отжига. При диф-
вие неконтролируемого возникновения так фузионном росте дисилицидного покрытия
называемой “аномально быстрой” диффузии на молибдене между фазами Mo и MoSi2 все-
[3]. Это явление, характеризующееся резким гда имеются либо отдельные зародыши, либо
ростом скорости образования силицидов и сплошные прослойки низших силицидов
наблюдавшееся на молибдене и других туго- Mo5Si3 и Mo3Si, толщины которых обычно
плавких металлах, чаще всего имеет катастро- достаточно малы и зависят от режима сили-
фические последствия для обрабатываемых цирования.
изделий [39, 40]. Если в силу каких-либо причин в зоне реа-
Можно указать несколько причин возни- кции образуется жидкая фаза, то в условиях
кновения аномально быстрой диффузии. Во- избытка кремния в среде произойдет насы-
первых, интенсификация процесса силици- щение жидкости эвтектического состава кре-
рования может быть вызвана возникновени- мнием до состава MoSi2 и затвердевание этой
ем в некоторый момент в зоне между сили- фазы на заднем фронте жидкой зоны. Поско-
цидным слоем и металлом жидкой прослой- льку образование быстро растущего силицид-
ки. Косвенным подтверждением этого явля- ного слоя происходит со значительным уве-
ется тот факт, что скорость роста силицидов личением объема, в нем наблюдается большое
в ряде случаев была соизмерима со ско- количество сквозных пор и трещин. Находясь
ростями, присущими жидкофазному сили- в динамическом равновесии, тонкая про-
цированию. Отличие от известных механиз- слойка жидкости будет продвигаться внутрь
мов жидкофазного насыщения состоит в том, образца, оставляя за собой легко проницае-
что жидкая фаза, вероятно, узко локализована мый для кремния пористый слой дисилици-
в зоне реакции и продвигается внутрь образца да. При этом абсолютное количество тепла,
в процессе силицирования. При этом дос- выделяющееся в контейнере, остается не-
тавка кремния в жидкую фазу не лимити- большим, так как масса вещества, находяще-
руется растущим слоем, а осуществляется гося при высокой температуре, невелика по
через поры и трещины в нем. Обычно при сравнению с общей массой образцов. В по-
типичных для порошкового диффузионного льзу высказанных соображений свидетельст-
силицирования температурах насыщающего вует также то, что не обнаружено сведений
отжига образование жидкой фазы иниции- об экспериментально зафиксированном пла-
руют случайные или специально введенные влении кремния в насыщающей смеси, т. е.
примеси в насыщающей смеси. общая температура процесса не превышает
При отсутствии в реакционном объеме по- 1683 K – температуру плавления кремния [41].
сторонних веществ (примесей) температура Во-вторых, рост силицидов может уско-
образования жидкой фазы в зоне реакции риться вследствие локального повышения
определяется только диаграммой состояния температуры в отдельных участках реакци-
системы. Необходимо заметить, что в неко- онного объема. Имеющиеся в литературе све-
дения о диффузионном формировании си-

120 ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2


С.В. ЛИТОВЧЕНКО, В.М. БЕРЕСНЕВ, А.А. ДРОБЫШЕВСКАЯ, П.В. ТУРБИН

лицидных покрытий практически не содер- Таблица 2


жат данных о влиянии большинства гетеро- Коэффициент диффузии кремния при
генных химических реакций, протекающих в активированном силицировании
ходе процесса силицирования, на результат T, °C 1100 1200 1400 1500 1700 1800 1900 2000
насыщения, в описаниях и расчетах не учтено D×
также влияние на насыщение тепловых эф- 10–6, 6,2 117 260 700 3600 7400 1400 2500
фектов этих химических реакций. м2/с
По привычке или для упрощения рассмот- Полученный результат хорошо согласуется
рения вопроса считают, что условия нанесе- с данными работ [38, 43], где для различных
ния покрытий являются изотермическими этапов насыщения эффективные коэффициен-
или термически контролируемыми, а скорость ты рассчитаны по формуле:
химических реакций сравнительно мала. За- D = 0,63DSi + 0,37DMo. (8)
метим, что это предположение приемлемо Видно, что рост температуры от 1100 до
только при работе с небольшими образцами, 1800 °С увеличивает коэффициент диффузии
когда размеры тепловой зоны значительно больше чем в 1000 раз, что сопровождается
превышают размеры поверхности насыще- катастрофически большими толщинами си-
ния. лицидных слоев. Рассчитанные толщины ди-
Известно, что реакция образования диси- силицидного покрытия, полученного активи-
лицида молибдена – это экзотермическая ре- рованным силицированием в течение 40 ча-
акция с теплотой образования соединения
сов, представлены в табл. 3.
54,4 кДж/моль [1]. В зависимости от условий Таблица 3
насыщения скорость тепловыделения может Расчет толщин силицидных слоев при
быть либо меньше скорости теплового рассея- активированном силицировании
ния, либо больше ее. в течение 40 часов
Весьма существенная разница в тепло-
T, °C 1100 1200 1300 1400 1500 1700 1800 1900 2000
проводности силицида и молибдена (или
h⋅10–6, 86 117 328 561 920 2088 2993 4117 5500
другого металла), с одной стороны, и недо- м
статочный теплоотвод по сечению металла,
с другой стороны, могут создать условия для Анализ экспериментальных результатов и
неконтролируемой концентрации тепла. Яс- расчетов позволяет сделать предположение,
но, что при достаточном поступлении крем- что во время процесса диффузионного насы-
ния начнется самопроизвольный разогрев щения возможно локализованное в отдель-
зоны реакции. ных зонах повышение температуры до 1800
Величина локального перегрева будет оп- – 2000 °С. Такое превышение температуры
ределяться степенью теплового экранирова- над стандартными значениями приводит к
ния зоны от окружающей среды, зависящей, созданию новых условий для реализации на-
в свою очередь, как от толщины уже имею- сыщения.
щегося силицидного слоя, так и от величины Анализ известных данных и результатов
потока кремния в зону реакции. Вполне ве- многочисленных экспериментов авторов по-
роятно, что при определенных сочетаниях казал, что случаи аномального процесса на-
этих факторов возможно значительное ло- сыщения возможны лишь при условии, если:
кальное повышение температуры. – результатом обработки является покрытие,
Естественно, что повышение температуры практически полностью состоящее из диси-
вызывает резкий рост скорости насыщения. лицида, а низшие силицидные фазы отсутст-
Экспериментально полученные значения вуют;
толщин силицидных слоев позволили вычи- – состояние высокотемпературной зоны во
слить параболические константы скоростей время отжига является независимым от вне-
роста дисилицида [42], а также выяснить тем- шнего воздействия (статические условия от-
пературную зависимость коэффициента диф- жига).
фузии кремния (табл. 2), которая имеет вид: Первое условие достаточно часто выпол-
D = 0,8exp(–28800/T)⋅104 м2/с. (7) няется, так как данный случай соответствует

ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2 121


СИЛИЦИДНЫЕ ПОКРЫТИЯ НА МОЛИБДЕНЕ: ПОЛУЧЕНИЕ, СТРУКТУРА, СВОЙСТВА

наиболее скоротечным процессам формиро-


вания покрытий, а, следовательно, самым эко-
номичным. Стремление максимально быстро
обеспечить наибольшую концентрацию леги-
рующего элемента обуславливает большие
скорости диффузии. Кроме резкого повыше-
ния вероятности возникновения аномального
процесса, это сопровождается дополнитель-
ной чрезмерной концентрацией напряжений
в покрытии, что приводит к повышению де-
фектности. Рис. 5. Участки аномально быстрого роста силицида
Об уместности и справедливости второго (диаметр исходного образца 6 мм).
условия говорит тот факт, что аномальные
помощью малого количества локализованной
процессы ни разу не зафиксированы при ис- примеси в случае объемного образца (пруток
пользовании дополнительных технологичес- молибдена диаметром 6 мм) зависят от сте-
ких приемов, например, при проведении от- пени пористости затвердевающего MoSi2 и не
жига во вращающейся реторте. Объяснить это всегда воспроизводятся. Для облегчения про-
можно тем, что постоянное перемешивание никновения кремния в жидкую зону, изготав-
вещества в реторте способствовало протека- ливался образец в виде диска из предвари-
нию теплообменных процессов и не приво- тельно просилицированной молибденовой
дило к локальной концентрации тепла хими- фольги толщиной 100 мкм. При повторном
ческих реакций образования силицидов. силицировании такого планарного “двумер-
Явление неизотермической диффузии име- ного” образца в присутствии локализованной
ет место и в других системах (например, медной примеси (1 мг) кремний из насы-
W-Si, Nb-Si, Ta-Si), что подтверждает его об- щающей среды проникал непосредственно в
щий характер хотя бы относительно тугоплав- жидкую зону реакции, а не через пористый
ких металлов. Классический теоретический продукт реакции как в случае объемного об-
подход позволяет описывать процесс сили- разца.
цирования или очень ограниченно, или то- Образовавшийся в результате иницииро-
лько качественно. Безусловно, что аномаль- ванной реакции силицид (рис. 6) имел тол-
ные явления такое описание не охватывает. щину, приблизительно равную толщине
Эффект аномально быстрого роста силицид- исходной фольги и концентрично гофриро-
ных слоев может быть лучше интерпретиро- ванную поверхность с центром в месте кон-
ван в рамках теории необратимых термоди- такта фольги с медной примесью.
намических процессов, но соответствующие
теоретические работы применительно к рас-
сматриваемой системе авторами не найдены.
Ускоренный рост силицидного слоя может
быть локализован в небольших областях
(рис. 5). Однако чаще всего он распространя-
ется на значительные расстояния или даже
на весь образец. Можно утверждать, что даже
если начало реакции инициируется приме-
сью, то в дальнейшем реакция образования
силицидов идет самостоятельно.
Дополнительным подтверждением дан-
ного утверждения стали результаты экспери-
мента по управляемому инициированию
ускоренного роста силицида [41]. Было уста- Рис. 6. Рост силицида, инициированный локализованной
новлено, что условия “зажигания” реакции с медной примесью [3].

122 ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2


С.В. ЛИТОВЧЕНКО, В.М. БЕРЕСНЕВ, А.А. ДРОБЫШЕВСКАЯ, П.В. ТУРБИН

Такой вид поверхности обусловлен уве- ределяются особенностями технологии его


личением удельного объема при образовании формирования, а также исходным состоянием
дисилицида молибдена. В условиях, когда и дефектностью молибденовой подложки.
движение просилицированной насквозь Начнем с оценки влияния подложки. Мик-
части образца было ограничено по диаметру роструктура подложки во многом определяет
материалом контейнера, а вверху и внизу – механические и коррозионные свойства ком-
уплотняющимся порошком кремния, увели- позитов металл – защитное покрытие. Для
чение объема приводило к образованию предотвращения недопустимых изменений
складок в виде концентрического гофра. Этот необходимо знать, как она меняется в ходе
гофр должен быть достаточно пластичным, технологического процесса формирования
так что этот факт может служить дополни- покрытия.
тельным доказательством существования ра- Наиболее распространенными промыш-
зогретой локализованной зоны реакции. ленными марками молибдена украинского и
Необходимо отметить, что диффузионные российского производства являются марки
покрытия наследуют геометрию подложки и, “Молибден чистый” (МЧ) и “Молибден
естественно, только развивают и усиливают чистый вакуумплавленый полированный”
все ее дефекты. Это одна из существенных (МЧВП). Данные материалы близки по хими-
причин недостаточной воспроизводимости ческому составу (табл. 4), однако отличаются
результатов силицирования. Кроме этого, к по способу получения. Отметим, что молиб-
образованию и росту трещин и ухудшению за- деновый прокат ведущих мировых произво-
щитного действия покрытия приводят боль- дителей имеет близкий состав [46, 47].
шие (почти трехкратные) изменения объема Прутки марки МЧ получают методами по-
при образовании новых фаз в ходе реакцион- рошковой металлургии (экструзия со спека-
ной диффузии в системе кремний-молибден. нием), а прутки марки МЧВП подвергают ва-
Аналогичные изменения происходят и в куумной плавке с последующей полировкой.
системах с другими тугоплавкими металлами, Указанные особенности технологии изготов-
например вольфрамом. Вследствие таких ления приводят к разной степени деформа-
больших объемных изменений в слое диси- ции исходного материала, которая обычно не-
лицида возникают внутренние напряжения, известна потребителю.
приводящие к растрескиванию покрытия. Микроструктура пруткового молибдена
Подбор оптимальной толщины покрытия и марок МЧ и МЧВП существенно различна. На
скорости его формирования позволяют не- шлифах образцов молибдена МЧ наблюдают-
сколько снизить растрескивание, однако не ся преимущественно большие полиэдричес-
устраняют его полностью. Наиболее замет- кие зерна диаметром 25 – 120 мкм, хотя зерна
ный эффект дает двухстадийное или многоста-
с линейными размерами больше 100 мкм
дийное формирование дисилицидов через
встречаются сравнительно редко.
низшие силициды соответствующих метал-
Подавляющее большинство кристаллитов
лов [15, 44, 45].
(свыше 70% общей площади шлифов) имеют
размеры 25 – 60 мкм, средний размер около
СТРУКТУРНО-ФАЗОВЫЕ ХАРАКТЕРИ-
СТИКИ ДИФФУЗИОННЫХ СИЛИЦИД- 35 мкм. Образцы марки МЧ имеют сравни-
НЫХ ПОКРЫТИЙ НА МОЛИБДЕНЕ тельно большое количество поверхностных и
Как уже указывалось, фазовый состав, микро- объемных дефектов, в первую очередь зака-
и макроструктура силицидного покрытия оп- танных микротрещин, волосовин и пор. Наи-
Таблица 4
Химический состав молибденового прутка и полосы [48, 49]
Содержание элементов, массовая доля, %
Марка
молибдена не менее не более
Мо Са+Мg Ni Si Fe Al N C H
МЧ 99,95 0,005 0,005 0,012 0,014 0,004 – 0,01 –
МЧВП 99,91 0,005 0,005 0,014 0,014 0,004 0,005 0,03 0,0008

ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2 123


СИЛИЦИДНЫЕ ПОКРЫТИЯ НА МОЛИБДЕНЕ: ПОЛУЧЕНИЕ, СТРУКТУРА, СВОЙСТВА

большую концентрацию дефектов имеет при- Молибден с меньшим размером зерна име-
поверхностный слой толщиной до 250 мкм. ет более высокий предел текучести, который
В образцах молибдена марки МЧВП пре- быстро уменьшается с ростом температуры.
обладающая ориентация зерен не выявлена, Такое снижение предела текучести в перехо-
структура мелкозернистая, средний размер дной зоне типично для молибдена и других
зерна на шлифе – около 10 мкм. металлов, которые претерпевают переход от
При высокотемпературном отжиге для хрупкого к вязкому состоянию, и является ос-
формирования покрытия происходит не новной причиной изменения пластичности.
только насыщение кремнием поверхности и В работе [51] указывается, что спеченный
реакционная диффузия с образованием си- молибден марки МЧ обладает устойчивой ве-
лицидов, вследствие рекристаллизации весь- личиной зерна при нагреве по крайней мере
ма существенно может меняться микрострук- до 1400 °С; лишь при 1800 °С наблюдается
тура молибденовой подложки. заметный рост зерен. Для образцов такого
Процесс рекристаллизации молибдена и молибдена наблюдается увеличение средне-
его влияние на механические свойства ис- го размера зерна от 31,5 мкм в исходных до
следованы достаточно подробно [50, 51]. По- 44,5 мкм после отжига при 1800 °С. Для мо-
скольку молибден изоморфен при всех темпе- либдена МЧВП исходная величина зерна су-
ратурах, его микроструктура определяется щественно меньше – около 8 мкм, при отжи-
исключительно характером предшествующих ге (1800 °С) она заметно увеличивается (до
воздействий: особенностями литья, кристал- 43,7 мкм), т.е. практически сравнивается с
лизации, термомеханической обработки. Как показателями молибдена МЧ.
и для других металлов, температура рекри- Высокотемпературный вакуумный отжиг
сталлизации молибдена зависит от времени молибдена приводит к росту зерна, вызван-
выдержки и степени обжатия, причем для ному в основном собирательной рекристал-
литого и спеченного молибдена процессы лизацией. Повышение температуры отжига
роста зерна протекают по-разному. Спечен- до 1800 °С не только интенсифицирует соби-
ный молибден обладает устойчивой вели- рательную рекристаллизации, но и вызывает
чиной зерна при нагреве по крайней мере до вторичную рекристаллизацию. Рекристал-
1700 °С, лишь при 1800 °С наблюдается рост лизация в молибдене марки МЧВП протекает
зерен. Нормальный рост зерна в литом мо- быстрее, чем в молибдене МЧ.
либдене гораздо заметнее, причем достаточ- Анализ процесса рекристаллизации мо-
но быстро (спустя 100 мин. при 1525 °С или либдена позволяет сформулировать положе-
10 мин. при 1800 °С) образуется очень грубая ния, которые необходимо учитывать при осу-
структура с зернами неправильной формы. ществлении диффузионного силицирования
Такой характер роста зерен объясняется вто- молибдена.
ричной рекристаллизацией. Авторы работы Во-первых, поскольку микроструктура си-
[52] связывают такое различие в характере лицидного покрытия наследует большинство
роста зерен с содержанием кислорода и уг- дефектов молибденовой подложки, все струк-
лерода в исследованных образцах. В исход- турные изменения в этой подложке только
ном состоянии образцы и литого, и спечен- ухудшают состояние покрытия.
ного молибдена являются хрупкими. Улуч- Во-вторых, в большинстве случаев диф-
шение пластичности молибдена наблюдает- фузионный отжиг длится достаточно долго
ся только после деформации и только при на- (десятки часов), так что рекристаллизация мо-
личии однородной мелкозернистой структу- либденовых подложек весьма существенна.
ры. При более мелком зерне наблюдается бо- В-третьих, вакуумное силицирование, осу-
лее низкая температура вязко-хрупкого пе- ществляемое при сравнительно более высо-
рехода, так что и при комнатной температуре ких температурах (1350 – 1800 °C в зависи-
молибден может находиться в пластичном мости от насыщающей среды и вида покры-
или в хрупком состоянии в зависимости от тия), является предпочтительным, поскольку
размера зерна [52]. для разных сортов молибдена размерные ха-

124 ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2


С.В. ЛИТОВЧЕНКО, В.М. БЕРЕСНЕВ, А.А. ДРОБЫШЕВСКАЯ, П.В. ТУРБИН

рактеристики зеренной структуры сближа- Ближе к подложке металла структура диси-


ются, при силицировании можно пользовать- лицида изменяется, равноосные зерна усту-
ся одной технологией и совместно обраба- пают место столбчатым кристаллам. При со-
тывать разносортные изделия. хранении поперечных размеров зерен весьма
В-четвертых, хотя активированное сили- заметно увеличение их размеров в радиаль-
цирование является более высокоскоростным ном направлении (т. е. перпендикулярно фа-
процессом, оно проводится при температу- зовым границам). Даже при толщине слоя
рах, где рекристаллизация молибдена проте- около 500 мкм не менее половины зерен име-
кает замедленно. Поэтому для минимизации ют длину, равную толщине самого слоя. Неко-
нежелательных структурных изменений ну- торые объяснения таких структурных измене-
жно адаптировать технологию под каждый ний дают термодинамические расчеты и
сорт молибдена и каждый вид покрытия, что масс-спектрометрические исследования [21,
неизбежно сопряжено с дополнительными 37, 38].
экономическими затратами и проблемами Морфология поверхности исходного ме-
воспроизводимости результатов. талла, задаваемая технологией его изготов-
Перейдем к характеристикам покрытий. ления и последующей обработки, сущест-
Поскольку наиболее распространенными спо- венно влияет на геометрические параметры
собами формирования диффузионных сили- образцов при формировании силицидов. Ча-
цидных покрытий на молибдене являются ак- ще всего именно поверхностные дефекты
тивированное и безактивационное насыще- подложки служат причиной появления в ди-
ние из кремнийсодержащих сред, мы будем силициде большого количества зерен кони-
рассматривать особенности структурно-фазо- ческой или веретенообразной формы (эллип-
вого состояния покрытий, полученных этими соиды или усеченные эллипсоиды). Удель-
методами. ный вес таких зерен при активированном си-
Как уже указывалось, при силицировании лицировании составляет 30 – 85%. В усло-
молибдена в насыщающих смесях, содержа- виях вакуумного отжига зарождение и рост
щих элементарный кремний (т.е. кремний в “нормальных” зерен цилиндрической или
несвязанном в химические соединения сос- призматической формы является более слу-
тоянии), получаемое покрытие практически чайным.
полностью состоит из дисилицида молиб- Необходимо добавить, что на дефектность
дена. При достаточно толстых слоях MoSi2 покрытия (рис. 7) кроме скорости насыщения
(сотни микрометров) на его границе с метал- и дефектности подложки заметно влияет фор-
лической подложкой могут наблюдаться тон- ма образцов, точнее – кривизна поверхности:
кие прослойки низших силицидов. покрытие на плоскости гораздо качественнее,
Микроструктура дисилицидов молибдена, чем на боковой поверхности цилиндра. По-
полученных разными методиками, различна. нятно, что это связанно с объемными изме-
При активированном силицировании припо- нениями при реакционной диффузии. Раз-
верхностная прослойка дисилицида имеет личия в дефектности покрытия заметны даже
равноосную сравнительно мелкодисперсную в случае, когда радиус образца на порядок
структуру с линейными размерами зерен до превосходит толщину силицидного слоя.
30 мкм. Зерна с размерами до 10 мкм состав- При вакуумном силицировании размер
ляют не больше четверти общего объема си- зерна подложки существенно влияет на ско-
лицидов. Более крупные зерна (свыше 20 мкм) рость роста силицидного слоя, но практичес-
составляют до 15% объема, хотя их количест- ки не влияет на размер зерен в нем. Получае-
мые покрытия почти полностью сформиро-
во, разумеется, намного меньше, чем мелких.
ваны столбчатыми крупными зернами диси-
Толщина указанной прослойки составляет
лицида, большинство межзеренных границ
около 30 – 40 мкм и существенно не увели-
ориентировано перпендикулярно границе с
чивается даже при весомом увеличении об-
металлом. В этом направлении большинство
щей толщины слоя покрытия.
зерен имеют размер, определяемый толщи-

ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2 125


СИЛИЦИДНЫЕ ПОКРЫТИЯ НА МОЛИБДЕНЕ: ПОЛУЧЕНИЕ, СТРУКТУРА, СВОЙСТВА

а) б)
Рис. 7. Дефекты в тонком слое MoSi2, полученном активированным методом: а) – поры; б) – сквозные трещины;
РЭМ, Quanta 200 3D.
ной самого слоя покрытия. Описанная струк- кую форму с диаметром основания 15– 25 мкм,
тура покрытия сохраняется как при обработке но присутствуют также зерна “веретенообра-
молибдена марки МЧ, имевшего изначальную зной” формы (сильно вытянутые эллипсои-
крупнозернистую структуру, так и при обра- ды). При толщине слоя около 300 мкм до 70%
ботке изначально мелкозернистого молиб- зерен в радиальном направлении (перпенди-
дена марки МЧВП. кулярно основе) имеют длину, равную толщи-
Зафиксированные различия микрострук- не слоя силицида. В некоторых межзеренных
туры MoSi2, сформированного различными границах имеются поры, но их количество не-
методами на разных по качеству и геометрии значительно. При более высоких температу-
исходных образцах, свидетельствуют о важ- рах насыщения нарушается прямолинейность
ности степени реализации термодинамичес- фазовой границы молибден – силицид. Гра-
кого и химического равновесия в ходе фазо- ница на поперечном шлифе несколько напо-
образования и роста силицида. минает синусоидальную кривую с чередую-
Для получения покрытия из низших сили- щимися выступами и впадинами. Вследствие
цидов молибдена необходимо снизить актив- такой формы границы толщина силицидного
ность кремния в системе и сместить термоди- слоя колеблется в пределах до 15 – 25%.
намические характеристики процесса так, Введение в насыщающую смесь несколь-
чтобы образование дисилицидной фазы ста- ких процентов порошка меди или ее оксидов
ло невозможным. приводит к резкому измельчению кристал-
Простейшей технологией получения по- литов силицида. Прослойку силицида Mo5Si3
крытия из силицидной фазы Mo5Si3 является при таких условиях формирования составляли
диффузионный отжиг молибдена в насыща- зерна размером не больше 6 мкм, подавляю-
ющей смеси из крупнозернистого (3 – 10 мм) щее большинство зерен имело средний раз-
порошка дисилицида молибдена. Оптималь- мер около 4 мкм. Значительных дефектов в
ная температура отжига составляет 1700 – силициде не наблюдалось. Аналогичные ре-
1800 °С и ограничена сверху температурой зультаты (причем и при формировании ди-
эвтектики между фазами MoSi2 и Mo5Si 3. силицидного покрытия в смесях с кремнием)
Использование крупнодисперсного порошка получаются при предварительном нанесении
позволяет исключить спекание насыщающего пленки меди на поверхность молибдена или
вещества с обрабатываемыми изделиями. отжиге молибдена в порошке меди [53 – 56].
Покрытие состава Mo5Si3, полученное пут- Подобная мелкодисперсная структура сили-
ем вакуумного насыщения, имеет классичес- цида реализуется также в сравнительно тон-
кую “столбчатую” структуру, но отличается ких силицидных пленках, сформированных
значительно более равномерными размерами при распылении или испарении кремния и
зерен. Большинство их имеют цилиндричес- его конденсации на молибденовой подложке.
126 ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2
С.В. ЛИТОВЧЕНКО, В.М. БЕРЕСНЕВ, А.А. ДДРОБЫШЕВСКАЯ, П.В. ТУРБИН

Небольшие температуры (до 800 °C), кратко- Двухслойное силицидное покрытие может
временность отжига (0,5 – 2 часа) и значи- быть получено и одностадийным отжигом.
тельно более высокие скорости охлаждения Для этого в качестве насыщающих смесей
при конденсации в указанном случае (по- нужно использовать соединения кремния с
добно условиям сверхбыстрой закалки) яв- большей упругостью пара кремния над по-
ляются факторами, которые обеспечивают та- верхностью, чем у дисилицида молибдена.
кие микроструктурные особенности образо- Необходимым требованиям удовлетворяют,
ванных силицидов. Необходимо отметить, например, дисилициды вольфрама, тантала,
что в пленках может наблюдаться иной (по титана, ниобия. Вакуумный отжиг молибдена
сравнению с массивными силицидными сло- в таких составах приводит к формированию
ями) порядок образования фаз и возможна комплексного двухслойного силицидного по-
реализация других кристаллических решеток. крытия [57], однако толщина фазы Mo5Si3 в
Двухстадийный последовательный отжиг нем составляет всего 10 – 20%.
образцов молибдена сначала в дисилициде Добавление к указанным составам грану-
молибдена, а потом в кремнии приводит к лированного порошка MoSi2 позволяет регу-
формированию комплексного силицидного лировать объемное соотношение различных
слоя, который образован поверхностной
силицидных фаз в покрытии [58], хотя и за-
прослойкой дисилицида и внутренней про-
медляет скорость роста покрытия. Микро-
слойкой низшего силицида состава Mo5Si3
структура дисилицидной прослойки в ком-
(рис. 8). Общая толщина покрытия и толщины
плексном покрытии большей частью столб-
отдельных прослоек регулируются темпера-
чатая с незначительным количеством дефек-
турно-временными параметрами отжигов.
тов и сравнительно небольшими расхожде-
а) ниями в размерах кристаллитов. Микрострук-
тура прослойки состава Mo5Si3 определяется
условиями формирования и может быть
представлена как мелкими полиэдрическими
зернами, так и довольно большими цилинд-
рическими и эллипсоидными.
Повышение температуры отжига комп-
лексного двухфазного покрытия до 1870 –
1900 °C может привести к контактному плав-
лению на границе силицидных фаз и образо-
ванию в покрытии эвтектической прослойки
(рис. 9).
Толщина этой прослойки очень быстро
возрастает со временем. Несоблюдение тем-
б) пературно-временных условий отжига при
предэвтектических температурах приводит к

Рис. 8. Комплексное силицидное покрытие на молиб-


дене: а) – микроструктура; б) – морфология поверхнос-
ти шлифа, 1 – Мо, 2 – Mo5Si3 , 3 – MoSi2; Quanta 200 3D.
а)

ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2 127


СИЛИЦИДНЫЕ ПОКРЫТИЯ НА МОЛИБДЕНЕ: ПОЛУЧЕНИЕ, СТРУКТУРА, СВОЙСТВА

б) рактеристик формируемых покрытий, кото-


рые необходимо учитывать при конструиро-
вании защитных слоев реальных промышлен-
ных изделий.

ФАКТОРЫ, ОПРЕДЕЛЯЮЩИЕ ДЕГРА-


ДАЦИЮ СВОЙСТВ СИЛИЦИДОВ ПРИ
ВЫСОКИХ ТЕМПЕРАТУРАХ
Анализ информации по высокотемператур-
ным защитным покрытиям показал, что в на-
стоящее время наибольшее распространение
получили диффузионные покрытия из выс-
Рис. 9. Прослойка эвтектики MoSi2 – Mo5Si3 в комплекс- шей силицидной фазы МоSi2. Данные по экс-
ном покрытии; 1 – Мо, 2 – силицид Mo5Si3, 3 – эвтекти- плуатационным возможностям таких покры-
ческая прослойка, 4 – MoSi2; а) – тонкий слой, МИМ- тий очень противоречивы, в некоторых случ-
8М, б) – толстый слой, Quanta 200 3D. аях даже взаимоисключающие. Этот факт
образованию большого количества жидкости подтверждает отсутствие единого подхода
и разрушению образца [59, 60]. при оценке функциональных связей в цепи
Высокотемпературный отжиг покрытия из состав покрытия – структура покрытия –
Mo5Si3 интенсифицирует рост прослойки си- свойства покрытия – свойства изделия, а так-
лицида Mo3Si со стороны металла (рис. 10). же определяющее влияние конкретных осо-
Некоторыми технологическими приемами бенностей каждой технологии нанесения по-
отжига можно регулировать этот процесс крытий на работоспособность изделий в це-
[61]. лом.
В оценке разрушающих факторов наблю-
дается значительно большее единство. Ис-
следования поведения дисилицидных по-
крытий в ходе длительной высокотемпера-
турной эксплуатации на воздухе показали,
что существует ряд причин деградации за-
щитных свойств и разрушения таких диф-
фузионных покрытий [60].
Трещины роста. Как указывалось выше,
невоспроизводимость результатов силици-
рования и весьма большой разброс значений
жаростойкости и термостойкости покрытий
закладывается уже в процессе формирования
диффузионного силицидного покрытия, при
котором рост слоя МоSi2 сопровождается уве-
Рис. 10. Прослойка Mo3Si (2) между молибденом (1) и личением объема в 2,6 раза по сравнению с
силицидом Mo5Si3 (3), РЭМ. исходным слоем молибдена. Вследствие
Ниже приведен ряд изображений поверх- таких больших объемных изменений в слое
ности различных силицидных покрытий на дисилицида возникают внутренние напряже-
молибдене (рис. 11). ния, приводящие к образованию трещин в по-
Как следует из рисунков, морфология по- крытии. При этом наиболее уязвимы изделия
верхности формируемых покрытий силици- с большой кривизной поверхности. Благо-
дов молибдена отличается существенным даря слабому сопротивлению растяжения у
многообразием. Это определяет различие фи- силицидов, растрескивание на выпуклых по-
зико-механических и триботехнических ха- верхностях наступает непосредственно в

128 ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2


С.В. ЛИТОВЧЕНКО, В.М. БЕРЕСНЕВ, А.А. ДРОБЫШЕВСКАЯ, П.В. ТУРБИН

а) б) в)

г) д) е)
Рис. 11. Морфология поверхности некоторых силицидных покрытий на молибдене: а) – MoSi2, активированный
способ; б) – силицид Mo5Si3, вакуумный способ; в) – поверхность эвтектики MoSi2-Mo5Si3; г) – пластинчатая
эвтектика MoSi2-Mo5Si3; д) – гексагональный β-MoSi2; е) – кристаллит β-MoSi2 с эвтектикой по границам.

процессе силицирования. Охлаждение, по При окислении молибдена образуется ок-


изложенным выше причинам, усиливает сид MoО3. В связи с высокой летучестью этого
растрескивание. В результате на углах и на соединения окисная пленка, формирующаяся
изгибах силицированных изделий имеет при высокотемпературном окислении сили-
место преимущественное появление трещин, цированной поверхности молибдена, состо-
которые гораздо шире, чем трещины на ит практически из чистой двуокиси кремния.
плоской поверхности, часто видимые только Разрушение силицидных покрытий на молиб-
при тщательном микро-скопическом иссле- дене при относительно низких температурах
довании. Очевидно, что при одной и той же (ниже 1550 °С) происходит в связи с кристал-
толщине покрытия большая кривизна соот- лизацией аморфной пленки SiO2 в местах вы-
ветствует большим возникающим напряже- хода микротрещин на поверхность. Этот про-
ниям. Следовательно, на таких участках по- цесс связан с образованием в трещинах окис-
крытие растрескивается сильнее, а значит не- ла молибдена. Легирование аморфной плен-
обходимо максимально допустимое сглажи- ки двуокиси кремния указанным окислом вы-
вание и закругление (с наибольшим радиу- зывает ее ускоренную кристаллизацию и по-
сом) всех углов и выступов на изделии до его терю защитных свойств.
силицирования. При температурах 1550 – 1800 °C защитная
Кристаллизация аморфного диоксида пленка SiO2 заполняет трещины в силицид-
кремния SiO2. В литературе имеются зачастую ных слоях, увеличивая их жаростойкость.
противоречивые данные по жаростойкости, Уровень жаростойкости силицидов молиб-
как самих силицидов тугоплавких металлов, дена определяется скоростью формирования
так и силицидных покрытий на них. Жаро- этой пленки, а эта скорость, в свою очередь,
стойкость силицидных покрытий на молиб- определяется температурой и концентрацией
дене и вольфраме определяется образующей- кремния, находящегося в пределах области
ся на них защитной пленкой окислов. гомогенности фазы MoSi2 [3, 9]. Содержание

ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2 129


СИЛИЦИДНЫЕ ПОКРЫТИЯ НА МОЛИБДЕНЕ: ПОЛУЧЕНИЕ, СТРУКТУРА, СВОЙСТВА

же кремния в силицидном покрытии зависит ных процессах, и через некоторое время на-
от способа и температуры формирования. чинается образование менее богатой крем-
Защитная пленка SiO2 формируется в ре- нием силицидной фазы Мо5Si3. Теряя крем-
зультате окисления в первоначальный момент ний, дисилицид молибдена превращается в
времени по реакции: Мо5Si3 с уменьшением удельного объема. На-
2MoSi2 + 7O2 = 2MoO3 + 4SiO2. (9) сыщаемый кремнием молибден, напротив,
После формирования пленки SiO2 на всей превращается в низший силицид Мо5Si3 с
поверхности образца скоростноопределяю- увеличением объема.
щим процессом становится диффузия, и окис- Непрерывное изменение объема покрытия
ление дисилицида молибдена происходит по при высокотемпературной эксплуатации при-
реакции: водит к появлению в нем знакопеременных
5MoSi2 + 7O2 = Mo5Si3 + 7SiO2. (10) напряжений, образованию трещин и разви-
Диффузия кислорода через слой SiO2 яв- тию цепочечной пористости. Покрытие со
ляется определяющим жаростойкость фак- временем теряет сплошность, разбивается на
тором после образования сплошной защит- блоки, нарушая даже целостность пленки
ной оксидной пленки. SiO2. По трещинам и порам облегчается до-
Разложение SiO2 при высоких темпера- ступ кислорода во внутренние слои силици-
турах. В области температур, превышающих да, что приводит к потере защитных свойств
2000 – 2050 °C, существенную роль приобре- и выходу изделия из строя. Это явление осо-
тает процесс испарения кремния с поверх- бенно сильно проявляется на выпуклых мес-
ности в виде моноокиси кремния SiО. Такое тах изделий, снижая жаростойкость покры-
испарение снижает эффективность защит- тий.
ного действия пленки диоксида кремния SiО2 Длительность периода полного превра-
в связи с ускоренным утончением последней, щения фаз зависит от толщины исходного по-
повышением ее дефектности и проницае- крытия. Однако для покрытий из высшей фа-
мости. зы существует критическая толщина, выше
Большая разность коэффициентов терми- которой их жаростойкость снижается. Так,
ческого расширения SiО2 и МоSi2. Существен- слой дисилицида молибдена толщиной
ное снижение термостойкости происходит 100 мкм при температуре 1600 °C полностью
из-за значительной разницы коэффициентов переходит в слабо защитный при этой тем-
термического расширения окисной пленки и пературе слой низшего силицида состава
силицидных фаз. В местах трещин, запол- Мо5Si3 за 50 – 60 часов [62]. Использование
ненных двуокисью кремния, толщина пленки более толстых покрытий из МоSi2 позволяет
достигает 100 – 300 мкм, что приводит к кон- несколько продлить ресурс изделий, но стра-
центрации термических напряжений именно тегически не дает желаемых результатов, так
в этих местах и, как следствие, к разрушению как с увеличением исходной толщины покры-
покрытий, эксплуатирующихся в цикличес- тия в нем растут трещины, что приводит к
ком режиме. резкому снижению срока службы покрытия
Рассасывание высшей силицидной фазы. [63]. Более подробно фазовые изменения в
Наиболее существенным пороком диффузион- силицидных покрытиях будут рассмотрены в
ных дисилицидных покрытий из МоSi2 явля- следующем разделе.
ются интенсивные структурно-фазовые изме- Важно отметить, что коррозионное разру-
нения в них (так называемое перераспреде- шение покрытия носит преимущественно
ление фаз) при высокотемпературной эксплу- точечный характер, т.е. изделие выходит из
атации [61]. Причина изменений – изнача- строя даже тогда, когда площадь участков с
льная термодинамическая нестабильность разрушенным покрытием незначительна по
покрытия. сравнению с размерами всего изделия. Свя-
При эксплуатации покрытия в области вы- зано это с высокой упругостью газообразного
соких температур слой МоSi2 служит источ- окисла MoО3, который образуется под точкой
ником кремния при дальнейших диффузион- разрушения в результате взаимодействия

130 ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2


С.В. ЛИТОВЧЕНКО, В.М. БЕРЕСНЕВ, А.А. ДРОБЫШЕВСКАЯ, П.В. ТУРБИН

молибдена с проникающим туда кислородом. щаемый металл, напротив, превращается в


Выходящая из поврежденного места трех- силицид с большим объемом.
окись молибдена MoО3 препятствует залечи- Непрерывное изменение объема покрытия
ванию повреждения пленкой SiO2. Процесс при высокотемпературной эксплуатации при-
разрушения изделия становится необрати- водит к появлению в нем знакопеременных
мым. напряжений, образованию трещин и разви-
тию цепочечной пористости. Покрытие со
ФАЗОВЫЕ ИЗМЕНЕНИЯ В СИЛИЦИД- временем теряет сплошность, что приводит
НЫХ ПОКРЫТИЯХ ПРИ ВЫСОКИХ к потере защитных свойств и выходу изделия
ТЕМПЕРАТУРАХ из строя.
Недостаточная стабильность силицидных по- Вследствие существенных различий в ко-
крытий при высокотемпературной эксплуа- эффициентах термического расширения от-
тации (так называемое перераспределение дельных силицидных фаз ситуация еще боль-
фаз) является наиболее существенным их не- ше усугубляется при термоциклировании из-
достатком [9]. делий с покрытиями. Отметим также, что
При эксплуатации покрытия в области вы- коррозионное разрушение покрытия носит
соких температур дисилицид служит источ- преимущественно точечный характер, т.е. из-
ником кремния при дальнейших диффузион- делие выходит из строя даже тогда, когда пло-
ных процессах, и через некоторое время начи- щадь участков с разрушенным покрытием не-
нается заметный рост низших силицидных значительна по сравнению с размерами всего
фаз, менее богатых кремнием. Схематическое изделия.
изображение происходящих фазовых изме- Основываясь на защитной функции выс-
нений представлено на рис. 12. Теряя крем- ших силицидных фаз, многие исследователи
ний, дисилицид превращается в низший си- теоретически максимальным сроком службы
лицид с меньшим удельным объемом. Насы- покрытия считают время существования ди-
силицидного слоя [62], хотя реальная рабо-
тоспособность обычно существенно меньше
вследствие указанных выше причин.
Борьбе с диффузионным растворением ди-
силицидной фазы и повышением ресурса за-
щитного действия покрытия уделяется до-
статочно большое внимание. Чаще всего ис-
пользуется поверхностное или объемное ле-
гирование, а также формирование промежу-
точных барьерных слоев [64 – 66].
Повысить высокотемпературную стабиль-
ность силицидных покрытий можно путем
создания термодинамически устойчивых по-
крытий, послойная конфигурация и микро-
структура которых обеспечивает минималь-
ные структурно-фазовые изменения за время
заданного срока эксплуатации.
Для разработки технологий формирования
таких стабильных покрытий необходимо пра-
вильно оценивать степень влияния различ-
ных факторов на структурно-фазовое состоя-
Рис. 12. Фазовые изменения в дисилицидном покрытии
ние покрытия при высокотемпературной экс-
в ходе высокотемпературного отжига на воздухе при
1800 °С: а) – исходное покрытие; б) – 3 ч.; в) – 70 ч.; плуатации.
г) – 140 ч.; д) – 300 ч.; е) – 600 ч.; I – MoSi2 ; II– Mo5Si3 ; При высокотемпературной эксплуатации
III – Mo3Si ; IV – SiO2. молибденовых изделий с дисилицидным по-

ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2 131


СИЛИЦИДНЫЕ ПОКРЫТИЯ НА МОЛИБДЕНЕ: ПОЛУЧЕНИЕ, СТРУКТУРА, СВОЙСТВА

крытием вследствие перераспределения фаз шей простотой и удобством. Чаще всего реа-
в некоторый момент времени формируется лизуется смешанный механизм нанесения
промежуточное состояние, соответствующее диффузионного покрытия. В этом случае тем-
слоистому композиту состава Mo-Mo 5Si3- пературный интервал формирования жела-
MoSi2-Mo5Si3-SiO2. тельно выбирать таким, чтобы превалирова-
Экспериментальные графики изменения ла диффузия внутренней компоненты.
положения границ фаз относительно исход- Порошковый метод чаще всего реализуют
ного положения границы молибденовой под- в двух основных вариантах: безактивацион-
ложки и дисилицида близки к параболичес- ном и с использованием активаторов (ве-
ким кривым (идеальная диффузионная тео- ществ, образующих летучие соединения кре-
рия). При временах отжига, по крайней мере, мния). Силицирование может осуществлять-
до 12 часов, наблюдается достаточное согла- ся в порошках кремния, ферросилиция, кар-
сование теоретических и экспериментальных бида кремния и других кремнийсодержащих
результатов. соединений. В качестве инертных добавок,
предотвращающих спекание насыщающей
ВЫВОДЫ среды, используют окись алюминия, шамот,
В настоящее время перечисленные в работе двуокись кремния и др.
методы силицирования совершенствуются, С увеличением толщины отдельной фазы
новое аппаратурное оформление часто при- или всего слоя покрытия с течением времени
водят к возникновению и развитию ориги- на фазовых границах устанавливается равно-
нальных технических вариантов того или весие. При этом прямолинейный закон роста
иного способа. Ряд усовершенствований, на слоев переходит в параболический, поскольку
которые обращено внимание в обзоре, на- процессом, определяющим скорость форми-
правлены на расширение круга диффузион- рования покрытия, становится диффузион-
ных покрытий и интенсификации процессов ный процесс.
их формирования. Различные методики си- Диффузионные покрытия наследуют гео-
лицирования подробно излагаются в перио- метрию подложки и усиливают все ее дефек-
дических изданиях и допускают дальнейшую ты. Это одна из существенных причин недо-
модификацию и совершенствование. статочной воспроизводимости результатов
Виды напыляемых покрытий подразделя- силицирования. Кроме этого, к образованию
ются по назначению: защитные для повыше- и росту трещин и ухудшению защитного дейс-
ния долговечности и надежности в агрессив- твия покрытия приводят большие изменения
ных средах; контактные для повышения рабо- объема при образовании новых фаз в ходе
тоспособности пар трения и герметизации; реакционной диффузии в системе кремний-
специальные для предания поверхности осо- молибден. Аналогичные изменения проис-
бых физических свойств и декоративные. ходят и в системах с другими тугоплавкими
Широко применяются ионно-плазменные металлами, например вольфрамом. Вследст-
методы формирования покрытий. Весьма вие таких больших объемных изменений в
распространено получение силицидов при слое дисилицида возникают внутренние на-
реакционной диффузии кремния в металли- пряжения, приводящие к растрескиванию
ческую подложку. Большинство способов и покрытия. Подбор оптимальной толщины по-
методов диффузионного насыщения рас- крытия и скорости его формирования позво-
смотрены в классификации на основе фазо- ляют несколько снизить растрескивание, од-
вого состояния насыщающей среды. нако не устраняют его полностью. Наиболее
При формировании толстослойных сили- заметный эффект дает двухстадийное или
цидных покрытий на тугоплавких металлах многостадийное формирование дисилици-
чаще всего используются химико-термичес- дов через низшие силициды соответствую-
кие методы, из которых можно выделить газо- щих металлов.
фазное силицирование порошковым мето- Молибден с меньшим размером зерна име-
дом. Данный метод характеризуется наиболь- ет более высокий предел текучести, который

132 ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2


С.В. ЛИТОВЧЕНКО, В.М. БЕРЕСНЕВ, А.А. ДРОБЫШЕВСКАЯ, П.В. ТУРБИН

быстро уменьшается с ростом температуры. 14. Курганский С.И., Левицкая Е.В., Переславце-
Такое снижение предела текучести в пере- ва Н.С. Спектральные характеристики диси-
ходной зоне типично для молибдена и других лицида молибдена//Вестник Воронежского
металлов, которые претерпевают переход от гос. университета. Серия физика, математи-
хрупкого к вязкому состоянию, и является ка, 2002. – № 1. – С. 43-46.
15. Нечипоренко Е.П., Петриченко А.П., Павлен-
основной причиной изменения пластич-
ко Ю.Б., Литовченко С.В. Силицидные покры-
ности.
тия на молибдене//Изв. АН СССР. Неорган.
матер. – 1988. – № 10. – С.1739-1741.
ЛИТЕРАТУРА 16. Hцnigschmid О. Silicides of Molybdenum, Tung-
1. High Temperature Structural Silicides//Proc. of sten, and Tantalum // Monatsh. Chem. – 1907. –
the First Hihg Temperature Structural Silicides No. 28. – Р. 1017-1028.
Workshop, USA, 1991 - Elsevier Sci. Publ., Am- 17. Maxwell W.A. Study of molybdenum disilicide
sterdam, 1992. – 278 p. for elevated temperature application//Proc. Met-
2. Нечипоренко Е.П., Петриченко А.П., Павлен- allurgy and Materials Information Meet., Oak
ко Ю.Б. Защита металлов от коррозии. – Ха- Ridge, TN, April 16-18, 1951, Rep. TID-5061.
рьков: Вища школа, 1985. – 112 с. 18. Kanthal, Swed. Patent 155, 836, 1953.
3. Бялобжеский А., Красилов Б., Цирлин М. Вы- 19. Schlichting J. Molybdenum disilicide as a com-
сокотемпературная коррозия и защита сверх- ponent of modern high temperature composites
тугоплавких металлов. – М.: Атомиздат, 1977. //High Temp. High Press. – 1978. – No. 10.–
– С. 158-160. P. 241.
4. Самсонов Г.В., Дворина Л.А., Рудь Б.М. Сили- 20. Самсонов Г.В., Эпик А.П. Тугоплавкие покры-
циды. – М.: Металлургия, 1979. – 271 с. тия. – М.: Металлургия, 1973. – 400 с.
5. Gokhale А.В. and Abbaschian. G.J. The Mo-Si 21. Змий В.И., Руденький С.Г. Реакционноакти-
(Molybdenum-Silicon) System//J. Phase Equilib- вированная диффузия и вакуумные покрытия
ria, 1991. – Vol. 12, No. 4. – P. 493-498. – Харьков: ННЦ ХФТИ, 2010. – 158 с.
6. Свечников В., Кочержинский Ю., Юпко Л. 22. Дубинин Г.Н. Диффузионное хромирование
Диаграмма состояния системы молибден- сплавов.– М.: Машиностроение, 1964.– 340 с.
кремний//Диаграммы состояния металличес- 23. Дубинин Г.Н. Классификация методов диф-
ких систем. – М.: Наука, 1971. – С. 116-119. фузионного насыщения поверхности сплавов
7. Chart T.G. Special Points of the Mo-Si System металлами//Диффузионные покрытия на ме-
//Met. Sci., 1974. – Vol. 8. – P. 344-348. таллах. – Киев: Наук. думка, 1965. – С. 3-12.
8. Massalski T.B. Binary alloy phase diagram. – 24. Химико-термическая обработка металлов и
Pittsburgh: ASM. – 1986. – Р. 2666. сплавов. Справ./под ред. Л.С. Ляховича. – М.:
9. Нечипоренко Е., Полтавцев Н., Капустин В., Металлургия, 1981. – 420 с.
Кондратов Ю.Т. Область гомогенности MoSi2 25. Максимович Г., Шатинский В., Капылов В.
//Изв. АН СССР. Неорг. матер. – 1973.– Т. 9. Физико-химические процессы при плазмен-
– С. 1829-1830. ном напылении и разрушении материалов с
10. Pankhurst D.A., Yuan Z., Nguyen-Manh D., покрытиями. – К.: Наук. думка, 1983.– 248 с.
Abel M.-L. et. al. Electronic structure and bon- 26. Хашковский С., Борисенко А., Николаева Л.
ding in Mo3Si, Mo5Si3, and Mo(Si, Al)2 alloys in- и др. О взаимодействии в системе металл-
vestigated by X-ray photoelectron spectroscopy покрытие при наплавлении//Высокотемпера-
and density-functional theory//Phys. Rev. В, турная защита материалов.–1981.–С. 191-195.
2005. – Vol. 71. – P. 075114/1-6. 27. Oxx G., Coffin L. Liquid-phase coating for Mo//
11. Chu F., Thoma D.J., McClellan K., Peralta P., J. Тrans Metallurg. Soc. AIME. – 1960. –
He Y. Synthesis and properties of Mo5Si3 single Vol. 218, No. 3. – Р. 541.
crystals//Intermetallics. – 1999. – Vol. 7. – 28. Костиков В.И., Левина Н.П., Левин В.Я. Взаи-
P. 611-620. модействие жидкого кремния с тугоплавкими
12. Свечников B., Кочержинский Ю., Юпко Л. металлами//Изв. АН СССР. Неорганические
Свойства силицидов переходных металлов// материалы. – 1969. – Т. 1. – С. 152.
ДАН УССР, сер. А. – 1970, № 6. – С. 553. 29. Арзамасов Б.Н. Термодинамический анализ
13. Jiang D.E., Carter E.A.. Prediction of strong ad- циркуляционного метода получения покры-
hesion at the MoSi2/Fe interface//Acta Materialia, тий/В кн.: Защитные покрытия на металлах.
2005. – Vol. 53. – P. 4489-4496. – К.: Наукова думка, 1968. – С. 68-72.

ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2 133


СИЛИЦИДНЫЕ ПОКРЫТИЯ НА МОЛИБДЕНЕ: ПОЛУЧЕНИЕ, СТРУКТУРА, СВОЙСТВА

30. Прокошкин Д., Арзамасов Б., Рябченко Е. 41. Литовченко С.В., Нечипоренко Е.П., Чишка-
Силицирование металлов в тлеющем разряде ла В.А., Шеремет В.И., Широков Б.М. Уско-
//Диффузионные покрытия на металлах. – ренное формирование силицидных слоев на
1965. – С. 38. молибдене//ВАНТ. Серия: Физика радиацион-
31. Иванов В.Е., Нечипоренко Е.П., Осипов А.Д., ных повреждений и радиационное материало-
Матюшенко Н.Н. О вакуумном силицирова- ведение (80). – 2001. – № 4. – С. 108-110.
нии молибдена с регулируемой скоростью 42. Литовченко С.В., Чишкала В.О., Івко Т.В., Гра-
доставки кремния//Жаростойкие покрытия. – нкін С.С. Вплив термодифузії на формування
1965. – С.83-86. силіцидів молібдену//Вестник нац. технич. ун-
32. Баландин Ю.А., Колпаков А.С. Диффузионное та “ХПИ”.– 2007, № 31. – С. 19-25.
силицирование в псевдоожиженном слое// Ме- 43. Змий В.И. Некоторые вопросы реакционной
талловедение и термическая обработка ме- диффузии в бинарных многофазных системах
таллов. – 2006, № 3. – С. 31-35. //Металлофизика и новейшие технологии. –
33. Заваров А.С., Баскаков А.П., Грачев С.В. 1996. – Т. 18, № 1. – С. 53-61.
Химико-термическая обработка в кипящем 44. Литовченко С.В., Чишкала В.О., Маслова Т.С.,
слое. – М.: Машиностроение, 1985. – 160 с. Зубова С.Ю. Структура многослойного сили-
34. Нечипоренко Е.П., Петриченко А.П., Павлен- цидного покрытия и его стабильность//Вест-
ко Ю.Б., Литовченко С.В., Чишкала В.А. Жа- ник Нац. техн. универ. “ХПИ”. – 2002. –
ростойкие покрытия на молибдене на основе № 17. – С. 127-130.
низших силицидных фаз//Жаростойкие не- 45. Способ силицирования молибденовых изде-
органические покрытия: Тр. 13-го Всес. лий. – А.с. СССР № 1256437. МКИ С23 С10/
совещ. по жарост. покр. – 1990. – С. 183-186. 52/Е.П. Нечипоренко, А.П. Петриченко, Ю.Б.
35. Литовченко С.В., Чишкала В.А., Маслова Т.С., Павленко, В.А. Чишкала, С.В. Литовченко. –
Кириченко В.Г., Грудницкий В.В., Шере- № 3750554/22-02. Заявл. 05.06.1984.
мет В.И. Повышение стабильности многофаз- 46. Беккерев И.В. Металлы и сплавы – марки и
ных силицидных покрытий на молибдене// химический состав//Ульяновск: УлГТУ, 2007.
Вестник национального технич. университета – С. 218.
“ХПИ”. – 2005, № 52. – С. 94-98. 47.http://www.infogeo.ru/metalls/news/;http://
36. Сосновский Л.А., Эпик А.Н., Деркач В.Д. При- www.mineral.ru
менение активаторов в процессах диффузи- 48. ТУ 48-19-203-85. Прутки из молибдена ме-
онного контактного насыщения металлов в таллокерамического и вакуумной плавки, не-
порошках//Защитные высокотемпературные отожженые. Технические условия.
покрытия. – 1972. – С.22-33. 49. ТУ 11-77 (Яе0.021.057 ТУ). Прутки молиб-
37. Нечипоренко Е.П., Петриченко А.П., Павлен- деновые.
ко Ю.Б. и др. Исследование активированного 50. Колачев Б.А., Ливанов В.А., Елагин В.И. Ме-
силицирования молибдена с применением талловедение и термическая обработка цвет-
метода масс-спектрометрии//Высокотемпе- ных металлов и сплавов. – М.: Металлургия,
ратурные физико-химические процессы на 1988. – 294 с.
границе раздела твердое тело-газ. – 1984 –
51. Литовченко С.В., Береснев В.М., Малыхи-
С. 111-113.
на Т.В., Гравнова Л.В. Исследование рекрис-
38. Змий В.И., Руденький С.Г.. Особенности ва-
таллизации промышленных марок молибдена
куумного активированного диффузионного
//Физическая инженерия поверхности. – 2011.
насыщения металлов: термодинамика, меха-
– Т. 9, № 2. – С. 142-149.
низм и кинетика//Металлофизика и новейшие
52. Молибден/Под ред. А.К. Натансона. – М.:
технологии, 1998. – Т. 20, № 10. – С. 69-75.
Иностр. лит., 1959. – 304 с.
39. Литовченко С.В.. Исследование структуры
53. Нечипоренко Е.П., Литовченко С.В., Чишка-
силицидных покрытий на молибдене//Вісник
ла В.А., Маслова Т.С. Влияние меди на высо-
Харківського університету. Сер. фізична “Яд-
котемпературную стабильность силицидных
ра, частинки, поля”. – 1998. – № 421. –
С. 222-224. покрытий на молибдене//Эволюция дефект-
40. Beidler E., Powell C.F., Campbell J.E. Forma- ных структур в конденсированных средах: Те-
tion of Mo-disilicide coatings//J. Electrochem. зисы докл. – 1996. – С. 45.
Soc.. – 1951. – Vol. 98, No. 2. – P. 511. 54. Способ получения силицидных покрытий на
молибдене и его сплавах. – А.с. СССР №
1231904. МКИ С 23 С 12/02/Е.П. Нечипорен-

134 ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2


С.В. ЛИТОВЧЕНКО, В.М. БЕРЕСНЕВ, А.А. ДРОБЫШЕВСКАЯ, П.В. ТУРБИН

ко, А.П.Петриченко, Ю.Б. Павленко, В.А. Чи- 65. Бурыкина А.Л., Дзядыкевич Ю.В., Эпик А.П.,
шкала, С.В. Литовченко. – № 370516/22-02. Сосновский Л.А. Применение боридных по-
Заявл. 21.04.1984. крытий в качестве диффузионных барьеров
55. Способ силицирования изделий из молибде- для тугоплавких металлов//Неорганические
на. – А.с. СССР № 1251565. МКИ С23 С10/ и органосиликатные покрытия. – 1975. –
52/Е.П. Нечипоренко, А.П. Петриченко, Пав- С.195-203.
ленко Ю.Б., Новицкий А.П., Чишкала В.А.,
С.В. Литовченко. – № 3744882/22-02, 3742675/ LITERATURA
22-02. Заявл. 18.05.1984. 1. High Temperature Structural Silicides//Proc. of
56. Павленко Ю.Б., Литовченко С.В., Чишка- the First Hihg Temperature Structural Silicides
ла В.А., Маслова Т.С. Исследование процесса Workshop, USA, 1991 - Elsevier Sci. Publ., Am-
силицирования молибдена в смесях на основе sterdam, 1992. – 278 p.
химических соединений//Деп. в ОНИИТЭ- 2. Nechiporenko E., Petrichenko A., Pavlenko Yu.
ХИМ, № 466-CII90, 21.06.90. Опубл. в “Деп. Zaschita metallov ot korrozii. – Kharkov.: Vischa
рук.”, 1990, № 11, б/о 314. shkola, 1985. – 112 s.
57. Способ силицирования изделий из молибдена. 3. Byalobzheskij A.V., Krasilov B.I., Cirlin M.S.
– А.с. СССР № 1440078. МКИ С 23 С 10/44. Vysokotemperaturnaya korroziya i zaschita
Е.П. Нечипоренко, Ю.Б. Павленко, А.П. Пе- sverhtugoplavkih metallov. – M.: Atomizdat, 1977.
триченко, В.А. Чишкала, С.В. Литовченко. – – S. 158-160.
№ 4217077/31-02. Заявл. 25.03.1987. 4. Samsonov G.V., Dvorina L.A., Rud B.M. Silicidy.
58. Нечипоренко Е.П., Павленко Ю.Б., Чишка- – M.: Metallurgiya, 1979. – 271 s.
ла В.А., Литовченко С.В.. Формирование эв- 5. Gokhale A.V. and Abbaschian. G.J. The Mo-Si
тектических силицидных покрытий на молиб- (Molybdenum-Silicon) System//J. Phase Equilib-
дене//Порошковая металлургия. – 1993. – ria. – 1991. – Vol.12, No. 4. – P. 493-498.
№ 9-10. – С. 43-46. 6. Svechnikov V., Kocherzhinskij Yu., Yupko L. Di-
59. Бялобжеский А.В., Цирлин М.С. Принципы agramma sostoyaniya sistemy molibden-kremnij
защиты тугоплавких металлов от высокотем- //Diagrammy sostoyaniya metallicheskih sistem.
пературного окисления//Защитные покрытия. – 1971. – S. 116-119.
– 1979. – С. 3-8. 7. Chart T.G. Special Points of the Mo-Si System//
60. Литовченко С.В., Маслова Т.С., Матвиен- Met. Sci. – 1974. – Vol. 8. – P. 344-348.
ко Д.С. и др. Высокотемпературная стабиль- 8. Massalski T.B. Binary alloy phase diagram. –
ность силицидных покрытий на молибдене и Pittsburgh: ASM, 1986. – P. 2666.
других тугоплавких металлах//Вiсник Харкiв- 9. Nechiporenko E., Poltavcev N., Kapustin V.,
ського національного унiверситету, серiя фi- Kondratov Yu.T. Oblast’ gomogennosti MoSi2//
зична “Ядра, частинки, поля”. – 2001.– № 529, Izv. AN SSSR. Neorg. mater. – 1973. – T. 9. –
Вип. 3/15. – С. 64-66. S. 1829-1830.
61. Шатинский В.Ф., Нестеренко А.И. Защитные 10. Pankhurst D.A., Yuan Z., Nguyen-Manh D.,
диффузионные покрытия. – К.: Наукова Abel M.-L. et. al. Electronic structure and bond-
думка, 1988. – 277 с. ing in Mo3Si, Mo5Si3, and Mo(Si, Al)2 alloys in-
62. Литовченко С.В., Нечипоренко Е.П., Чишка- vestigated by X-ray photoelectron spectroscopy
ла В.А. и др. Исследование особенностей фа-
and density-functional theory//Phys. Rev. V. –
зообразования в системе кремний-молибден
2005. – Vol. 71. – P. 075114/1-6.
//ВАНТ. Сер. “Вакуум, чистые металлы,
11. Chu F., Thoma D.J., McClellan K., Peralta P.,
сверхпроводники”. – Вып. № 6 (7), 7 (8). –
He Y. Synthesis and properties of Mo5Si3 single
1998. – С. 239-241.
crystals//Intermetallics. – 1999. – Vol. 7. –
63. Нечипоренко Е.П., Павленко Ю.Б., Литовчен-
P. 611-620.
ко С.В., Чишкала В.А.. Формирование эвтек-
12. Svechnikov B.H., Kocherzhinskij Yu.A., Yup-
тических силицидных покрытий на молибдене
ko L.M. Svojstva silicidov perehodnyh metallov
//Порошковая металлургия.– 1993. – № 9-10.
//DAN USSR, ser. A. – 1970. – № 6. – S. 553.
– С. 43-46.
13. Jiang D.E., Carter E.A.. Prediction of strong ad-
64. Дзядикевич Ю. Шляхи підвищення жаростій-
кості виробів із тугоплавких металів від висо- hesion at the MoSi2/Fe interface//Acta Materialia.
котемпературного окислення//Українська – 2005. – Vol. 53. – P. 4489-4496.
наука: минуле сучасне, майбутнє: Збірник 14. Kurganskij S., Levickaya E., Pereslavceva N.
наукових праць. – 2008, Вип. 13. – С. 20-28. Spektralnye harakteristiki disilicida molibdena//

ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2 135


СИЛИЦИДНЫЕ ПОКРЫТИЯ НА МОЛИБДЕНЕ: ПОЛУЧЕНИЕ, СТРУКТУРА, СВОЙСТВА

Vestnik Voronezhskogo gos. universiteta. Seriya 31. Ivanov V.E., Nechiporenko E.P., Osipov A.D.,
fizika, matematika. – 2002. – № 1. – S. 43-46. Matyushenko N.N. O vakuumnom silicirovanii
15. Nechiporenko E.P., Petrichenko A.P., Pavlen- molibdena s reguliruemoj skorostyu dostavki
ko Yu.B., Litovchenko S.V. Silicidnye pokrytiya kremniya//Zharostojkie pokrytiya. – 1965. –
na molibdene//Izv. AN SSSR. Neorgan. mater. S. 83-86.
– 1988. – № 10. – S.1739-1741. 32. Balandin Yu.A., Kolpakov A.S. Diffuzionnoe sili-
16. Hцnigschmid O. Silicides of Molybdenum, Tung- cirovanie v psevdoozhizhennom sloe//Metallove-
sten, and Tantalum//Monatsh. Chem. – 1907. – denie i termicheskaya obrabotka metallov. –
No. 28. – P. 1017-1028. 2006, № 3. – S. 31-35.
17. Maxwell W.A. Study of molybdenum disilicide 33. Zavarov A.S., Baskakov A.P., Grachev S.V.. Hi-
for elevated temperature application//Proc. Met- miko-termicheskaya obrabotka v kipyaschem
allurgy and Materials Information Meet., Oak sloe. – M.: Mashinostroenie, 1985. – 160 s.
Ridge, TN. – 1951. – Rep. TID-5061. 34. Nechiporenko E.P., Petrichenko A.P., Pavlen-
18. Kanthal, Swed. – Patent 155, 836, 1953. ko Yu.B., Litovchenko S.V., Chishkala V.A. Zha-
19. Schlichting J. Molybdenum disilicide as a com- rostojkie pokrytiya na molibdene na osnove niz-
ponent of modern high temperature composites shih silicidnyh faz//Zharostojkie neorganicheskie
//High Temp. High Press. –1978. – No. 10.– pokrytiya: Tr. 13-go Vses. sovesch. po zharost.
P. 241. pokr. – 1990. – S. 183-186.
20. Samsonov G.V., Epik A.P. Tugoplavkie pokrytiya. 35. Litovchenko S.V., Chishkala V.A., Maslova T.S.,
– M.: Metallurgiya, 1973. – 400 s. Kirichenko V.G., Grudnickij V.V., Sheremet V.I..
21. Zmij V.I., Rudenkij S.G. Reakcionnoaktiviro- Povyshenie stabilnosti mnogofaznyh silicidnyh
vannaya diffuziya i vakuumnye pokrytiya. – Har- pokrytij na molibdene//Vestnik nacionalnogo
kov: NNC HFTI, 2010. – 158 s. tehnich. universiteta “HPI”. – 2005. – № 52. –
22. Dubinin G.N. Diffuzionnoe hromirovanie splavov. S. 94-98.
– M.: Mashinostroenie, 1964. – 340 s. 36. Sosnovskij L.A., Epik A.N., Derkach V.D. Pri-
23. Dubinin G.N. Klassifikaciya metodov diffuzion- menenie aktivatorov v processah diffuzionnogo
nogo nasyscheniya poverhnosti splavov metal- kontaktnogo nasyscheniya metallov v poroshkah
lami//Diffuzionnye pokrytiya na metallah. – 1965. //Zaschitnye vysokotemperaturnye pokrytiya. –
– S. 3-12. 1972. – S.22-33.
24. Himiko-termicheskaya obrabotka metallov i 37. Nechiporenko E.P., Petrichenko A.P., Pavlen-
splavov. Sprav./Pod red. L.S. Lyahovicha. – M.: ko Yu.B. i dr. Issledovanie aktivirovannogo sili-
Metallurgiya, 1981. – 420 s. cirovaniya molibdena s primeneniem metoda
25. Maksimovich G.G., Shatinskij V.F., Kapylov V.I. mass-spektrometrii//Vysokotemperaturnye fiziko-
Fiziko-himicheskie processy pri plazmennom himicheskie processy na granice razdela tverdoe
napylenii i razrushenii materialov s pokrytiyami. telo-gaz. – 1984 – S. 111-113.
– K.: Nauk. dumka, 1983. – 248 s. 38. Zmij V.I., Ruden’kij S.G.. Osobennosti vakuum-
26. Hashkovskij S.V., Borisenko A.I., Nikolaeva L.V. nogo aktivirovannogo diffuzionnogo nasyscheniya
i dr. O vzaimodejstvii v sisteme metall-pokrytie metallov: termodinamika, mehanizm i kinetika //
pri naplavlenii//Vysokotemperaturnaya zaschita Metallofizika i novejshie tehnologii. – 1998. –
materialov. – 1981. – S. 191-195. T. 20, № 10. – S. 69-75.
27. Oxx G., Coffin L. Liquid-phase coating for Mo// 39. Litovchenko S.V.. Issledovanie struktury silicid-
J. Trans Metallurg. Soc. AIME. – 1960. – nyh pokrytij na molibdene//Vіsnik Harkіvskogo
Vol. 218, No. 3. – P. 541. unіversitetu. Ser. fіzichna “Yadra, chastinki, po-
28. Kostikov V.I., Levina N.P., Levin V.Ya. Vzaimo- lya”. – 1998, № 421. – S. 222-224.
dejstvie zhidkogo kremniya s tugoplavkimi me- 40. Beidler E., Powell C.F., Campbell J.E. Forma-
tallami//Izv. AN SSSR. Neorganicheskie mate- tion of Mo-disilicide coatings//J. Electrochem.
rialy. – 1969. – T. 1. – S. 152. Soc. – 1951. – Vol. 98, No. 2. – P. 511.
29. Arzamasov B.N. Termodinamicheskij analiz 41. Litovchenko S.V., Nechiporenko E.P., Chishka-
cirkulyacionnogo metoda polucheniya pokrytij. V la V.A., Sheremet V.I., Shirokov B.M.. Uskoren-
kn.: Zaschitnye pokrytiya na metallah. – K.: noe formirovanie silicidnyh sloev na molibdene//
Naukova dumka, 1968. – S. 68-72. VANT. Ser. Fizika radiacionnyh povrezhdenij i
30. Prokoshkin D.A., Arzamasov B.N., Ryabchen- radiacionnoe materialovedenie (80). – 2001. –
ko E.V. Silicirovanie metallov v tleyuschem raz- № 4. – S. 108-110.
ryade//Diffuzionnye pokrytiya na metallah. – K.: 42. Litovchenko S.V., Chishkala V.O., Іvko T.V.,
Nauk. Dumka, 1965. – S. 38. Grankіn S.S.. Vpliv termodifuzії na formuvannya

136 ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2


С.В. ЛИТОВЧЕНКО, В.М. БЕРЕСНЕВ, А.А. ДРОБЫШЕВСКАЯ, П.В. ТУРБИН

silіcidіv molіbdenu//Vestnik nac. tehnich. un-ta 56. Pavlenko Yu., Litovchenko S., Chishkala V., Ma-
“HPI”. – 2007. – № 31. – S. 19-25. slova T. Issledovanie processa silicirovaniya mo-
43. Zmij V.I. Nekotorye voprosy reakcionnoj diffuzii libdena v smesyah na osnove himicheskih soe-
v binarnyh mnogofaznyh sistemah//Metallofizika dinenij//Dep. v ONIIT‘EHIM, № 466-CII90,
i nov. tehnol. – 1996. – T. 18, № 1. – S. 53-61. 21.06.90. Opubl. v “Dep. ruk.”, 1990, № 11, b/o
44. Litovchenko S.V., Chishkala V.O., Maslova T.S., 314.
Zubova S.Yu. Struktura mnogoslojnogo silicid- 57. Sposob silicirovaniya izdelij iz molibdena.–A.s.
nogo pokrytiya i ego stabilnost//Vestnik Nac. tehn. SSSR № 1440078. MKI S 23 S 10/44/E.P. Ne-
univer. “HPI”. – 2002, № 17. – S. 127-130. chiporenko, Yu.B. Pavlenko, A.P. Petrichenko,
45. Sposob silicirovaniya molibdenovyh izdelij. – A.s. V.A. Chishkala, S.V. Litovchenko. – № 4217077/
SSSR № 1256437. MKI S23 S 10/52/ E.P. Ne- 31-02. Zayavl. 25.03.1987.
chiporenko, A.P. Petrichenko, Yu.B. Pavlenko, 58. Nechiporenko E., Pavlenko Yu., Chishkala V.,
V.A. Chishkala, S.V. Litovchenko. – № 3750554/ Litovchenko S.V. Formirovanie evtekticheskih
22-02. Zayavl. 05.06.1984. silicidnyh pokrytij na molibdene//Poroshkovaya
46. Bekkerev I.V. Metally i splavy – marki i himiches- metallurgiya. – 1993. – № 9-10. – S. 43-46.
kij sostav//Ulyanovsk: UlGTU. – 2007. – S. 218. 59. Byalobzheskij A.V., Cirlin M.S. Principy zaschity
47.http://www.infogeo.ru/metalls/news/; http:// tugoplavkih metallov ot vysokotemperaturnogo
www.mineral.ru okisleniya//Zaschitnye pokrytiya. – 1979. –
48. TU 48-19-203-85. Prutki iz molibdena metallo- S. 3-8.
keramicheskogo i vakuumnoj plavki, neotozhzhe- 60. Litovchenko S.V., Maslova T.S., Matvienko D.S.
nye. Tehnicheskie usloviya. i dr. Vysokotemperaturnaya stabil’nost’ silicidnyh
49. TU 11-77 (Yae0.021.057 TU). Prutki molibdeno- pokrytij na molibdene i drugih tugoplavkih metallah
vye. //Visnik Harkivskogo nacіonalnogo universitetu.
50. Kolachev B.A., Livanov V.A., Elagin V.I. Me- seriya fizichna “Yadra, chastinki, polya”. – 2001.
tallovedenie i termicheskaya obrabotka cvetnyh – № 529. – Vip. 3/15. – S. 64-66.
metallov i splavov. – M.: Metallurgiya, 1988. – 61. Shatinskij V.F., Nesterenko A.I. Zaschitnye dif-
294 s. fuzionnye pokrytiya. – K.: Naukova dumka, 1988.
51. Litovchenko S.V., Beresnev V.M., Malyhina T.V., – 277 s.
Gravnova L.V. Issledovanie rekristallizacii pro- 62. Litovchenko S.V., Nechiporenko E.P., Chishka-
myshlennyh marok molibdena//Fizicheskaya la V.A. i dr. Issledovanie osobennostej fazoobra-
inzheneriya poverhnosti, 2011. – T. 9, № 2. – zovaniya v sisteme kremnij-molibden//VANT.
S. 142-149. Ser. “Vakuum, chistye metally, sverhprovodniki”.
52. Molibden / Pod red. A. K. Natansona // M.: Inostr. – 1998.– Vyp. № 6 (7), 7 (8). – S. 239-241.
lit., 1959. – 304 s. 63. Nechiporenko E.P., Pavlenko Yu.B., Litovchen-
53. Nechiporenko E.P., Litovchenko S.V., Chishka- ko S.V., Chishkala V.A. Formirovanie evtekti-
la V.A., Maslova T.S. Vliyanie medi na vysoko- cheskih silicidnyh pokrytij na molibdene//Poro-
temperaturnuyu stabilnost silicidnyh pokrytij na shkovaya metallurgiya. – 1993. – № 9-10. –
molibdene//Evolyuciya defektnyh struktur v S. 43-46.
kondensirovannyh sredah: Tezisy dokl. – 1996. 64. Dzyadikevich Yu. Shlyahi pіdvischennya zha-
– S. 45. rostіjkostі virobіv іz tugoplavkih metalіv vіd vi-
54. Sposob polucheniya silicidnyh pokrytij na mo- sokotemperaturnogo okislennya//Ukraїnska nau-
libdene i ego splavah.–A.s. SSSR № 1231904. ka: minule suchasne, majbutnє: Zbіrnik naukovih
MKI S 23 S 12/02/E.P. Nechiporenko, A.P. Pet- prac. – 2008. – Vip. 13. – S. 20-28.
richenko, Yu.B. Pavlenko, V.A. Chishkala, 65. Burykina A.L., Dzyadykevich Yu.V., ‘Epik A.P.,
S.V. Litovchenko. – № 370516/22-02. Zayavl. Sosnovskij L.A. Primenenie boridnyh pokrytij v
21.04.1984. kachestve diffuzionnyh barerov dlya tugoplavkih
55. Sposob silicirovaniya izdelij iz molibdena.–A.s. metallov//Neorganicheskie i organosilikatnye
SSSR № 1251565. MKI S 23 S 10/52/E.P. Ne- pokrytiya. – 1975. – S.195-203.
chiporenko, A.P. Petrichenko, Yu.B. Pavlenko,
A.P. Novickij, V.A. Chishkala, S.V. Litovchenko.
– № 3744882/22-02, 3742675/22-02. Zayavl.
18.05.1984.

ФІП ФИП PSE, 2012, т. 10, № 2, vol. 10, No. 2 137

Вам также может понравиться